Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Разработка основ технологии электронно-лучевой обработки боролантановых стекол для изготовления компонентов оптико-электронных приборов искусственных спутников Земли

Диссертация: Разработка основ технологии электронно-лучевой обработки боролантановых стекол для изготовления компонентов оптико-электронных приборов искусственных спутников Земли
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Оптические свойства применяемых при изготовлении деталей стекол (показатель преломления, коэффициент дисперсии и др.), являются определяющими при выборе марки стекла и достижения наилучших оптических характеристик прибора, минимизации аберраций. Однако, нередко уникальные оптические свойства стекол соседствуют с невысокими технологическими показателями — низкой химической устойчивостью… Читать ещё >

Содержание

  • 1. Технологические особенности применения электронно-лучевой обработки при изготовлении электронных приборов
    • 1. 1. Особенности стекол применяемых в производстве оптико-электронных приборов искусственных спутников земли.'
    • 1. 2. Методы и физико-технологические особенности подготовки поверхности оптических деталей электронных приборов
    • 1. 3. Локальные температурные напряжения при оплавлении стекла высокоэнергетическими пучками
    • 1. 4. Химическая чистота поверхности оптической детали из стекла
    • 1. 5. Влияние состояния поверхности оптической детали из стекла на формируемые пленочные структуры
    • 1. 6. Выводы по обзору и основные направления исследования."
  • 2. Анализ физико-технологических процессов, протекающих при электронно-лучевой обработке оптических деталей из стекла, и влияния обработки на электронно-оптические характеристики прибора
    • 2. 1. Температурный режим в ванне расплава
    • 2. 2. Анализ термодинамических процессов протекающих в поверхностной области стекла при электронно-лучевой обработке
    • 2. 3. Выводы по второй главе
  • 3. Оборудование и экспериментальные методы исследований
    • 3. 1. Принцип электронно-лучевой обработки подложек из диэлектрических материалов
    • 3. 2. Оборудование и оснастка для обработки электронным лучом
    • 3. 3. Методы и методики исследования поверхности
    • 3. 4. Основные результаты третьей главы
  • 4. Результаты электронно-лучевой обработки оптических деталей
    • 4. 1. Влияние электронно-лучевой .обработки на плоскостность пластины и условия её сохранения
    • 4. 2. Влияние электронно-лучевой обработки на поверхность подложек .*
    • 4. 3. Исследования оптических характеристик подложек фильтров из боролантанового стекла типа СТК
    • 4. 4. Электроннолучевая модификация элементного состава поверхности подложек фильтров из борол антанового стекла типа СТК
    • 4. 5. Разработка лабораторной технологии электронно-лучевой обработки
    • 4. 6. Исследование эксплуатационных свойств поверхности оптических деталей
    • 4. 7. Выводы по четвертой главе
  • ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ РАБОТЫ

Разработка основ технологии электронно-лучевой обработки боролантановых стекол для изготовления компонентов оптико-электронных приборов искусственных спутников Земли (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Актуальность темы

.

Технический уровень оптико-электронного прибора в определяющей степени зависит от качества входящих в его состав оптических, деталей. В свою очередь, качество оптических деталей определяется точностью формы, стабильностью во времени оптических характеристик и способностью длительно противостоять негативным воздействиям среды, в которой эксплуатируется изделие. Применительно к прибору ориентации космического аппарата выполнение таких требований становится еще более значимым в силу автономности его существования.

Оптические свойства применяемых при изготовлении деталей стекол (показатель преломления, коэффициент дисперсии и др.), являются определяющими при выборе марки стекла и достижения наилучших оптических характеристик прибора, минимизации аберраций. Однако, нередко уникальные оптические свойства стекол соседствуют с невысокими технологическими показателями — низкой химической устойчивостью, механической прочностью и т. д. Как правило, это обуславливается химическим составом самого стекла, наличием в нем нестойких стеклообразующих компонентов. К таким стеклам относится стекла боролантановой группы.

