Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Физико-химия поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния и фотостимулированные процессы, протекающие на них

Диссертация: Физико-химия поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния и фотостимулированные процессы, протекающие на них
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Возможность и характер протекания тех или иных процессов на поверхности твердого тела зависят, в первую очередь, от свойств самого вещества как объемных, так и поверхностных, а также от внешних условий (окружающая среда) и специально оказываемых на твердое тело воздействий. Таким образом, поверхность твердого тела есть многофакторный объект, итог большого круга процессов, имеющих место на ней… Читать ещё >

Содержание

  • ГЛАВА I. Литературный обзор
    • 1. 1. Природа донорно-акцепторных свойств поверхности твердого тела
      • 1. 1. 1. Энергетический спектр поверхности твердого тела
      • 1. 1. 2. Донорно-акцепторная модель поверхности твердого оксида
    • 1. 2. Фотостимулированные: процессы на поверхности полупроводников и диэлектриков
    • 1. 3. Фториды щелочно-земельных металлов и магния: некоторые физико-химические свойства и области применения
      • 1. 3. 1. Поверхностные свойства МеГ
      • 1. 3. 2. Действие излучений на фториды щелочно-земельных металлов и магния
        • 1. 3. 2. 1. Некоторые аспекты вопроса дефектообразования в МеРа
        • 1. 3. 2. 2. Фотостимулированные адсорбция и окисление водорода на поверхности фторидов щелочно-земельных металлов
  • ГЛАВА 2. Объекты исследования и методика проведения эксперимента
    • 2. 1. Объекты исследования и их идентификация
    • 2. 2. Определение удельной поверхности
    • 2. 3. Седиментационный анализ
    • 2. 4. Методика адсорбционных измерений
      • 2. 4. 1. Определение размеров и объема пор
    • 2. 5. Методика исследования кислотно-основных свойств
    • 2. 6. Метод ИК-спектроскопии
    • 2. 7. Спектроскопия диффузного отражения
    • 2. 8. Масс-спектрометрический метод
    • 2. 9. Методика исследования фотостимулированных процессов
    • 2. 10. Методы очистки и обработки образцов
    • 2. 11. Получение и очистка адсорбатов
  • ГЛАВА 3. Физико-химия поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния
    • 3. 1. Текстура дисперсных порошков МеРг
    • 3. 2. Гидратный покров фторидов щелочно-земельных металлов и магния и адсорбция паров воды на их поверхности
      • 3. 2. 1. ИК-спектроскопическое исследование гидратного покрова фторида магния
      • 3. 2. 2. Адсорбционная модель воды на поверхности фторидов щелочно-земельных металлов
    • 3. 3. Кислотно-основные свойства фторидов щелочно-земельных металлов и магния
  • ГЛАВА 4. Фотостимулированные процессы на поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния
    • 4. 1. Дефектообразование в дисперсных фторидах щелочно-земельных металлов и магния в вакууме и различных газах
    • 4. 2. Взаимодействие оксида углерода (II) с поверхностью фторида магния под действием УФ-излучения
  • ВЫВОДЫ

Физико-химия поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния и фотостимулированные процессы, протекающие на них (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Возможность и характер протекания тех или иных процессов на поверхности твердого тела зависят, в первую очередь, от свойств самого вещества как объемных, так и поверхностных, а также от внешних условий (окружающая среда) и специально оказываемых на твердое тело воздействий. Таким образом, поверхность твердого тела есть многофакторный объект, итог большого круга процессов, имеющих место на ней в ходе образования, обработки, хранения, т. е. существования твердого тела. Учет результатов всех многообразных воздействий во времени, последовательности и силе оказывается весьма сложным. Это приводит к возникновению неопределенности свойств поверхности, изучение и паспортизация которых оказывается достоверными лишь для конкретного образца.

В связи с выше сказанным понятна необходимость более полного изучения фи-зико-химии поверхности твердого тела с целью установления связи между «локальными» и «коллективными» донорно-акцепторными, донорно-акцепторными и электронными свойствами, включая влияние различных факторов на некоторые из этих физико-химических свойств. Представленная проблема является также частью огромной проблемы предвидения каталитического действия.

Большинство исследований в адсорбции и гетерогенном катализе посвящено оксидным и металлическим адсорбентам и катализаторам. Значительно меньше работ по исследованию физико-химических, особенно поверхностных, свойств фторидов хце-лочно-земельных металлов и магния. Однако имеющиеся работы в основе своей постулируют результаты исследований конкретных образцов фторидов щелочноземельных металлов и магния, в то время, как общие закономерности и модели поверхности этих соединений, например, такие, какие уже существуют для поверхности оксидов, отсутствуют. Однако в последние годы в связи с развитием новых отраслей промышленности внимание к данному классу соединений возросло. Интерес с целью использования фторидов в качестве подложки или катализатора обусловлен его физико-химическими и механическими свойствами: хорошая термическая стабильность, относительно высокая твердость, термохимическая устойчивость. Кроме того, благодаря своим оптическим характеристикам фториды щелочно-земельных металлов и магния являются уникальными материалами в современном оптическом приборостроении, где используются в виде оптической керамики, монокристаллов и тонких пленок.

