Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Кинетика процессов в плазме разряда накачки XeCl-лазера и их влияние на характеристики излучения

ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Несмотря на то, что генерация на молекуле ХеС1 получена более 30 лет назад, существует ряд нерешенных вопросов. И эти вопросы относятся, прежде всего, к динамике протекающих процессов. Плазма объемного электрического разряда с концентрацией электронов ~1015 см-3 до настоящего времени остается недостаточно изученной. Более того, именно эксимерные лазеры стимулируют изучение такой плазмы. Проблема… Читать ещё >

Содержание

  • Глава 1. Электроразрядный ХеС1 лазер, состояние дел на сегодняшний день обзор)
    • 1. 1. Электрические схемы накачки
    • 1. 2. Экспериментальные данные характеристик лазерного излучения
    • 1. 3. Моделирование ХеС1 лазера с однородным разрядом накачки
    • 1. 4. Выводы к главе 1
  • Глава 2. Разряд накачки длительности 50 не
    • 2. 1. Результаты расчета, сравнение с экспериментом
    • 2. 2. Режим с максимальной полученной энергией излучения, результаты расчета
      • 2. 2. 1. Электрические свойства разряда накачки
      • 2. 2. 2. Кинетика эксимерной молекулы ХеС
    • 2. 3. Основные процессы распределения энергии в плазме
      • 2. 3. 1. Передача энергии накачки в активную среду
      • 2. 3. 2. Распределение запасенной энергии
      • 2. 3. 3. Тепловые и другие виды потерь энергии в активной среде
    • 2. 4. Зависимость энергии излучения и эффективности лазера от парциального давления НС
    • 2. 5. Выводы к главе 2
  • Глава 3. Импульс короткой длительности
    • 3. 1. Разряд накачки длительности 30 не
      • 3. 1. 1. Результаты расчета, сравнение с экспериментом
      • 3. 1. 2. Соотношения скоростей и частот некоторых основных процессов
      • 3. 1. 3. Время запаздывания начала излучения
      • 3. 1. 4. Распределение энергии вложенной в разряд по основным процессам
    • 3. 2. Разряд накачки длительности 20 не
      • 3. 2. 1. Электрическая схема, параметры и сравнение с экспериментом
      • 3. 2. 2. Концентрации частиц и частоты рождения-гибели электронов
      • 3. 2. 3. Увеличение мощности вводимой в разряд
    • 3. 3. Выводы к главе 3
  • Глава 4. Разряд накачки длительности ~ 150 не
    • 4. 1. Электрическая схема
    • 4. 2. Сравнение экспериментальных и расчетных данных
    • 4. 3. Режим с зарядным напряжением 36 кВ, результаты и обсуждение
      • 4. 3. 1. Распределение введенной в активную среду энергии по кинетическим процессам
    • 4. 4. Влияние времени запаздывания начала излучения на эффективность лазера
    • 4. 5. Общие закономерности протекания процессов в разрядной плазме в диапазоне энергий накачки 60 — 360 мДж-см"
    • 4. 6. Выводы к главе 4

Кинетика процессов в плазме разряда накачки XeCl-лазера и их влияние на характеристики излучения (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Актуальность темы

До настоящего времени, эксимерный лазер на молекуле ХеС1 является одним из наиболее мощных источников интенсивного ультрафиолетового излучения. Тридцатилетняя история исследований ХеС1-лазера позволила достичь большого прогресса в этой области. На сегодняшний день реализованы как частотные, так и моноимпульсные режимы с генерацией в диапазоне длительностей от десятка до нескольких сотен наносекунд. Большинство лазерных установок, о которых сообщается в литературе, работает в диапазоне удельной энергии излучения 2−3,5 Дж/л при эффективности 2 — 3%. Однако есть сообщения о полученной удельной энергии излучения превышающей 7 Дж/л [6] и эффективности относительно вложенной энергии ~ 5% [5]. Широкий диапазон возможных характеристик излучения, а так же длина волны X = 0,308 мкм, принадлежащая ультрафиолетовой области спектра, позволяют ХеС1-лазеру находить применение в различных областях индустрии, медицины, а так же делают его мощным инструментом научных исследований.