Механическая прочность и химическая устойчивость зависит как от стеклообразующих компонентов материала,'так и от состояния поверхности оптического стекла, которая формируется на технологических операциях изготовления оптико-электронного прибора. Получение атомарно-гладкой полированной поверхности на боролантановых стеклах с использованием традиционных методов шлифования и полирования, основанных на механическом удалении и химическом растворении поверхности, не позволяет формировать поверхность без нарушенного слоя. Вследствие этого возникает необходимость в дополнительных методах обработки поверхности для повышения ее устойчивости к воздействию окружающей среды и стабилизации оптических характеристик деталей.

В настоящей работе, с целью повышения надёжности и улучшения технико-эксплутационных, спектральных и химико-механических характеристик диссектора на базе суперортикона, предлагается осуществлять подготовку входной поверхности оптических деталей оптико-электронных приборов для" искусственных спутников земли (ИСЗ) электроннолучевой обработкой (ЭЛО) в вакууме.

Предполагается, что за счет изменения морфологии поверхности (тер-мостимулированное изменение элементного состава, появление новых-связей между элементами, удаление нарушенного слоя и остаточных атомов трави-телей и моющих средств (загрязнений) при нагреве), повысится механическая и химическая устойчивость оптических деталей, кроме того, силы поверхностного натяжения сформируют атомарно-гладкую, бездефектную поверхность.

В этой связи разработка технологического процесса влияющего на параметры оптико-электронных приборов, является актуальной и перспективной.

Целью диссертационной работы является разработка технологии электронно-лучевой модификации поверхности оптических деталей из стекла боролантановой группы для создания оптико-электронных приборов ИСЗ с улучшенными эксплуатационными свойствами.

Для достижения поставленной цели необходимо было решить следующие задачи:

• рассмотреть процессы теплового воздействия ленточного электронного t луча на поверхность стеклянного образца и определить область технологических рекомендаций тепловой обработки боролантанового стекла, оценить условия и длительность формирования поверхности, глубину модификации поверхности стекла и время проведения процесса;

• определить физико-химические особенности электронно-лучевой обработки боролантанового стекла и влияние условий её проведения на оптические, механические и химические параметры оптических деталей;

• разработать^ и опробовать лабораторный технологический процесс обработки поверхности оптических деталей электронным лучом.

Следует также отметить, что при решении этих задач были выработаны рекомендации для создания промышленного оборудования ЭЛО оптических деталей.

Методы исследования.

При изучении процесса ЭЛО оптических деталей в теоретической части работы использовалась тепловая модель, позволившая определить распределение температуры в области воздействия ленточного электронного луча, оценить размеры жидкой зоны и степень релаксации поверхности в процессе термокапилярного движения материала. При этом, для исследования реакции образования метабората лантана использовалась программа ОАиЗЭЬАК-ОЗ. Для экспериментальных исследований использовались оптические, зондовые и аналитические методы-изучения поверхности, электронная спектрометрия, а также типовые промышленные методы исследования поверхности оптических деталей.

Научная новизна работы:

1. Предложен физико-химический механизм формирования поверхности оптических деталей из боролантанового стекла за счет термодинамических фазовых превращений, а также изменения состава поверхностного слоя вследствие диффузионных процессов, протекающих во время ЭЛО.

2. Показано, что при затвердевании расплава после ЭЛО в результате фазовых перестроек элементного состава, устранения механических дефектов поверхности и образования метаборатов лантана в приповерхностной области образуется модифицированный слой нового состава с реконструированной структурой.

3. Установлено, что повышение’химической устойчивости и механической прочности после ЭЛО обусловлено удалением нарушенной составляющей поверхностной слоя, углеродных загрязнений и образовании оксидов Ьа (ВС>2)з, в области существования жидкой фазы.

4. Показано, что наблюдаемое увеличение показателя преломления связано с увеличением плотности поверхностного слоя, вызванного фазовой сегрегацией с выделением высокоплотных. кристаллических, фаз с высоким содержанием метаборатов лантана.

Практическая ценность работы: ^.

1: Определены технологические особенности ЭЛО оптических деталей из боролантанового стекла марки СТК119 и даны рекомендации по выбору технологических режимов обработки.

2. Сформулированы требования к технологическому оборудованию ЭЛО оптических деталей приборов ИСЗ.

