Фототравление поверхности меди с использованием галогенсодержащих полимерных композиций
Диссертация
Впервые в комплексе рассмотрено влияние на процесс твердофазного фототравления наличия в составе фоточувствительных пленок на основе поливинилхлорида различных фотосенсибилизирующих соединений. Установлено, что наиболее эффективными сенсибилизаторами являются 1,3,6,8-тетрахлор-9-октилкарбазол (ТХОК), КГ-аллилфенотиазин и Ы-аллилфеноксазин. Рассмотрено влияние на процесс фототравления остаточных… Читать ещё >
Содержание
- Введение 5 1. Основные закономерности процесса фототравления полимерными фоточувствительными композициями обзор литературы)
- 1. 1. Влияние различных факторов на протекание процесса фототравления
- 1. 2. Механизм фотолитического травления
- 1. 3. Влияние ионов металлов и оксидов металлов на фотоокисление полимеров
- 1. 4. Закономерности протекания фотодеструкции полимерных композиций для фототравления
- 1. 5. Постановка задачи исследования
- 2. Экспериментальная часть
- 2. 1. Подготовка исходных реактивов
- 2. 1. 1. Очистка поливинилхлорида
- 2. 1. 2. Очистка растворителей
- 2. 2. Изготовление фотошаблонов
- 2. 3. Подготовка поверхности образцов к фототравлению
- 2. 4. Подготовка составов для фототравления и нанесение их на поверхность образцов
- 2. 5. Фототравление образцов
- 2. 6. Удаление фотоактивной пленки и продуктов фототравления с поверхности дифракционной решетки
- 2. 7. Определение состава продуктов фототравления меди
- 2. 8. Методика измерения толщины фотоактивного слоя, наносимого на образец, и контроля качества поверхности меди
- 2. 1. Подготовка исходных реактивов
- 3. Основные закономерности процесса фототравления поверхности меди
- 3. 1. Выбор и исследование составов для удаления продуктов фототравления меди
- 3. 2. Влияние различных факторов на процесс фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными покрытиями
- 4. Расчет фазовых отражательных дифракционных решеток
- 5. Исследование кинетических закономерностей процесса фототравления поверхности меди
- 5. 1. Анализ сравнительной устойчивости радикалов, образующихся под действием УФ-облучения
- 5. 2. Исследование кинетики образования продуктов реакции фототравления поверхности меди
- Выводы
Список литературы
- Pat. N 3 346 384/ Metal image formation// J. Gaynor.- USA, 1967.
- Pat. N 2 411 866/Verfahren zur Hersntlung von Metallbildern und Mittel zu Viner Durchfuhrung//Nagata Masayoshi, e.a.-BRD, 1975.
- Pat. N 3 516 346/ Photolytic etching of metals alloy// D.L. Shaefer, J.F. Burgess.-US A, 1970.
- Pat. N 3 551 227. Formation of tafered erges on magnetic films of photolytic etching// G.F. Burgess.- USA, 1979.
- Pat. N 3 489 563. Photolytic etching of Nickel-cromium alloy// D.L. Shaefer. USA, 1970.
- Pat. N 2 416 729. Verfahren zum Atzen von Strukturen Substratoberflachen// A. Gunther, L. Wolff.- BRD, 1975.
- Pat. N 3 483 108. Method of chemically etching a non-conductive material using an electrolytically controlled mask//D.L. Schaefer.- USA, 1969.
- Pat. N 3 520 686. Interact photolytic etching of silicin dioxide// R.F. Kopszevsky, D.L. Schaefer.- USA, 1970
- Pat. N 348 560. Method of etching a metal layer// J.F. Burgess, e.a.-USA, 1969.
- Castillo F., Martines G. Influense of structure on PVC//Polum Degrad. and Stab.-V.27.- N 1 1990.-P. 1−11.
- Pat. 4 719 163. Multi-active photoconductive elements// StaudenmayerW.J., Regan M.T.- USA, 1988.
- Pat. N 3 494 768. Condensed vapor phase photoetching of surfaces//D.L. Schaefer.- USA, 1970.
- Валиев К.А. и др. Нестационарная теория травления полимерных пленок в диффузионном режиме//Микроэлектроника-Т. 16.-N2.- 1987.- С. 131−139.
- Weiher J. L. Influence of structure defects of metallic films// J. Cryst. Growth.V. 88.-N 2.- 1988.- P. 221−228.
- Валиев К. А. Фототравление полимеров в присутствии воздуха светом// Химия высок. энергий.-Т.22.- N 4.- 1988.- С. 352−358.
- Lasar J., Sulvain В. Controll roughening of polyethylene// Rev.phys. appl.- V. 23.-N6.- 1988.-P. 1065−1070.
- Pat. N 350 690. Photolytic etching of aluminium oxide// J.F. Burgess.- USA, 1969.