Несмотря на то, что генерация на молекуле ХеС1 получена более 30 лет назад, существует ряд нерешенных вопросов. И эти вопросы относятся, прежде всего, к динамике протекающих процессов. Плазма объемного электрического разряда с концентрацией электронов ~1015 см-3 до настоящего времени остается недостаточно изученной. Более того, именно эксимерные лазеры стимулируют изучение такой плазмы. Проблема состоит в том, что за время длительности импульса накачки сильно изменяются скорости и соотношения скоростей, происходящих в плазме кинетических процессов, именно от этих изменений зависят, как характеристики плазмы, так и характеристики выходного излучения. В свою очередь, сами скорости зависят от совокупности выбранных начальных параметров.

В опубликованных работах по моделированию ХеС1 лазера недостаточное внимание уделялось анализу кинетических процессов. Результатами расчета являлись, как правило, зависимости тока и напряжения от времени, а также энергии и мощности выходного лазерного излучения, которые сравнивались с экспериментальными данными. При этом не было попыток выявить зависимости выходных характеристик лазера от взаимодействия кинетических процессов в плазме, а также получить расчетные результаты и выполнить анализ кинетических процессов для различных режимов накачки в широком диапазоне начальных параметров.

Цель работы. Провести анализ динамики процессов в плазме разряда накачки в широком диапазоне начальных условий. Обосновать возможность получения максимальных характеристик излучения. Выявить процессы, в которых происходят потери энергии в плазме и влияние на них начальных параметров.

Задачи исследований:

• Провести моделирование и сделать анализ кинетических процессов, от которых зависят характеристики излучения. Выявить зависимости характеристик излучения от начальных параметров.

• Определить временные зависимости скорости и частоты процессов ионизации, рекомбинации и прилипания электронов, эффективность создания эксимерных молекул, а также выявить потери энергии.

• Определить процессы, влияющие на время запаздывания генерации относительно накачки, выяснить возможность уменьшения времени запаздывания генерации.

• Определить скорости реакций, в которых происходит разрушение молекул НС1, выяснить возможность уменьшения потерь.

• Выяснить возможность увеличения удельной энергии излучения.

• Определить скорости процессов тушения эксимерных молекул.

Методика исследований. Методом исследований является численное моделирование режимов накачки, отличающихся мощностью накачки, длительностью импульса и составом газовой смеси. Получение временных зависимостей: концентрации электронов, возбужденных и нейтральных частиц, скоростей основных реакций, распределений поглощенной мощности и энергии по процессам.

Положения, выносимые на защиту.

1. Энергия излучения определяется начальной концентрацией молекул НС1 в газовой смеси и эффективностью их преобразования в фотоны индуцированного излучения. С увеличением концентрации молекул НС1 происходит снижение эффективности их преобразования в фотоны. Оптимальная энергия накачки, при заданной концентрации молекул НС1, соответствует условию, при котором выгорание молекул НС1 составляет ~ 80% от начального их значения. Более высокая энергия накачки дает малое приращение энергии излучения и снижает эффективность лазера.

2. В широком диапазоне параметров: удельной энергии накачки (60 + 360) мДж-см" 3, мощности (0.5 ^ 6.0) МВт-см'3 и длительности импульса (20 + 150) не, энергия создания эксимерных молекул составляет (47 ± 3)% вложенной энергии. Оставшаяся часть энергии переходит в тепло по трем каналам в следующем соотношении: процессы тушения возбужденных уровней Хе и НС1 (~30%), преобразование атомарных ионов Хе+ в молекулярные NeXe+ (~15%) и рекомбинация электронов (~ 7%).

3. Энергия возбуждения молекул ХеС1(В, С) и ХеС1(В0С0) составляет -16% от энергии накачки. Тушение этих молекул происходит в столкновениях с электронами, молекулами HCl (v) и атомами неона. Суммарные потери энергии в процессах тушения соизмеримы с энергией индуцированного излучения при оптимальных условиях накачки, и возрастают с увеличением концентрации электронов.