3. Разработан технологический процесс ЭЛО входной поверхности оптических деталей, позволяющий обеспечить механическую прочность на 20% выше, а по химической стойкости придать поверхности свойства непятнае-мой.

Внедрение результатов работы. Разработанный технологический процесс и результаты исследований ЭЛО стекла внедрены и используется на ОАО «НПП КП «Квант» (г. Ростов-на-Дону).

Основные положения, выносимые на защиту:

1. Термодинамический механизм и трансформации молекулярных связей компонентов поверхностиоптических деталей после процесса ЭЛО, опи- • сывающие фазовые изменения элементов боролантанового стекла.

2. Результаты экспериментальных исследований влияния ЭЛО на оптические характеристики стекла.

3. Экспериментальные зависимости распределения модификаторов в поt верхностном слое боролантановых стекол и величины показателя преломления до и после ЭЛО.

4. Результаты исследования механических и химических характеристик параметров экспериментальных оптических деталей.

5. Технологический процесс ЭЛО поверхности оптических деталейобеспечивающий высокие эксплуатационные характеристики оптико-электронных приборов ИСЗ по сравнению с типовыми образцами.

Апробация результатов работы.

Основные положения диссертационной работы докладывались и обсуждались на III Всероссийской научно-технической конференции «Физико-химические процессы в конденсированном состоянии и на межфазных границах» (Воронеж, 2006 г.), IV Ежегодной научной конференции студентов и аспирантов базовых кафедр Южного научного центра РАН. (Ростов на Дону, 2008 г.), XX Международной научно-технической конференция по фотоэлектронике и приборам ночного видения. (Москва, 2008 г.), Ежегодной научной конференции студентов и аспирантов. (Таганрог, 2008 г.), Международной научно-технической конференции «Микрои нанотехнологии в электронике» (Нальчик, 2009 г.).

Публикации.

Результаты диссертационной работы отражены в 9 печатных раб. отах, в том числе 3 статьи в изданиях, рекомендованных ВАК.

Структура и объем работы.

Диссертация изложена на русском языке и состоит из введения, четырех глав, общих выводов, списка литературы (116 наименований). Общий объем диссертации 112 страниц.

ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ РАБОТЫ.

1. Показано, что наиболее эффективным способом улучшения эксплуатационных характеристик оптических деталей является ЭЛО, позволяющая в одном технологическом цикле осуществить формирование атомарно-гладкой поверхности без нарушенного слоя, благодаря его переплавлению.

2. Физико-химические процессы ЭЛО, за счет термодинамических фазовых превращений и изменения состава поверхностного слоя благодаря диффузии слабосвязанных элементов каркаса, позволяют сформировать более совершенную поверхность оптических деталей из боролантанового стекла.

3. Показано, что при затвердевании расплава после ЭЛО в результате фазовых перестроек элементного состава, устранения механических дефектов поверхности и образования метаборатов лантана в приповерхностной области образуется модифицированный слой нового состава с реконструированной структурой.

4. Установлено, что повышение химической устойчивости и механической прочности после ЭЛО обусловлено удалением нарушенной составляющей поверхностного слоя, удалением углеродных загрязнений и образованием метаборатов лантана Ьа (В02)з в области существования жидкой фазы.

5. Разработана лабораторная технология ЭЛО деталей из боролантанового стекла. Полученные результаты и экспериментальные детали внедрены в процесс изготовления узла диссектора прибора ориентации ИСЗ по Полярной звезде на предприятии космического приборостроения «КВАНТ» .