- Соколова Ю.Д., Ларичева Т. Е. Химичекое травление пленок оксида кремния, облученных ускоренными ионами ксенона.// Структур. Осн. Модиф. Матер. Методами нетрадиц. Технол./ Межгос. Семин.- Обнинск.- 1719 июня 1997.- Обнинск, 1997.
- Ульцова А.В. Фотохимические процессы в тонких слоях.-Л.: Химия, 1978.- 232 с.
- Рэнби Б, Рабек Я. Фотодеструкция, фотоокисление, фотосенсибилизация полимеров.: М.- Мир, 1978.- 676 с.
- Такаубо Масааки. Способ фотосенсибилизированного изготовления полимерных пленок// Кокай Токке кохо.- Сер 3(3).- N 22.- 1989.- С. 189−192.
- Huang W.U. Reactant preordering in polymer matrices//Macromoleculs.-1991.- V. 24.- N 16.-P. 4600−4604.
- Торикаи Д. Механизм фотодсструкиии полимеров//Кобунси Како.- Т.40.-N3.- 1991 CM 14−119.•24. Маслюк А. Ф. и др. Фотосенсибилизированная полимеризация метилметакрилата//Высокомолскул. соед. А-Б.- 'Г. 40.- N 12.-С. 1937−1943.
- Pat. N 3 482 976. Photolytic etching of gold// D.L. Schaefer, J.F. Burgess.- USA, 1970.
- Pat. N 3 284 975. Photoetching of gold// D.L. Schaefer.- USA, 1970.
- Пат. N 59−13 585. Многослойный галогенсодержащий светочувствительный материал// Яги Т., Исикава М.-65 441.- БД ВИНИТИ «Химия» (св. том).- РЖ Хим, 1997.-N 811 241 П.
- Валинзон П.З., Гафт С. И. Исследование оптической сенсибилизации композиций иа основе органических галогенидов// Физ. процессы в светочувств. системах.-Вссс. коиф. 10−14 окт. 1986.- Тез. докл.-Кемерово.-1986.
- Pat. N 242 877. Verfahren zur Erhohung der fotopolumer materialen//Baumann H., Timpe J.- Veb Filmarc Wolfen, 1987.
- Tao J, Wang J. Photosensibilization of two-dimensional polymers//Polym. Adv. Technol.- V.10.-N 4.- P. 244−250.
- Сушков Д.Г. Фотосенсибилизированное разложение перекисей в жестких матрицах// Всес. совещание по фотохимии.- Новосибирск.- 16−18 мая 1989.-Тез. докл.-1989.-С. 349.
- Urano Т, Nagao T. Photosensibilization mechanism in photopolymer coating film// Polym. Adv. Technol.- V.10.- N 6.- P. 348−356.
- Дорофеев В.И., Скурат B.E. Газообразные продукты фототравления и возможный механизм их образования//Химия высок, энергий, — Т.25.- N 5.-. 1991.- С. 448−453.
- Гришина А.Д. и др. Фотохимическое усиление эффектов фотовоздействия слоев на основе полигидроксиаминоэфиров//Химия высок энергий.- Т. 28.- N 4.- 1994.- С. 341−346.
- Вайнер А .Я., Досовицкая И. Е. Фотохимические превращения соли дифенилиодония в матрицах антраценсодержащих полимеров// Доклады РАН T.351.-N 5.-1996.- С. 637−640.
- Suzuki М, Могу Y. Photosensibilized charge separation by complex-containing polymers//J.Chem. Soc.- V.92.-N 19 1996.- P. 3599−3604.
- Pat N 4 917 977. Visible sensitizers for photopolymerizable compositions//Smothers W.-USA, 1990.
- Gardette J.L., Phillipart J.L. Perturbation of photochemistry of PVC//J.Photochem. and Photobiol.-V.43.- N 2.- 1988.- P.221−231.
- Журавлев В.А., Иванов В. Б. Механизм фотохимического дегидрохлорирования галогенсодержащих полимеров// Депонир. рукопись ВИНИТИ N 2233-D-88, 1988.
- Александров А.П., Китай М. С. Фотохмический механизм роста полиенов при фотодеструкции поливинилхлорида// Высокомолекул. соед.- А.- Т.2.- Nш2.-1990.- С.425−432.
- Маршарипов С. и др. Стабилизация поливинилхлорида некоторыми производными бензимидазола// Ж.прикл. химии.- Т.61.- N 1.- 1988.- С. 191 194.
- Журавлев М.А., Иванов В.Б.// Фотохимическое дегидрохлорирование поливинилхлорида.- Деп. рукопись ВИНИТИ.- 1988.
- Pat. N 4 962 141. Ethylene-vinyl chloride// Iacoviello J.G., DavidowichG.V.-USA, 1990.