4. Кинетические процессы в плазме разряда накачки ХеС1-лазера позволяют увеличить удельную энергию излучения до 10 Дж/л при эффективности излучения ~1%. Дальнейшее увеличение энергии накачки и содержания НС1, ведет к снижению эффективности.

Достоверность, полученных результатов, подтверждается согласием расчетных зависимостей от времени тока разряда, напряжения на плазме, мощности излучения, а так же значений энергии излучения в широком диапазоне условий: мощности накачки 0.5 — 6 МВт-см', давления 2−6 атм, длительности импульса 20 -150 не и вложенной энергии 60 -350 мДж-см*3, с экспериментальными данными, полученными в работах [6,17,66,29], а также с расчетными результатами других авторов [6].

Научная новизна работы.

1) Впервые проведено систематическое моделирование процессов протекающих в плазме разряда накачки ХеС1-лазера в диапазоне мощностей накачки 0.5 — 6 МВт-см" 3, длительностей импульса 20 — 150 не и вложенной энергии 50 -350 мДж-см" 3.

2) Впервые получено распределение энергии вложенной в плазму по процессам создания лазерного излучения и в реакциях тепловых потерь.

3) Впервые обосновано существование придельного значения удельной энергии излучения с увеличением в активной среде содержания НС1.

Научная ценность работы.

1) На основе расчетных данных выявлены основные каналы потерь поглощенной энергии в плазме, а так же влияние на них таких параметров как мощность накачки, вложенная энергия и состав смеси.

2) Обоснованы оптимальные соотношения начальной концентрации НС1, вложенной энергии и мощности накачки, необходимые для получения максимальной энергии излучения и эффективности преобразования энергии вложенной в плазму в энергию излучения.

Практическая значимость работы.

Полученные результаты позволяют:

1. Выбирать оптимальные начальные параметры для заданных характеристик излучения.

2. Разрабатывать инженерные методы расчета конкретных лазеров.

3. Проводить обучение студентов и аспирантов по специальностям физика плазмы и физика лазеров.

Личный вклад автора заключается в активном участии в постановке задач и целей исследований, проведении расчетов, анализе полученных результатов и формулировке выводов. Все результаты получены лично соискателем или совместно с соавторами при его непосредственном участии.

Апробация работы. Материалы, вошедшие в диссертацию, докладывались на конференциях:

1) 3-rd International Conference «Atomic and Molecular Pulsed Lasers», Томск, сентябрь 1997.

2) Школа-семинар Сибирского физико-технического института, Томск, февраль, 2000.

3) 5-th Russian-Chinese Symposium on Laser Physics and Laser Technology, Томск, октябрь 2000.

4) 4-th International Conference «Atomic and Molecular Pulsed Lasers», Томск, сентябрь 1999.

5) 5-th International Conference «Atomic and Molecular Pulsed Lasers», Томск, сентябрь 2001.

6) 6-th International Conference «Atomic and Molecular Pulsed Lasers», Томск, сентябрь 2003.

7) XXVI-th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, Greifswald (Germany), июль, 2003.

8) .XXVII-th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, Eindhoven (the Netherlands), июль, 2005.

Публикации. Результаты работы опубликованы в отечественной и зарубежной научной печати. По теме диссертации имеется 13 публикаций:

Структура и объем работы. Диссертационная работа изложена на 125 страницах машинописного текста, иллюстрируется 46 рисунками и 8 таблицами. Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения, библиографического списка (69 источников) и приложения (16 страниц).

4.6. Выводы к главе 4.

1. Использование полупроводникового прерывателя позволяет поднимать концентрацию электронов до значений порядка 1015 см" 3 за времена ~5 не. Мощность первого импульса накачки должна быть достаточной для перехода к насыщенной генерации. Это позволяет уменьшить время запаздывания генерации и увеличить эффективность лазера.

2. В широком диапазоне условий накачки, доля от вложенной энергии, которая используется на образование эксимерных молекул, составляет 46−49%. Потери остальной энергии вложенной в плазму происходят в процессах тушения возбужденных уровней Хе, НС1, рекомбинации и конверсии.