Показать весь текст

Список литературы

  1. ГОСТ 13 659–78. Стекло оптическое бесцветное. Физико-химические характеристики. Основные параметры. Введ. 1980−01−01. — М.: Изд-во стандартов, 1999.-27 с.
  2. М.А., Антонов Э. А., Байгожин А. и др. Справочник технолога-оптика. // Под ред. Окатов М. А. СПб.: Политехника, 2004. — 679 с.
  3. ГОСТ 13 917–92. Материалы оптические. Методы определения химической устойчивости. Группы химической устойчивости. Введ. 1993−07−01. М.: Изд-во стандартов, 1992. — 14 с.
  4. Т. П., Ходаков Г. С. Влияние накопления в шлифовальной суспензии водорастворимых компонентов стекла на длительность и качество полирования// Оптико-механическая промышленность — 1990. № 2 — С 4042.
  5. С. В., Бондарь В. В. Особенности сошлифовывания оптических стекол с высокой концентрацией В2О3 // Оптико-механическая промышленность 1989. — № 11 — С 44−46.
  6. Т. П., Ходаков Г. С. Эффект «прилипания» при полировании стекла смоляными полировальниками// Оптико-механическая промышленность 1987.-№ 6 — С 32−34.
  7. Г. Ф. Космические лучи и земная атмосфера: факты и гипотезы// Солнечно-земная физика. 2006. — № 9 — С. 44−46.
  8. В. М., Лазорина Б. И., Сорока В. В. Влияние различной полировки на поверхностные свойства кварцевого стекла.// Физ. и хим. обраб. матер — 1984, № 4, с. 123−127.
  9. В. И., Файзуллов Ф. С. Влияние адсорбированной воды на лучевую стой кость элементов ИК оптики. — Квант, электроника, 1977, т. 4, № 3, с. 587—596.
  10. Г. В., Кравченко A.A., Магаев Л. Г. Прочность на изгиб стекла К8, подвергнутого электронно-лучевой обработке, //Оптико-механическая промышленность. 1991 с. 23−27.,
  11. Метод и оборудование для обработки сходящимся ленточным электронным лучом. /Drnholm A. Stuart, Frutiger William A., Williams Kenneth E. //Пат. № 4 446 373 США. Заявл. 3.01.83, № 455 266, опубл. 1.5.84, бюлл. «Изобр. стран мира», 1985, В.121, С. 38.
  12. Шиллер 3., Гайзик У., Панцер 3. Электронно-лучевая технология. // Пер. с нем. В. П. Цишевский. -М.: Энергия, -1980. -528 с.
  13. A.A., Чередниченко Д. И. Расчет профиля фазового перехода при поверхностном оплавлении подвижным источником тепла. //Физика и- химия обработки материалов. -1980. -Т. 1. -С. 3−8.
  14. З.И. Технология шлифования в машиностроении/ З. И. Кремень,' В. Г. Юрьев, А. Ф. Бабошкин: под общ. ред. З. И. Кремня. -СПб.: Политехника, 2007. 424 с.
  15. B.M. Исследование процесса полировки стекла /Под ред. В. С. Молчанова.- М.: Машиностроение, 1967.- 196'с., .. .
  16. В.И., Абаев М. И., Лазлоз Н.Ю, Эллипсометрия в? физико-химических исследованиях. Л.: Химия, 1986, — 152 с.
  17. А.Ф., Ильин В. В., Михайлов A.B. Ионная полировка^ стекла. //Оптико-мех. промышленность.- 1972.-№ 10-С.40−43:
  18. В. Г., Виноградов A.M. Влияние параметров ионного пучка на- температуру поверхностного- слоя распыляемого образца.// Оптико-механическая промышленность. 1988.-№ 1.-С.32−35.
  19. А. А., Романова Г. Ф. Приповерхностный слой однородной мишени в условиях ионной бомбардировки /Тез: докл. V Всес. семинара по вторичной ионной и ионно-фотонной эмиссии. Харьков.- 1988, 4.1.- С.31−33-
  20. СВ. Оценка изменения состава поверхности ЩКК под действием ионной бомбардировке /Тез. докл. V Всес. семинара по вторичной ионной, и ионно-фотонной эмиссии. Харьков.- 1988,.- Ч.2.- G.55−57