- Delmata F.G. Synthetic and characterization of tungsten oxo alkylidene complexes//.!, of organometallic chem.- N 15.- 1996.-P. 183−189.
- Левин П.П., Кузьмин В. А. Исследование рекомбинации радикальных пар * в полимерных пленках// Изв. АН СССР.- Сер. химия.-N 8.- 1988.- С. 17 421 745.
- Tsuji К. Cationic polymerizationof photochemically and thermally induced byphenothiazine cation radical salts//
- Adv. polymer Sci. N 12.- 1973.- P. 131.
- Jellinec H.H.S. Pavlinec J./ Photochemistry of macromolecules//J. Polym. Sci. Chem. N 3.- 1970.- P. 237−250.48Jotner J. Picosecond flash-photolysis studies on phenothiazine in polymers// J. Polym. Sci. Chem.-N37.- 1988.- P.199.
- Spreitzer, H.- Scholz, M.- Gescheidt, G.- Daub, J. Electron-transfer chemistry and redox-switching of stilbene-likeheteroaromatic-compounds// Hoechst Aktiengessell.- Zf.- Ep G865A: D-65 926 Frankfurt.- Germany, 1998.
- Malcolm G., Francis J. //J. Amer. Chem. Soc.- V.83.- N11.- 1961.- P. 25 662 572
- Воскресенский B.A., Фридланд C.B. Ионы переходных металлов как катализаторы фотоокисления // Успехи химии и технологии полимеров.- Сб. З.-М.: 1960.
- Midsutani I. Catalytic influencing of ions of metals on process of photooxidation // J. Cemistry and Industry.- N 1.- 1988.- P. 124.
- Васильев Р.Ф., Карпухин O.H. Ионы цинка как антиоксиданты в реакциях с алкильными радикалами // Журн. физ. химии.- N 35.- 1987.- С. 61.
- Иванов В.Б., Кузнецова М. Н., Ангерт Л. Г. Исследование кинетических закономерностей фотоинициировфнных реакций // ДАН СССР.- вып.228,-1976.- С. 1144
- Калверт Дж., Питтс Дж. Фотохимия,— М.: Мир, 1968.- :78 с.
- Карпухин О.Н. Гидроперекиси как катализаторы фотолиза ВМС// Кинетика и катализ.- Т. 17.- 1976.- С. 589.
- Качан А.А., Червяцова Л.Л.Образование свободных радикалов в полимерных матрицах // В сб. Новые проблемы химии высокомолекулярных соединений.-Киев: Наукова думка.- 1975.- С. 129.
- Качан A.A., Шрубович Б. А. Фотохимическое модифицирование органических соединений.- Киев: Наукова думка.- 1973.
- Колдин Е.Е. Быстрые реакции в растворах.- М.: Мир.- 1966.
- Кричевский Г., Гомбкете Я. Светостойкость окрашенных текстильных волокон.- М.: Легкая индустрия.- 1975. Щ
- Маслова И.П., Золотарева К. А., Баранова A.C. Химические добавки к полимерам.- М: Химия.- 1973.
- Павлов H.H., Кротова А. И. Исследование продуктов фотолиза полимеров на основе полиметилметакрилата //Пласт, массы.- N 2.- 1976.- С. 56.
- Пудов B.C. Расчет характеристического квантового выхода полимеров//Пласт. массы, — N 2.- 1976.- С. 18.
- Радциг В.А. Исследование температурных зависимостей разложения полимеров// Высокомолек. соединения.- А.- N 18ю- 1976.- С. 1899.
- Разумовский С.Д., Зайков Г. Е. Реакции кислорода с органическими соединениями.- М.: Наука, 1976.
- Жужгов Э.Л., Бабинов H.H., Воеводский В. В. Зависимость квантового выхода разрыва связей от температуры стеклования// Кинетика и катализ.- N 6.-1985.-С 56.
- Хлоплякина М.С., Бучаченко А. Л. Нейман М.Б., Васильева А.Г.Исследование механизма дегидрохлорирования поливинилхлорида// Кин. и кат.- N 6.- 1965.-С. 394
- Шляпинтох В.Я. Механизмфотодеструкции поливинилхлорида// Пласт, массы.-N2.- 1989.-С 47.
- Шляпинтох В.Я., Иванов В.Б.Фотодеструкция полимеров // Пласт, массы.-N5.- 1975.-С 15.
- Шляпинтох В.Я., Иванов В. Б., Хвостач О. М., Шапиро А.Б.Термоокислительное дегидрохлорирование некоторых полимеров// ДАН СССР.- вып. 25.- 1985.- С. 1132.
- Энциклопедия полимеров.- М.: Советская энциклопедия, — 1972. 82. Эмануэль Н. М., Кнорре Д. Г. Курс химической кинетики, — М.: Высшая школа.- 1974.