Интересным и актуальным продолжением исследования поверхностных свойств является изучение фотостимулированных процессов, протекающих на поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния. Известно, что один из путей управления хемосорбционной и каталитической активностью полупроводника — управление электроникой поверхности, что при неизменности энергетического спектра означает изменение концентрации поверхностного заряда. Возможность протекания стимулированных облучением процессов на поверхности таких широкозонных проводников, как фториды щелочно-земельных элементов, уже показана. Однако актуальной задачей остается выяснение характерных черт и основных закономерностей протекания уже отчасти изученных и других возможных процессов на поверхности фторидов.

В связи с выше изложенным понятна необходимость продолжения исследования физико-химических свойств Ме?2 как для составления представления о донорно-акцепторной модели поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния и о влиянии на состояние поверхности различных факторов, с одной теоретической стороны, так и для решения вопросов управления поверхностными свойствами МеРг для дальнейшего их целенаправленного использования.

Настоящее исследование проводилось по плану научно-исследовательских работ Томского государственного университета в соответствии с темой «Исследование физико-химических характеристик фторидов щелочно-земельных металлов и магния» в рамках координационного плана Научного совета Российской Академии наук по адсорбции за 1997 год по рубрике № 5 «Адсорбция и технология», код темы 2.15.5.1, а также по теме государственной регистрации № 181 004 3578, выполняемой в рамках плана НИР на 1995 — 2000 годы по направлению «Разработка физико-химических принципов формирования границы раздела фаз (термодинамика, адсорбция, синтез)» .

В соответствии с этим цель работы заключалась в изучении состояния гидрат-ного покрова фторидов щелочно-земельных металлов и магния, выявлении взаимосвязи между кислотно-основными, адсорбционными свойствами и протекающими на поверхности Мер2 фотостимулированными процессами.

Для достижения этой цели необходимо решение следующих задач:

— определение текстурных характеристик фторидов щелочно-земельных металлов и магния и установление закономерностей изменения пористой структуры образцов под влиянием температуры предварительной вакуумной обработки;

— изучение состояния гидратного покрова поверхности Мер? на различных стадиях ее дегидратации и исследование особенностей адсорбции паров воды;

— определение функции кислотности поверхности и установление ее связи с распределением центров адсорбции по кислотной силе;

— выявление проявлений в кислотно-основном параметре МеР? природы катиона и аниона, потенциала ионизации и ширины запрещенной зоны;

— изучение дефектообразования во фторидах щелочно-земельных металлов и магния и влияния на этот процесс присутствия разных газов;

— исследование особенностей взаимодействия СО с поверхностью MgF2 под действием УФ-излучения.

Научная новизна. Выявлен состав и структура гидратного покрова поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния, основу которого образуют гидро-ксильные группы разного типа (структурные и «замыкающие») и различно связанные молекулы воды. Предложена модель состояния адсорбированной воды на поверхности фторидов щелочно-земельных металлов. На основании исследования гидроксильного покрова, кислотно-основных свойств различными методами впервые дано представление о донорно-акцепторной модели поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния, включающей кислотно-основную схему с дифференциацией областей центров Льюиса и Бренстеда, кислотно-основный параметр, связывающий локальные и кооперативные свойства поверхности, и их описание. Обнаружены на 8 г?2 центры окраски различной природы, главным образом, обусловленные наличием примесного кислорода. Предложен вероятный механизм реакции взаимодействия СО с поверхностью lgF2 под действием УФ-излучения. Показано, что обнаруженная реакция фотодесорбции кислорода является процессом, конкурирующим с собственно реакцией фотоокисления СО и Нг фотосорбированным кислородом.

Практическая значимость работы. Установлен характер воздействия отдельных компонентов воздушной среды на состояние поверхности фторидов щелочно-земельных металлов. Поскольку фториды исследуемых металлов находят широкое использование в оптической промышленности, показано, что для целенаправленного их использования необходим контроль за условиями хранения, эксплуатации фторидов щелочноземельных металлов и магния. Показано, что величина изменения рН суспензии за первые 10−15 секунд контакта твердого вещества с водой (ЛрНю) позволяет быстро определить кислотность поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния по Льюису и оценить природу присутствующих в них примесей. Результаты комплексного исследования поверхностных свойств фторидов щелочно-земельных металлов и магния и их изменение в процессе термовакуумного и химического модифицирования показали возможность направленного регулирования кислотно-основных свойств и реакционной способности поверхности исследуемых материалов. Выявленные особенности протекания фотостимулированных процессов могут быть полезны при решении проблем развивающейся в настоящее время тропосферной фотохимии. Основные положения, выносимые на защиту:

1) строение гидратного покрова фторидов щелочно-земельных металлов и магния и модель состояния адсорбированной воды на их поверхности;

2) кислотно-основной и энергетический спектр поверхности фторидов щелочноземельных металлов и магния;

3) механизм взаимодействия СО с поверхностью М^Б^ под действием УФ-излучения.

Выводы.

1. Показано, что состояние поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния, а, следовательно, и характер протекающих на ней процессов определяется дефектностью, связанной, главным образом, с наличием кислородсодержащих примесей.