  21. А.с. № 1 002 263 Способ формообразования поверхности оптических деталей /Д.В. Вишневская, А. Ф. Дервеев (СССР).- Заявл.7.09.81,№ 335I74C/29−33- Опубл. БИ, 1983, № 9.
  22. А. П., Бунин И. Г. Доводка формы оптической поверхности ионным пучком малого сечения, управляющее программированным перемещением //Оптико-механическая промышленность.- 1988.- № 2.- С. 39−42.
  23. М.А. Справочник технолога-оптика. -СПб.: Политехника, 2004., -679 с.
  24. P.A., Soileau M.J. 1,06 mem lasers-Induced breakdown of C02-laser polishing faced Si02 //Nat. Bur. Stand.(US), Spec. Publ.- 1980.- H620.- P. l 80.
  25. Benneth H.S., Glass J., Guenther A.H., Newnam B.F. Laser-induced damage in optical materialst eleveth ASTM sumposium //Appl. Optics. 1980. — V .19. -N.14. — P.2375−2397.
  26. А. А., Гладуш Г. Г. Физические процессы при лазерной: обработке материалов.- М.: Энергоатомиздат, 1985. — 208 с.
  27. Xiao Y.M., Base М. Thermal stress limitation to laser fire polishing of glasses //Appl. Optics.- 1983, — V.22,N.18.- P.2933−2936.
  28. Anthony T.R., Cline H.E. Surface rippling induced by surface-tension gradients during laser melting and alloying // Appl. Phys.- 1977.- V.48.N.9.- P.3888−3895.
  29. Cline H.E. Surface rippling induced in thin films by a scanning laser // Appl. Phys.-1981 V.52, N.I.- P.443−448.
  30. Babikova A.A., Klepikov S.A., Evstishenkov V.S., Golova E.P. Infrared polishing of lead glass// Glass and Ceramics -1981. V 38. N4. P. 170−172.
  31. B.C., Бабикова А. А., Голова Е. П. Тепловые методы обработки стекла.- JL: ЛТИ им. Ленсовета, 1982.- 53 с.
  32. Guloyan Yu.A., Tyutyunnik V.E. Ir-annealing technology for glass products// Glass and Ceramics -2000. V 57. N7−8. P. 277−280.
  33. В.Н. Технология электронно-лучевой полировки ситалловых подложек микросхем и входных окон видиконов /Дисс. на соискание ученой степени канд. техн. наук. Науч. рук. Г. В. Дудко. Таганрог.- 1977.- 100 с.
  34. Тун Р. Э. Структура тонких пленок.// В кн. Физика тонких пленок- под ред. Г. Хасса, Р. Э. Туна.- М.: Мир, 1970.- Т.1.- 343 с.
  35. А. А., Лохов Ю. Д., Чередниченко Д. И. О формировании предельно гладких поверхностей стекол// Физика и химия стекла. -1990. Т. 16, -№ 6. — С. 923−927.
  36. В., Уэйнер Дж. Теория температурных напряжений.- М.: Мир, — 1964.-517 с.
  37. В.Р., Слуцкер А. И., Томашевский Э. Е. Кинетическая природа прочности твердых тел. М: Наука, -1974. — 560 с.
  38. С.Н. Дилатонный механизм прочности твердых тел // Физика прочности и, пластичности. Л: Наука, 1986. С.5−11
  39. В. А. Дилатонная модель термофлуктуационного зарождения трещины //Физика твердого тела 1983. — Т.25. № 10. — С. 3124−3127.
  40. С.Н., Новак И. И., Порецкий С. А., Якименко И. Ю. Исследование кинетики зарождения микротрещин в щелочно- галоидных кристаллах методом рассеяния света // Физика твердого тела. — 1987. Т.29. —№ 1. — С. 156 164.
  41. Э.М., Бартенев Г. М., Тулинов Б. М. К теории хрупкого разрушения стекол в неизотермических условиях //Физика и химия стекла.- 1977.-Т.З, № 6.- С.601−606.
  42. Э.М., Бартенев Г. М. К теории хрупкого разрушения стекла в неоднородных температурных полях// Физика и химия стекла. 1978. — Т.4, —№ 4. — С.427−432.