- Allen N.C., McCellar G.P.// Chem. Soc. Revs.- N 4.- 1975.- P. 533.
- Carlsson D.G. Wiles D.M. //J.Polym. Sei.: Polym. Lett.- N 14.- 1985.- P.493. 85McNeil I.C.// J. Oil and colour Chem. Assoc.- N 59.- 1976.- P. 231.
- Baileg D., Vogl O.//J. Macromolecul. Sci.-N 14.-1976.- P. 155.
- Baum B. Deanin R.D.// Polymer plast tecnol eng.- N 2.- 1973.- P. 1.
- Rabek J.F., Ranby В.// Polym. Eng. and Sei. N 15.- 1975.- P. 40.
- Капустина A.C., Давыдова В.М.Расчет энергии сопряжения двойных связей в ПВХ// Журн. прикл. химии.- N 36.- 1990.- С. 187.
- Попова З. В. Яновский Д.М., Козлова А. И. Кинетические закономерности некоторых реакций дегидрохлорирования// Журн. прикл. химии.- N 35,1989.- С. 164.
- Попова З.В., Яновский Д. М. Фотораспад поливинилхлорида// Журн. прикл. химии.- N 28.- 1986.- С. 158.
- Pokholok K.V., Karpukhin C.V.Mechanizm of thermodistuction// J. polymer Sci.-N 25.- 1988.-P. 48.
- Sheldric G.E., Vogl O. Photodistruction of Polymers// Polym. Eng. and Sei. N 16.- 1976.-P. 65
- Stove B.C., Fornes E.F.Termostabililyty of Polymers // Chem. Soc. Revs.- N 25.- 1985.- P. 33.
- Kirillova E.I., Fradkina G.P. Mater, plast.ed.elast//.// Chem. Soc. Revs N 16.1989.- P.86.
- Vinc P. Process of photooxidation // Plastica.-N 28.- 1976.- P. 25.
- Виндзор M.B. Физика и химия твердого состояния органических веществ.М.: Мир. 1968.
- Туторский Б.А., Новиков C.B. Влияние растворителей на фотодеструкцию полимеров// Высокомолек. соединения.- N 6, 1984.- С.1127
- Тупиков В.И., Пшежецкий С. Я.Дегидрохлорирование полимеров при УФ-облучении// ДАН СССР.- вып. 156.- 1964.- С. 144.
- ЮО.Турро Н. Молекулярная фотохимия.- М.: Мир, 1967.
- Справочник химика. T.2.-JI.: Госхимиздат.-1966.- 1170 с.
- Ахметов Н.С. Общая и неорганическая химия,— М.: Высшая школа.-1993.-680 с.
- ЮЗ.Татевосян Г. О., Кузнецова И. Б. Фотолиз в слоях высокоскоростного полимерного покрытия// Пласт, массы.- N 7.- 1977.- С. 2221−2229.
- Далинкевич A.A., Калинин A.B. Распределение продуктов фотоокисления при диффузионном режиме сенсибилизированной фотоокислительной модификации полистирола // Пласт, массы.- N 7.- 1997.-С. 26−32.
- Гордон А., Форд Р. Спутник химика.- М.: Мир, 1976.- 541 с.
- Сивухин Д.В. Общий курс физики. Т. 4. Оптика.- М.: Наука. Гл. ред физ.-мат. лит., 1980.- 752 с.
- Калитеевский Н.И. Волновая оптика.-М.: Высш. школа, 1978.-383 с.
- Волков Е.А. Численные методы.-М.:Наука. Гл. ред. физ.- мат. лит. 1987.-248 с.
- Химмельблау Д. Анализ процессов статистическими методами.-М.:Мир, 1973.-396 с.
- Сироткина Е.Е., Скороходова Т. С. Локальное фотоокисление неорганических материалов// Химики ТГУ на пороге третьего тысячелетия. Вопросы химии и химического материаловедения.- Изд-во Томского ун-та.-Томск.-1998.
- Сироткина Е.Е., Скороходова Т. С. Новый карбазолилсодержащий реагент 1,3,6,8 тетрахлор-9-октилкарбазол// Первое северо-Кавказское совещание по химреактивам.- Махачкала.- Тез. докл.- С. 195.
- Анфиногенов В.А., Сироткина Е. Е., Домина Н. Г., Хлебников А. И. Выбор и исследование составов для растворения продуктов фототравления поверхности меди// Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология.-2001.-Т.44.- Вып.4.- С. 139−141.
- Анфиногенов В.А., Сироткина Е. Е., Домина Н. Г., Хлебников А. И. Фототравление поверхности меди полимерными фоточувствительными покрытиями//Журн Прикл. Химии.-2001 .-T.74.-N 11.- С.1884−1887.