2. Установлено существование на поверхности фторида магния трех типов гидро-ксильных групп: структурных, «замыкающих» и ОН-групп адсорбированной воды. Наибольшее изменение состояния поверхности происходит при удалении структурных ОН-групп. Гидроксильный и гидратный состав поверхности спектрально идентифицирован.

3. Представлена модель адсорбированных молекул воды на частично дегидратированной поверхности СаРЧ.

4. На основании исследования гидроксильного покрова, кислотно-основных свойств поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния различными методами впервые составлено представление о донорно-акцепторной модели поверхности МеБг, включающей кислотно-основную схему с дифференциацией областей центров Льюиса и Бренстеда, кислотно-основный параметр, связывающий локальные и кооперативные свойства поверхности, и их описание. Установлено проявление в спектрах распределения центров адсорбции Мер2 химической природы катиона и аниона, зонной схемы кристаллов Мер2.

5. Изучение удельной поверхности, дисперсности и пористости позволило отнести исследуемые образцы фторидов магния и стронция к мезопористым, а фторидов кальция и бария к непористым сорбентам. Г {оказана возможность применения к изотермам адсорбции на непористых адсорбентах уравнения Дубинина — Радушкевича.

6. Показано, что в результате как темнового, так и фотостимулированного дефектооб-разования на поверхности фторида стронция появляются центры окраски различной природы, преимущественно обусловленные наличием примесного кислорода. Газовая фаза по-разному влияет па окрашивание 8гРз, однако дефектообразовние наиболее эффективно происходит в вакууме. Наведенные УФ-излучением в области несобственного поглощения 8гР2 центры окраски являются центрами адсорбции различных газов.

7. На основании приведенных кинетических исследований предложены механизмы реакций взаимодействия оксида углерода (II) с предварительно фотосорбированным кислородом и с кислородом газовой фазы на поверхности 1У^р2 под действием УФ-излучения. Механизмы отличаются возможными каналами дезактивации активных форм кислорода. Активной в фотоокислении СО является низкотемпературная форма кислорода. Обнаруженная фотодесорбция кислорода есть процесс, конкурирующий с собственно фотостимулированным реакцией окисления СО фотосорбированным кислородом. При проведении реакции из газовой фазы активные состояния фо-тосорбированного кислорода дезактивируются кислородом, газовой фазы.

8. Комплексный контроль за состоянием поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния, ее дефектностью позволяет охарактеризовать реакционную способность образцов в интересующих процессах и возможность дальнейшего целенаправленного использования исследуемых порошкообразных образцов фторидов ще-лочно-земельных металлов и магния.

В заключении я хотела бы поблагодарить своих руководителей Минакову Тамару Сергеевну и Рябчука Владимира Константиновича за проявленкый интерес к работе, всестороннюю поддержку и веру в меня, а также весь коллектив отдела фотоники НИИФ при Санкт-Петербургском университете за помощь в проведении экспериментов и моральную поддержку, особенно группу фотосорбционеых и фотокаталитических исследований и группу ИК-спектросхопии адсорбированных молекул. Особую благодарность я хочу выразить доктору химических наук Нечипореяко Алле Павловне (Санкт-Петербургский Государственный Технологический Университет).