  43. Miotello A., Mazzoldi P. Cooperative transport effects in electron-irradiated glasses //Phys. Rev. Lett. 1985 — V.54 -N.15. -P. 1675−1678.
  44. С. Научные основы вакуумной техники /Пер. с англ. под ред. М. И. Меньшикова. М.: Мир — 1964. — 715 с.
  45. Н.В. Вакуумные свойства материалов электронных приборов. -М.: Сов. радио. 1966. — 350 с.
  46. F. М. Properties of Glass Surfaces. // Annual Review of Materials Research. 1972 — V2 (1). -P. 529−641.
  47. Bills D.G. Evett A.A. Glass a disturbing factor in physical electronics measurements //J. Applied Physics. 1959. — V.30 -N.4. — P. 564−567.
  48. Donaldson E. E. Particulate Contamination from Glass //Vakuum. 1962. -V.12 -N.l. -P. 11−15.
  49. Пленочная микроэлектроника /Под ред. Jl. Холлэнда. М.: Мир, 1968. -366 с.
  50. А.с. СССР № 961 000 Мишень телевизионной передающей трубки и способ ее изготовления /П. П.Зефиров. № 3 247 963/18−21- Опубл. БИ, 1982, № 35.
  51. Mizuchashi М., Gotoh Y. Effect of silicon oxide coating on the out-diffusion of alkali from soda-lime-silica glass //Asahi Gerasu Kenkyu Hokoku. 1982. -V.32. -N.l. -P.79−86.
  52. Mizuchashi U., Gotoh Y., Uatsuaoto K., Adachi k. Migration of Alkali lone from Glass Substrates with and without Barrier Cootinf //Asahi Gerasu Kenkyu Hokoku. 1986. — V.36. — N.l. — P. 1−14.
  53. Manifacier J.C., Fillard J.P., Bind J.M. Deposition of In203-Sn02 layers on glass substrates using a spraying method //Thin Solid Films. 1981. — V.77, -№ 1−3.-P. 67−80.
  54. В.В. Термическая выщелачиваемость поверхности стекла //Стекло и керамика.- 1986.- № 10.- G.9−11.
  55. В.В. Селективное выщелачивание поверхности щелочно-силикатных стекол при термической обработке. //Физика и химия стекла.-1987.-Т. 13, -№ 2 — С.293−295.
  56. Kerper М. J., Scuderi Т. G. Mechanical Properties of Chemically Strengthened Glasses at High Temperatures //J. Amer. Ceramic Soc. 1966. — V.49. — № 11. -P. 613−618.
  57. JI. Нанесение тонких пленок в вакууме. //Пер. с англ. Н.В. Ва~ сильченко М.: Госэнергоиздат — 1963. — 608 с.
  58. Физика тонких пленок. /Под ред. Г. Хасса, Р. Э. Туна. —М.: Мир. -1970. -Т. 1−6.
  59. Технология тонких пленок. Справочник. /Под ред. Л. Майсселла, Р. Глэн-га. -М.: Сов. радио. -1977. Т.1 — 664 с. Т. 2. — 768 с.
  60. Дж. Л. Выделение кислорода при электронной бомбардировке стекла. // Материалы второго международного симпозиума: Остаточные газы в электронных лампах. -М.: Энергия, 1967. -С. 96−108.
  61. Lineweaver J. L. Oxygen Outgassing Caused by Electron Bombardment of
  62. Glass. //J. Appl. Phys. 1963. -V.34, -№.6. -P. 1786−1792.t
  63. A. M., Лукаш В. Ф., Пономарь В. В. Изменение рельефа поверхности халькогенидных стекол под действием электронного луча. //Журнал экспериментальной и теоретической физики. 1965. -Т. 55.-№ 2. -С. 437−439.
  64. А.П., Моисеев В. В., Портнягин В. И. Современные методы анализа поверхности при изучении стекла. //Физика и химия стекла. —1985. -Т.11, —№ 1.-С. 3−23.
  65. F., Holloway P. Н. General model of sodium desorption and diffusion during electron bombardment of glass.// J. Vac. Sci. Technol. -1982. -V.20. -№ 3. -P. 863−868.
  66. Р. Т., Heavens О: S., Pollai'd A. M- Glass surface analysis by Auger electron spectroscopy.// Journal of Physics G: Solid Slate, Physics. 1978. -V.l 1. -№ 11.-P. 2183−2192.