3. Процент энергии, которая идет на образование XeCl**, уменьшается до 30−35% в режимах, где выгорает больше 90% содержания НС1 и концентрация электронов достигает значений порядка 1016 см'3, и в режимах, где концентрация электронов не достигает значения 1015 см" 3 (40−45%).

4. Несмотря на то, что ~30% энергии теряется при релаксации эксимерных молекул с верхних колебательных уровней на уровень ХеС1(Ь0), эффективность передачи энергии, запасенной в эксимерных молекулах, в индуцированное излучение определяется процессами тушения эксимеров при столкновении с электронами и тяжелыми частицами.

5. Концентрация электронов ~1015 см" 3 является оптимальной для получения высокой эффективности преобразования энергии накачки в лазерное излучение в XeCl лазера. Такие концентрации обеспечивают достаточные скорости всех процессов важных для получения эксимерных молекул. При этом потери энергии в активной среде оказываются меньше, чем для режимов с большей концентрацией электронов.

Заключение

.

В настоящей работе представлены результаты компьютерного моделирования электроразрядного ХеС1-лазера. Расчеты были проведены в широком диапазоне условий: длительности разряда накачки 20−150 не, мощности накачки 0.5−16 МВт-см" и энергии накачки 60 -420 мДж-см .

В ходе проведенных исследований получены новые расчетные данные динамики изменения концентраций частиц, скоростей процессов. Кроме того, получены распределения мощности и энергии поглощенной в плазме по основным процессам для разных условий возбуждения разряда. На основе анализа полученных данных сделаны следующие выводы.

1. Увеличение частоты прилипания электронов к молекулам HCl (v) с колебательным возбуждением происходит одновременно с ростом частоты ступенчатой ионизации. Этим обусловлена большая скорость образования XeCl** молекул и высокая эффективности их создания.

2. Энергия, вложенная в плазму, расходуется по следующим четырем основным каналам — образование эксимерных молекул, тушение возбужденных состояний Хе и НС1, электрон-ионная рекомбинация и конверсия атомарного иона Хе+ в молекулярный NeXe+.

3. Значительные потери эксимерных молекул происходят в процессах их тушения электронами и молекулами HCl (v). До начала генерации они составляют 80% всех образованных XeCl*. Начало генерации снижает эти потери до 40%.

4. При увеличении мощности накачки, которое необходимо при малой длительности импульса накачки, тушение электронами становится доминирующим процессом. Это затрудняет формирование фотонной лавины и снижает эффективность лазера.

5. Обоснована возможность увеличения удельной энергии излучения путем одновременного повышения концентрации НС1 в газовой смеси и увеличении мощности накачки. При этом увеличиваются потери энергии в процессах тушения, и увеличение удельной энергии излучения происходит при снижении эффективности генерации.