Показать весь текст

Список литературы

  1. В. Ф., Крылов О. В. Электронные явления в адсорбции и катализе на полупроводниках и диэлектриках. — М.: Наука, 1979. — 2.33 с.
  2. В. Ф. Поверхностные явления в полупроводниках и диэлектриках. М: Наука, 1970. — 399 с.
  3. Э. Физика поверхности. М: Мир, 1990. — 536 с.
  4. Ф. Ф. Физико-химия поверхности полупроводников. М.: Наука, 1973.-399 с.
  5. Ф.Ф. Электронная теория катализа на полупроводниках. М: Изд-во физ.-матем. лит-ры, 1960. — 187 с,
  6. О. В., Примаченко В. Е., Мацае Е. П. и др.// Электронные процессы на поверхности полупроводников. Новосибирск: Наука, 1967. — с. 129.
  7. В. Г.// Физика твердого тела, 1972. -вып. 6. с. 802.
  8. А. В. Электронные процессы на поверхности полупроводников: М.: Наука, 1971. — с. 144.
  9. Новотоцкий Власов 10. Ф.// 'Груды фи£ ип-та АН СССР, 1969. — вып. 48. — с. 3 — 75.
  10. С. Н., Киселев В. Ф., Новотоцкий-Власов К). Ф. // Surface Sei., 1971. vol. 28. — pp. 395.
  11. В. Ф., Зарифьянц Ю. А. Электроника поверхности полупроводников и катализ.// Поверхностные соединения в гетерогенном катализе: Проблемы кинетики и катализа. М.: Наука, 1975. — т. 16. — с. 221.
  12. О. Физика твердого тела. Локализованные состояния. М.: Наука, 1985. -с. 118−127.
  13. А. Г1. Донорно-акцепторкые свойства поверхности твердых оксидов и хал ько ген идо в: Дисс.док. хим. наук. С-Петербург, 1995. — 464 с.
  14. A. PI. Кислотно-основные свойства поверхности оксидов кремния, алюминия, цинка, магния и их изменения в процессах структурно-химических превращений: Дисс.канд. хим. наук. Л., 1987. — 221 с.
  15. В. Ф.// Хемосорбция и ее роль в катализе: Проблемы кинетики и катализа. -М.: Наука, 1970. вып. 14.-е. 25.
  16. В. Ф.// Кинетика и катализ, 1970. вып. 11.-е. 403.
  17. Ю. П. Фотодесорбция и фотосорбция кислорода на окиси цинка. Условия наблюдения и фотосорбционные свойства муфельной окиси цинка.// Кинетика и катализ, 1965.- вып. 6. с. 250.
  18. Басов JI. JL, Котельников В. А., Лисаченко А. А., Рапопорт В. А., Солоницын Ю. Г1. Фотосорбция простых газов и фотодиссоциация адсорбированных молекул на оксидных адсорбентах.// Успехи фотоники. Л.: ЛГУ, 1969. — № 1. — с. 78 — 111.
  19. Ю. П. Кинетика и возможный механизм фотосорбции кислорода на окиси цинка.// Кинетика и катализ, 1966. вып. 7. — с. 480 — 488.
  20. В. С., Черкаишн А. Б., Кейер Н. П.// ДАН СССР, 1973, — т. 211, — № 3. с. 628 -631.
  21. И. М., Солоницын Ю. PI. Сравнительное исследования фотосорбции кислорода и фотоиндуцированных сигналов ЭПР на окиси магния и алюминия.// Кинетика и катализ, 1972. вып. 13. — с. 426
  22. А. В., Рябчук В. К. Спектральные зависимости эффективности молекулярных процессов на поверхности твердых тел. // Вестник СГ16ГУ, Сер. 4, 1998.
  23. Фотосорбционные и фотокаталитические явления в гетерогенных системах. Новосибирск: Ин-т катализа СО АН СССР, 1974. — вып. 4. — с. 8, 9, 108.
  24. А. А., Вилесов Ф. И. Фотоактивация адсорбированных молекул и фотокаталитические процессы на окислах. // Фотосорбционные и фотокаталитические явления в гетерогенных системах. Новосибирск: Ин-т катализа СО АН СССР. 1974.- вып. 4.-е. 3−8.
  25. В. Ф., Крылов О. В. Адсорбционные процессы на поверхности полупроводников и диэлектриков. М.: Наука, 1978. — 256 с.
  26. С. Химическая физика поверхности твердого тела. М.: Мир, 1980.- 488 с.
  27. Т. Фотосорбция и фотодесорбция кислорода и связанный с ними фотокатализ на неорганических полупроводниках. // Электронные явления в адсорбции и катализе на полупроводниках. M.: Мир, 1969. — с. 278 — 291.
  28. В. Г., Волькенштейн Ф. Ф. Влияние облучения на поверхностные свойства полупроводников. М.: Наука, 1978. — 288 с.
  29. А. В. Экспериментальное исследование и моделирование процессов создания центров фотостимулированной адсорбции на поверхности широкощелевых оксидов: Дисс.канд. физ.-маг. наук. С.-Петербург. 1995. — с. 16.
  30. Th., Кагре-лко 1. V.// J. Appl. Phys. Snppl., 1962. vol. 33. — p. 460.
  31. Gerihcher H.// Electrochimica Acta, 1995. vol. 40. — № 10. — p. 1277.
  32. Albey W. J., Barllett P. N Л J. Electrochem. Soc., 1984. vol.31. — № 2, — p. 315.