  67. С. П., ДудкоТ.В., КравченкоА.А., Полянский M: Hi, Чередниченко- Д.И. Вторично-эмиссионные свойства свинцовосиликатных стекол после электронного, облучения-// Физика и химия стекла. 1996.: -Т.22 -№ 1. -" С.39−43.. V" '
  68. Sfar M., Lacharme J.P., Lepeut P. Champion P. Dosage des Alcalins a La Surface des Verres Silicates.// J. Phys. Colloques. 1984. V45 — №C2 — P. 375 378. ¦ - '.• ¦'•'¦¦'•
  69. Battaglin G., Delia Mea G. y De Marchi- G., Mazzoldi P-,.Puglisi O. XPS and nuclear analysis of compositional changes occurring in. glass on electron beam irradiation.// Journal of Non-Crystalline Solids. 1982.-V 50.-№ l.-P. 119−124., :
  70. Miotello A., Mazzoldi P. Cooperative Transport Effects in Electron-Irradiated Glasses.// Physical Review Letters. 1985.-V 54. -№ 15. -P. 1675−1678 —
  71. Gossink R.G., I. otnmen T.P.A. Secondary-ion mass spectrometry (SIMS) analysis of electron-bombarded soda-lime-silica glass // Applied Physics Letters. 1979. V.34. -№ 7.-P: 444−446.
  72. Burgess D. J., Stair P. C., Weitz E. Calculations of the surface temperature-rise and desorption temperature in laser-induced thermal desorption.// Journal of Vacuum Science & Technology A. 1986.—V 4.-№ 3. -P. 1362−1366 '
  73. Miotello A., Mazzoldi P. Numerical analysis of field-assisted sodium migration in electron-in-adiated glasses-//Journal of Physics C: Solid State Physics. 1982. -VI5. —№ 27. —P. 5615−5621 >
  74. Miotello A. A note on enhanced diffusion and desoiption processes in electron-irradiated glasses// Journal of Physics C: Solid State Physics. 1986. -V 19. —№ 4. -P. 445−452
  75. Kelso J. F., Pantano C. G. Spectroscopic examination of clean glass surfaces at elevated temperatures //Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 1985. -V3.-№ 3. -P. 1343 1346
  76. Wiirzberg E., Marmur A. Laser cleaning of glass surfaces: The effect of thermal diffusion.// Journal of Colloid and Interface Science. 1987. -V 119. -№ 2. -P. 362−370.
  77. И.Н., Вельская Г. Н., Марголин В. И., Потсар Н. А. Влияние фрактально — матричных резонаторов.на свойства получаемых тонких пленок меди. // Письма в Журнал технической физики. 2002. Т. 28 — Вып. 24 -С. 67−74.
  78. А. Фотоэмиссионные материалы. /Пер. с английского A. JI. Му-сатова.-М. :Энергия, 1973 .-176 с.
  79. Р. Подложки для тонких пленок //В кн. Технология тонких пленок Под ред. JI. Майселла, Р. Глэнга. М.: Сов. радио, 1977. -Т.1.- 664 с.
  80. С. Тонкие пленки, их изготовление и измерение./ Под общ. ред. Н.С. Хлебникова-M.-JI: Госэнергоиздат, 1963.-272 с.
  81. Н. В. Химические методы получения тонких прозрачных пленок. -JL: Химия, 1971.-200 с.
  82. Н. Н., Углов А. А.,-Зуев И. В., Кокора А. Н. Лазерная и электроннолучевая обработка материалов. Справочник. М.: Машиностроение, 1985.-496 с.
  83. А.Н., Самарский А. А. Уравнения математической физики. — М.: Московского университета, 1999. — 798 с.
  84. Л. Применение метода конечных элементов./ Пер. с англ. Шестакова А. А. М.: Мир, 1979. -392 с93. Гегузин УФН
  85. Ojovan M. I. Viscosity and Glass Transition in Amorphous Oxides./ Advances in Condensed Matter Physics. 2008. V 2008. — C. 1−23.