Показать весь текст

Список литературы

  1. V. I., Lisitsyn V. N., Razhev A. M. // Opt. Comm.— 1977. — V. 21. —P. 30.
  2. Makarov M., Bonnet J., Pigache D. High efficiency discharge-pumped XeCl laser // Appl. Phys. B. — 1998. — V. 66. — P. 417−426.
  3. Lacour В., Brunet H., Besaucelle H., Gagnol C. High average power XeCl and pulsed HF chemical lasers //Proc SPIE. — 1992. — V. 1810. —P. 498−503.
  4. Bychkov Yu. I., Vinnik M. L., Makarov M. K. Large-aperture 15-J unswitched electric-discharge XeCl laser with an output energy 15 J // Sov. J. Quantum. Electron. — 1992. — V. 22, № 6. — P. 498−499.
  5. Witteman W.J., van Goor F.A., Timmermans J.C.M., Couperus J. and van Spijker J. Improved x-ray swithched XeCl laser // Proc. CLEO 93. — 1993, Baltimore USA.—paper CthI3.
  6. Riva R., Legentil M., Pasquiers S. and Puech V. Experimental and theoretical investigations of a XeCl phototriggered laser // J. Phys. D: Appl. Phys. — 1995, — V. 28. —P. 856−872.
  7. Lo D., Xie J. G. A megawatt eximer laser of small discharge volume (3.8 cm3) // Opt. and Quantum Electron. —1989. — V.21. — P. 147−150.
  8. Ю.И., Королев Ю. Д., Месяц Г. А. Импульсный разряд в газе в условиях интенсивной ионизации электронами // УФН. — 1978. — Т. 126, № 3. — С. 451−479.
  9. Ю.И., Осипов В. В., Савин В. В. Электоразрядные импульсные лазеры на двуокиси углерода // Газовые лазеры. — Сб. ст. под ред. Р. И. Солоухина. — Новосибирск. — Наука. — 1977. — С. 252 -271.
  10. Palmer P. S. A physical model on the initiation of atmospheric-pressure glow discharges // Appl. Phys. Lett. — 1974. — V. 25, № 3. — P. 138−140.
  11. Taylor R. S., Leopold К. E. Ultralong optical-pulse corona preionized XeCl laser // J. Appl. Phys. — 1989. — V. 65, № 1. — P. 22−29.
  12. Kushner M.S. Microarcs as a termination mechanism of optical pulses in electric-discharge-exited KrF eximer laser // IEEE Trans. Plasma Sci. — 1991. — V. 19, № 2. —P. 387−399.
  13. Bruzzese R., Hogan D. Analysis of temporal-length limitation in XeCl lasers //Nuovo Cim. — 1983. — V. 76B, № 1. — P. 54−61.
  14. Coutts J., Webb C. Stability of transverse self-sustained discharge-exited long-pulse XeCl lasers // J. Appl. Phys. — 1986. — V. 59, № 3. — P. 704−710.
  15. Osborn M., Hutchinson M., Coutts J., Webb C. Output pulse termination of a self- sustained excimer laser // Appl. Phys. Lett. — 1986. — V. 49, № 1. — P. 7−9.
  16. Makarov M. Effect of electrode processes on the spatial uniformity of the XeCl laser discharge // J. Phys. D: Appl. Phys. — 1995. — V. 28. — P. 1083−1093.
  17. Bychkov Yu.I., Losev V. F., Panchenko Yu.N., Yampolskaya S.A., Yastremsky A.G. Peculiarities of short pulse electrical discharge XeCl Laser // Proc. SPIE. — 2003. — V. 5483. — P. 60−65.
  18. V. М., Demin A.I., Eltsov A.V., Khristoforov О.В., Kiryukhin Y.B., Prokofiev A.V., Vinokhodov A.Y., Vodchits V.A. Development of next generation excimer lasers for industrial applications // Proc. SPIE. — 2003. — V. 5137, № 1. — P. 241−249.
  19. Treshchalov A. Influence of dye laser radiation on the preionization and discharge stability of XeCl laser // Proc. SPIE. — 1994. — V. 2206. — P. 314−322.
  20. Basting D., Pippert K., Stamm U. History and future prospects of eximer laser technology // RIKEN Rev. — 2002. —№ 43. — P. 14−22.
  21. Sato Y., Ionue M., Haruta K., Murai Y. High repetition rate operation of a long pulse eximer laser // Appl. Phys. Lett. — 1994. — V. 64, № 6. — P. 679−680.
  22. Giordano G., Letardi Т., Muzzi F., Zheng С. E. Mugnetie pulse compressor for prepulse discharge in spiker-sustainer exitation technique for XeCl lasers // Rev. Sci. Instrum. — 1994. — V. 65, № 8. — P. 2475−2481.