  33. Emelin A. V., Ryabchuk V. K. The spectral selectivity of photocatalysts./V Book of ab-stractsoi'12-th Intern. Confer. «Phoiochem. Conversion and storage of solar energy», 9−14 августа 1998, Берлин, 1998.
  34. Фотосорбционные и ф>отокатал:итические явления в гетерогенных системах: Труды ин- ra катализа СО АН СССР, Новосибирск: Ин-т катализа СО АН СССР, 1974, — вып. 4. 148 с.
  35. Л. Л., Кузьмин Г. Н., Прудников И. М. И др. Фотосорбционные процессы на окислах.// Успехи фотоники. Л.: ЛГУ, I977. — вып. 6. — с. 82 — 120.
  36. В. К. Фотосорбционные процессы с участием простых молекул на галогени-дах щелочных металлов: Дисс.канд. физ. мат. наук. — Л., S 983. — 194 с.
  37. A. Pl. Избранные труды. Л.: Иаука, 1975. — т. 3. — с. 304 — 432.
  38. А. А., Вилееов Ф. И. // Вестник ЛГУ. сер. физ. и хим., 1966.- вып. 2, — № 10,-с. 30
  39. Л. Л., Кузьмин Г. PL, Солоницын Ю. Г1. Фотосорбционные процессы на окислах.// Фотосорбционные и фотокаталитические явления в гетерогенных системах: Труды ин-та катализа СО АН СССР, Новосибирск: Ин-т катализа СО АН СССР, ! 974, — вып. 4. с. 9 — 19.
  40. Г. Pl. Фото- и рентгеносорбционные процессы на оксидах цинка и титана.: Дисс. канд. физ.-мат. наук. Л., 1988. — 168 с.
  41. В. К., Басов Л. Л., Солоницын Ю. 11. Зависимость фотосорбционных и фотокаталитических свойств галогенидов щелочных металлов от спектральной области возбуждения. // Хим. физика, 1989. т. 8. — № 11. — с. 1475 — 1482.
  42. В. М., Прудников И. М., Солоницын Ю. II. Исследование фотосорбционно-го эффекта памяти на окислах.// Деп. рукопись в ВИНИТИ, №. 4816 82. 1982. — 25 с.
  43. В. А. Фогоиндуцированная адсорболюминисценция и термодесорбио-ванный анализ газов, фотокаталитические явления в гетерогенных системах. Новосибирск, 1974. — вып. 4. — с. 89 — 95.
  44. Л. Л., Котельников В. А., Солоницын Ю. П. Фотодиссоциация простых молекул на оксидных адсорбентах.// Спектроскопия фотопревращений в молекулах. Л., 1977.-е. 228−238.
  45. В. В., Калиновский Г. И. Фотоперенос электрона в СаР2 Ей.// Физика твердого тела, 1992. — т. 34. — выи. 10.- с. 2988 — 2993.
  46. А. С., Рыскин А. И. Новая фотохромная среда для записи оптической информации на основе кристалла флюорита.// Оптика и спектроскопия, 1995. т. 79. -вып. 1.-е. 101 — 104.
  47. . В., Уваров Т. В. Фториды щелочно-земельных элементов: Литерат. обзор. М.: Цветинформация, 1973. — 52 с.
  48. Л. В., Кондрашева Л. Н&bdquo- Микудина О. Г. Высокочпстые фториды сырье для оптических волноводов. — М.: НИИТЭХим, 1989. — 36 с.
  49. Сборник тезисов докладов VII Всесоюз. совещания «Кристаллические материалы"' -Л., 1989.-е. 197−288.
  50. Э. Л., Бабицкая Р. А., Колпакова А. А. Материалы для оптической керамики (Фториды щелочно-земельных металлов)/ Обзор, инф., Сер. „Прикл. химия“ М.: НИИТЭХим, 1987. — 42 с.
  51. Е. К., Тимошенко Н. М. Физико-химические свойства фторидов щелочно-земельных металлов.// Известия Том. политех, ин-та. Томск: ТГУ, 1968. -т. 169. — с. 3 -10.
  52. П. II. Оптико механическая промышленность. — 1969. — № 12. — с. 62 — 68.
  53. П. Спектроскопические свойства активированных лазерных кристаллов. -М.: Наука, 1966. 137 с.
  54. И. Г. Химия фтора и его неорганических соединений. М.: Госхимиздат. -1956.-364 с.
  55. Л. Ю., Мииакова Т. С., Рудакова А. В. Термодинамика взаимодействия фторидов щелочно-земельных металлов с некоторыми газами и парами. Деп. рукопись № 2248 — В98 от 20.07. 98, Томск, 1998. — 8 с.
  56. Исследование поверхностных свойств материалов для оптической керамики: Отчет о’НИИР (заключит.)/ Том. гос. ун-т- Руководитель МинаковаТ. С. ГР 1 850 048 710- Инв. № 2 860 048 074. — Томск, 1985. -90 с.
  57. . К. О взаимодействии кристаллического фторида магния с газообразными оксидами.// Материалы для оптических устройств и сцинтилляторов: Сборник научн. трудов № 8, Харьков, 1986. с. 102 — 105.
  58. Kuroda Y., Morimoto Т. Interaction of water with the surface of Srp2.1. Strongly adsorbed water on SrF2.// Langmuir, 1988. vol. 4. — № 2, — pp. 425 — 429.
  59. Kuroda Y., Morimoto T. interaction of water with the surface of SrP2. II. Physisorption of water on water strongly adsorbed onto SrP2./7 Langmuir, 1988. vol. 4. — № 2, — pp. 430−431.