  86. JI.H., Петрова О. Б., Попов A.B., Шукшин B.E. Синтез и исследование прозрачной стеклокерамики на основе боратов РЗЭ. //Труды института общей физики им. A.M. Прохорова. 2008. Т 64. С. 49−65.96. www.gaussian.com
  87. Computational Labs Using Gaussian VMOdes Molecular Orbital Visualization Software
  88. Victor Nemykin (Univ. MN Duluth)
  89. Л. Ю., Кабанов А. Н. Изготовление отверстий импульсным электронным лучом.// Электрофизические и электрохимические методы обработки.-1968.-№ 3.-С. 29−35.
  90. В. Э., Тикрог Д. Л., Воскресенский В. Ю. Высокотемпературные исследования тепло- и электропроводности твердых тел. -М.: Энергия, — 1971.-192 с.
  91. Ф. Н., Башкатов А. В., Углов А. А. Амплитуда колебаний электронного луча и её влияние на форму и размер зоны проплавления.// Физика и химия обработки материалов. -1974. -№ 5. -С.14—19.
  92. А.С № 1 635 463 СССР МКИ СОЗ1629/00. Устройство для полировки изделий./ С. П. Авдеев, Г. В. Дудко, Л. Г. Магаев Опубликовано 09.11.89.
  93. Г. В., Кравченко А. А., Магаев Л. Г., Шульга А. А. Блок питания электронной пушки.// Сборник научных трудов. Активируемые процессы технологии микроэлектроники. -Таганрог: ТРТИ 1986. -Вып. 8. С.89−92.
  94. Рид С, Электронно-зондовый микроанализ. — М.: Мир, 1979
  95. Методы анализа поверхностей/ Под ред. А. Зандерны. М.: Мир, 1979
  96. КАРЛСОН Т. Фотоэлектронная и оже-спектроскопия. — Л.: Машиностроение, 1981
  97. Практическая растровая электронная микроскопия/ Под ред. Дж. Гоулд-стейна и X. Яковица. М.: Мир, 1978
  98. Binnig G., Rohrer H. Scanning tunneling microscopy // Helvetica Physica Acta 55 (1982), 726.
  99. Binnig G., Quate C. F., Gerber Ch. Atomic force microscopy // Phys. Rev. Lett. 56 (9) (1986), 930−933
  100. B.K. Введение в эллипсометрию. —Л.: ЛГУ, 1986. -192 с.
  101. A.B., Свиташев К. В., Семененко А. И. и др. Основы эллипсомет-рии. -Новосибирск: Наука, 1978. 424 с.
  102. В.И., Абаев М.И, Лызлов Н. Ю. Эллипсометрия в физико-химических исследованиях. -Л.: Химия, 1986. -152 с.
  103. В., Паркер М. Ананлиз поверхности методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.// В кн. Методы анализа поверхности./ Под ред. Зандерна А. В. Пер. с англ. Кораблева В. В., Петрова Н. Н. -М.: Мир, 1979, -Гл. 4. -С. 137 -200.
  104. Ю. А., Вилков Л. В. Физические методы исследования в химии. -М.: Мир, 2003. 683 с.
  105. И.А., Пшеницын В. И., Мишин A.B., Толмачев В. А., Хол-даров Н.Х. Исследование поверхностных слоев свинцовосиликатного стекла методом эллипсометрии. // Физика и химия стекла. 1987. -Т.13. № 1, — С. 104−111
  106. Химическая технология стекла и ситаллов. /Под ред. Н. М. Павлушкина.-М.: Стройиздат, 1983.- 432 с./ /. Федеральное Космическое Агентство
  107. ОАО «Научно-производственное предприятие космического приборостроения5 «КВАНТ"(8632)22−08−98, 24−08−801. Факс: (8632) 24−72−66
  108. E-mail: [email protected]
  109. Россия- 344 090, г. Ростов-на-Дону, ул. Мильчакова, 71. УТВЕРЖДАЮ» Генеральный, 1. АКТоб использовании результатов кандидатской диссертационнойработы Петрова Сергея Николаевича1. Главнытконо: м
  110. Технический директор Директор Научно-технического центра
  111. A.M. Капустянский /У C.B. Локоть /Ц (jJ^P
Заполнить форму текущей работой

Пора сдавать?