  60. P. В., Hall P. G. Adsorption of water on CaP2, BaP2, PbP2.// J. Chem. Soc. Faraday Trans., 1975. p. 1. — vol. 71. — № 11.- pp. 2266 — 2276.
  61. Kuroda Y. Effect of chemisorbed water on the two-dimensional condensation of water and argon on CaF2.// J. Chem. Soc. Faraday Trans., 1985. p. 1. — vol. 81. — № 3. — pp. 757 -768.
  62. P. В., Hall P. G. Adsorption of water vapour by magnesium fluoride. // J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1978. p. 1. — vol. 72. — №> 3. — pp. 610−618.
  63. Zink J. C, Reif J., Matthias E. Water adsorption on (1 i 1) surface of BaP2 and CaP2.// Phys. Rev. Lett. 1978. — p.l. — vol. 78. — pp. 610−618.
  64. С. А., Азов К. 1С., Корсунои В. E» Светлов В. Н. Взаимодействие кислорода с поверхностью (111) BaF?.//' Тез. докл. XXI Всесоюзн. конф. по эмиссионной электронике. -Л., 1990. т. 1. — с. 158.
  65. Wojciechowska М. Hydroxyl groups on the suriace ol magnesium fluoride.// Bull. Acad. Polon. Ser. Sci. Chim., 1981. vol. 29. — № 11 — 12. — pp. 531 — 547.
  66. Wojciechowska M., Fiedorov R. Surface chemistry of porous magnesium fluoride. // J. Fluorine Chem., 1980. vol. -15. — pp. 443 — 452.
  67. Wojciechowska M. Modificacion of magnesium fluoride surface by impregnation with oxo-acid.// Bull. Acad. Polon. Ser. Sci. Chim., 1981. vol. 29. — № 11 — 12. — pp. 549 — 562.
  68. Wojciechowska M" Fiedorov R. Kania W. Wlasnosci powierzchni i aktywnosc katai-ityczna fluozku magnezu. // Chernia stosowana, 1977. t. 21. — № 3 — 4. — s. 431 — 439.
  69. Е. 11. Сорбционные, фото- и реитгеиостимулированные процессы на фторидов щелочно-земельных металлов и магния. // Дисс.канд. хим. наук. Томск, 1995. — 155 с.
  70. Разработка физико-химических принципов формирования границы раздела фаз (термодинамика, адсорбция, синтез): Отчет о НИИР (заключит.)/ Том. гос. ун-т- Руководители Минакова Т. С., Мокроусов Г. М. ГР 01. 9.10 045 676, — Томск, 1990. -119 с.
  71. Каталитические свойст ва веществ./ Под. ред. В. А, Ройтера. Киев: Наукова думка, 1968.- 142 с.
  72. О. В. Катализ неметаллами. Закономерности подбора катализаторов. Л.: Химия, 1967. — 240 с.
  73. . В., Воробьев А. А. Действие излучений на ионные структуры. М.: Гос-атомиздат, 1962. — 167с.
  74. Ч. Б., Лухдик А. Ч. Распад электронных возбуждений с образованием дефектов в твердых телах. М.: Наука, 1989. — 264 с.
  75. Физические свойства кристаллов фторидов щелочно-земельных металлов: Известия Том. политех, ин-та. Томск: ТРУ, 1968. — т. 169. — с. 11 — 14, 15 — 23, 37 — 38.
  76. ВагПе Я.// И СЬет. РЬуч. 1952. •• уо1. 20. рр. 297.
  77. П. В., Непомнящих А. И. Кислородсодержащие дырочные центры в кристаллах СаР2.// Оптика и спектроскопия, 1988. т. 65. — вып. 6. — с. 1395 — 1397.
  78. П. П.// ДАН ССОР ХСП, 1963. № 3. — с. 123.
  79. Н. Н., Захаров Н. Г., рейтеров В. М. И др. Образование экситонов при взаимодействии радиационных дефектов в кристаллах типа флюорита.// Оптика и спектроскопия, 1982. т. 52. — вып. 2. — с. 372 — 375.
  80. И. С. Исследовани с накопленных центров окраски и их влияние на некоторые физические свойства монокристаллов Mgp2: Автореф. дисс.канд. физ. мат. наук. — Томск, 1972. — 19 с.
  81. А. Я., Куркин А. Ю., Дудоров А. Г. Вакансионное разупорядочение, растворимость и взаимодействие гелия с ионами в кислородсодержащих кристаллах фторида кальция.// Физика твердого тела. 1996. — т. 38. — вып. -4. — с. 12 272 — 1277.
  82. В. М. Образование радиационных дефектов при распаде электронных возбуждений в кристаллах со сложной структурой решетки: Автореф. дис. докт. физ. -мат. наук. Рига, 1980. — 37 с.
  83. А. А., Завадовская Н. К., Тимошенко Н. М. Адсорбция на CaF2 и SrF2, стимулированная у излучением.// Физические сзойства кристаллов фторидов ще-лочно-земельных металлов. — ! 968. — т. 169. — с. 39 — 44.
  84. Е. Г1., Рябчук В. К., Минакова Т. С. Фотосорбция простых газов на фторидах щелочно-земельных металлов.// ТГУ. Томск, 1990. — 14 с. — Деп. в ОНИИТЭ-Хим 15.05.90, № 374 — ХП90.
  85. Е. П., Рябчук В. К., Минакова Т. С. Фотосорбция кислорода на фторидах щелочно-земельных металлов.// Химическая физика. 1991. — т. 10. — с. 1331 -1334.
  86. Е. П., Рябчук В. К., Минакова Т. С. Воздействие рентгеновского излучения на гетерогенную систему фториды щелочно-земельных металлов кислород.// Журнал физ. химии. — 1992. — т. 66. — с. 1387 — 1390.
  87. Е. П., Емелин А. В., Рябчук В. К., Минакова Т. С. Фотокаталитическое окисление водорода на фторидах щелочно-земельных металлов.// Кинетика и катализ. 1992. — т. 33. — № 3. — с. 581 — 585.
  88. Г. Интерпретация порошковых рентгенограмм М.: Мир, 1972. — 215с.
  89. Л. М., Трунов В. К. Рентгенофазовый анализ. М.: МГУ, 1976. — 232 с.
  90. American Society for Testing Materials Inorganic Plain Cards. Phyladelfia, 1946 1969.
  91. Л. И. PCA. Индицирование рентгенограмм/'/' Справочное руководство: М.:1. Наука, 1981 -496 с.
  92. Л. М. Рентгенография в неорганической химии. М.: МГУ, 1991. — с. 69 — 72.
  93. Н. Е., Карнаухов А. П., Алабужев 10. А. Определение удельной поверхности дисперсных и пористых материалов.//Методическое пособие: Новосибирск: И. К СО АН СССР, 1978. — 74 с.
  94. Экспериментальные методы в адсорбции и молекулярной хроматографии./ Под. ред. Ю. С. Никитина, P.C. Петровой. М.: МГУ, 1990. — 318 с.
  95. Лабораторные работы и задачи, но коллоидной химии./ Под. ред. Ю. Г. Фролова, А. С. Гродского. М.: Химия, 1986. — 216 с.
  96. Н. Н. Практикум, но коллоидной химаи. М.: Высшая школа. 1963. — 184 с.
  97. А. А., Петрова Р. С., Щербакова К. Д. Задачи к семинарским занятиям по физической химии. Адсорбция. М.: МГУ, 1982. — 57 с.
  98. Г. К. Гетерогенный катализ. М.: Наука, 1986. — 304 с.
  99. А. П., Буренина Т. А., Кольцов С. И. Индикаторный метод исследования поверхностной кислотности твердых тел. // Журнал общей химии, 1985. г. 55. — вып. 9. — с. 1907- 1912.
  100. JI. Ф., Минакова Т. С. Нечипоренко А. П. Применение индикаторного метода для исследования сульфида цинка марки «для оптической керамики». // Журнал прик. Химии, 1990. № 8. — с. 1708 — 1714.
  101. А. И. Кислотно-основные свойства поверхности оксидов кремния, алюминия, цинка, магния и их изменения в процессах структурно-химических превращений.: Дисс. канд. хим. наук. Л., 1987. — 221 с.
  102. А. П., Кудряшова А. И. Исследование кислотности твердых поверхностей методом рН-метрии.// Журнал прикладной химии, 1987. т.60. — № 9. — с. 1957- 1961.
  103. С. Химическая физика поверхности твердого тела,— М.: Мир, 1980, — 488 с.
  104. JI. Г. О водородном показателе изоэлектронного состояния амфо-терных катализаторов.// Тр. Всесогозн. конф. «Каталитические реакции в жидкой фазе» Алма-Ата, 1963. — с. 212 — 217.
  105. О. А. О водородном показателе изозлектронного состояния оксидов.// Тр. I конф. молодых ученых химиков г. Томска. — Томск, 1970. — с. 121 — 130.
  106. JI. Г&bdquo- Ширяева Т. И. О водородном показателе изозлектронного состояния алюмосиликатвых катализаторов крекинга.// Кинетика и катализ.-1966.-т. 7.- вып. 3.- с. 562 566.
  107. Л. Инфракрасные спектры адсорбированных молекул. М.: Мир, 1969.-514 с.
  108. А. В., Лыгин В. И. Инфракрасные спектры поверхностных соединений и адсорбированных веществ. М.: Наука, 1972. — 460 с.
  109. Denisenko L. A., Tsyganenko A. A., Fiiimonov V. N. Infrared study of the interection between adsorbed molecules in the CO /ZnO system./'/React. Kinet. Catal. Lett., 1984.-vol. 25.-№ 1 -2.-pp. 23 -26.
  110. Tsyganenko A. A., Denisenko I,. A., Zverev S. M. and e.t. infrared study of lateral ntcr-ection between carbon monoxide molecules adsorbed on oxide catalists.// J/ Catalysis, 1985.-vol. 94.-№ 1. pp. 10- 15.
  111. Ш. М. // Физика и физико-химия катализа: Проблемы катализа. М.: Наука, 1960.-с. 52.
  112. А. В, Основные структурные типы адсорбентов и их влияние на адсорбционные свойства.// Журнал физической химии. 1949. — т. 23. — вып. 4. — с. 452 -468.
  113. М. М. Адсорбция газов и паров и структуры высокодисперсных и пористых тел. М.: АН СССР, 1953. — с. 72 — 85.
  114. М. М. Современное состояние теории объемного заполнения микропористых адсорбентов при адсорбции газов и паров на углеродных адсорбентах.// Журнал физ. химии, 1965. т. 39. — вып. 6. — с. 1305 — 1317.
  115. Г. М. Свойства поверхности сульфидов цинка и кадмия и их влияние на термическую устойчивость сульфидных люминофоров.// Автореф. дисс.канд. хим. наук.-М., 19 984. -24 с
  116. Г. М, Кочурихин В. Е. Использование уравнения Дубинина Радушке-вича для описания изотерм адсорбции в области низких давлений. // Журнал физ. химии, 1983. — т. 57. — № 2. — с. 471 — 472.
  117. В. С. Адсорбенты и их свойства. Минск: Наука и техника, 1987. — 120 с.
  118. А. П. Р1екоторые проблемы использования адсорбентов и катализаторов.// Сб. научн. трудов «Катализаторы и каталитические процессы», Новосибирск: ИК СО АН СССР, 1977. с. 81 — ПО.
  119. JI. Д. Исследования адсорбции и тепловых эффектов адсорбции углеводородов на пористых адсорбентах, используемых в газовой хроматографии. // Автореф. дисс.канд. хим. наук. М., 1975. — 24 с.
  120. С., Синг К. Адсорбция. Удельная поверхность. Пористость. М.: Мир, 1984. — 306 с.
  121. Morimoto Т., Kadota Т., Kuroda Y. Adsorption of warter on CaF2: two-dimentional condensation of water. // J. Colloid and Interface Sei., 1985. vol. 106. — № 1. — pp. 104 -109.
  122. Т. А. Исследование адсорбционных и фотосорбционных процессов на цинк-сульфидных кри стал лофосфоpax.// Дисс. канд. хим. наук. Томск, 1978. — с. 163.
  123. Morimoto Т., Nagao М&bdquo- Tokuda Р. Bull. Chem. Soc. Japan, 1%8. vol. 41. — pp. 1533.
  124. П. А. Проблемы и перспективы исследования электронной проводимости ионных кристаллов.// Известия ВУЗов., Сер. Физика, 1989. т. 32. — № 6. — с. 79 — 83.
  125. Л. К., Родный П. А., Старостин Н. В. Расчет плотности состояний и вероятности оптических переходов в кристаллах ВаР2, SrP2 и СаР2.// Физика твердого тела, 1991. т. 31. — № 9. — с. 2542 — 2545.
  126. R. Т., Szajman J., Lecky R. С. G. and e.t. Electronic structure of the alkaline-aerth fluorides studied by photoelectron spectroscopy. //Phys. Review B, 1975.- vol. 12.- № 12.- pp.5872 5877.
  127. С. II., Голота Ф., Галахов В. Р. И др. Исследование электронной структуры и природы центров окраски в MgF2. // Журнал структ. химии, 1986, — г. 27.-№ 2.-с. 70−73.
  128. В. А., Рейтеров В. М., Трофимов Л М, Примесное поглощение кристаллов щелочно-земельных фторидов в вакуумной УФ-области.// Журнал прикл. спектроскопии, 1980. г. 32. — .вып. 1.-е. 103 — 109.
  129. В. А., Хавин 3. Р. Краткий химический справочник. Л.: Химия. — 1991.- 432 с.
  130. Молекулярные постоянные неорганических соединений: Справочник/ Под. ред. Краснова К. С. Л.: химия, 1979. — 440 с,
  131. Справочник химика. Основные свойства неорганических и органических соединений. Л. — М.: Госхимиздат, 963. — т. 2. -1! 68 с.
  132. А. Н. Ученые записки Ленишрадского университета, Л., 1939. — № 3.- с. 35.
  133. Электронные процессы в адсорбции и катализе на полупроводниках. М.: Мир. -1969.
  134. Г. В. Исследование фотостимулированных адсорбционных процессов и связанного с ним дефектообразования в оксидах металлов: автореф. дисс.канд. физ.- мат. наук. Л., 1990. — 15 с.
  135. В. Л., Холодарь Г. А. Статистическое взаимодействие электронов и дефектов в полупроводниках. Киев: Наукова думка, 1969.
  136. Ю. К. Физика твердого тела, 1965. 3 7. — с. 1800.
  137. А. Ф., Косиннев Ф. И., Ходос М. Я. Влияние дефектов на оптические свойства фторидов щелочно-земельных и редкоземельных элементов.// «Квантовохимические методы исследования твердого тела», Свердловск, 1984. с. 46 -49.
  138. Е. А. Заряженные центры кислород вакансия в кристаллах LiF, NaCl, CaF2.// Оптика и спектроскопия, 1988. — т. 65. -вып. 5. -с. 1091 — 1095.
  139. Lubezky A., Kozirovski Y., Folman М. Induced IR spectra of N2 and 02 adsorbed on evaporated films of ionic crystals. // J. Phys. Chem., 1993. vol. 97. — № 5. — pp. 1050 -1054.
  140. H. M., Бабенкова Л. В., Савельева Г. А. О современном методе термодесорбции и его использовании в адсорбции и катализе. Алма — Ата: Piayica, 1985.- 85 с.
  141. К. Н., Крылов О. В. Формы адсорбированного кислорода на поверхности окисных катализаторов. // Поверхностные соединения в гетерогенном катализе: Проблемы кинетики и катализа. М.: наука, 1995. — т. 16. — с. 7 — 49.
  142. Е. Н. // Phys. Status soiidi, (а), 1970. vol. 1. — p. 665.
  143. Emelin A.V., Lobiniceva E.Y., Rudakova A.V., Ryabchuk V.K. Photooxidation of H2 and CO on wide bandgap halides.// Book of abstracts of 12-th intern. Conf. «IPS-12», 9−14 august 1998, Berlin. Berlin: 1998. — p. 392.
Заполнить форму текущей работой

Пора сдавать?