  23. Van Goor F.A., Witteman W. J. High-average power XeCl laser with x-ray pre-ionization and spiker-sustainer exitation // Proc. SPIE. — 1992. — V. 2206. — P. 3040.
  24. B. Lacour, C. Vannier Phototriggering of a 1-J excimer laser using either UV or x-rays // Appl. Phys. — 1987. — V. 62. — P. 754−758
  25. S. Bollanti, P. Di Lazzaro, F. Flora, G. Giordano, T. Hermsen, T. Letardi, C.E. Zheng Performance of a ten-liter electron avalanche-discharge XeCl laser device // Appl. Phys. B. — 1990. — V. 50. — P. 415−423.
  26. Legentil M., Pasquers S., Puech V., Riva R. Breakdown delay time in phototriggered discharges // J. Appl. Phys. — 1992. — V. 72. — P. 879−887.
  27. E. X., Панченко A. H., Тарасенко В. Ф. Эффективный длинноимпульсный XeCl лазер с предымпульсом формируемым индуктивным накопителем энергии // Квантовая электроника. — 2001. — Т. 30, № 6. — С. 506 508.
  28. С.В., Жигалкин А. К., Курбасов С. В. Спектр усиления длинноимпульсного XeCl лазера, измеренный в диапазоне 307−308.8 нм с разрешением 1 см"1 // Квантовая электроника. — 1995. — Т. 22, № 5. — С. 455−457.
  29. Bernard N., Hofinann Т., Fontaine В.В., Delaporte Ph., Sentis М., Forestier В. Small volume long pulse x-ray preionized XeCl laser whith double discharge and fast ferrite magnetic switch // Appl. Phys. B. — 1996. —V. 62. —P. 237- 240.
  30. Т., Bernard N., Fontaine B.B., Delaporte Ph., Sentis M., Forestier B. 200 W spiker-sustainer XeCl laser // Proc. SPIE. — 1994. — V. 2206. —P. 46−51.
  31. Champagne L., Dudas A., Harris N. Current rise-time limitatin of the large volume x-ray preionized discharge-pumped XeCl laser // J. Appl. Phys. — 1987. — V. 62, № 5. — P. 1576−1583.
  32. Long W., Plummer M., and Stappaerts E. Efficient discharge pumping of an XeCl laser using a high-voltage prepulse // Appl. Phys. Lett. — 1983. — V.43, № 8.1. P. 735−737.
  33. В., Коновалов И. Н. Электроразрядный XeCl лазер с КПД 4% и энергией генерации 15 Дж // Квантовая электроника. — 1996. — Т. 23, № 9. — С. 787−790.
  34. Fisher С., Kushner М., DeHart Т., McDaniel J., Pert R., and Ewing J. High efficiency XeCl laser with spiker and magnetic isolation // Appl. Phys. Lett. — 1986. — V. 48, № 23. — C. 1574—1576.
  35. Osborne M., Smith P., and Hutchinson M. Effect of gas composition and purity on eximer laser operation // Opt. Comm. — 1985. — V. 52, № 6. — P. 350−354.
  36. Bychkov Yu, Makarov M., Suslov A., Yastremsky A. //Rev. Sci. Instrum. —1994. —V.65,№ 1. —P. 28−33.
  37. J., Ernst G. // Appl. Phys. B. — 1988. — V. 46. — P. 205- 210.
  38. Hasama Т., Miyazaki K., Yamada K., and Sato T 50 J discharge-pumped XeCl laser // IEEE Quantum Electr. — 1989. — V.25, № 1. — P. 113−120.
  39. Lacour В., Besaucele H., Brunet H., Gagnol C., and Vincent B. Study of a photoswitched discharge for eximer laser // Proc. of Int. Conf. Gas and Chemical Lasers. —1996. —P. 425−432.
  40. Komi T. and Sugii M. Compact semi-sealed-off, high-repetition-rate XeCl laser with a surface-wire-corona preionization // Rev. Sci. Instrum. — 1994. — V. 65. — P. 7.
  41. . K., Toda Y., Hasama Т., Sato T. // Rev. Sci. Instrum. — 1985.1. V. 56. —P. 2.
  42. Steyer M., Bin O., Stankov K., Szabo G., Mizoguchi H., Schafer F. Wide aperture x-ray preionized eximer laser with variable cross-section using flat electrodes // Proc. SPIE.— 1988. — V.1023. — P. 75−79.
  43. Taylor R.S., Leopold K.E. Pre-preionization of a long optical pulse magnetic-spiker sustainer XeCl laser // Rev. Sci. Instrum. — 1994. — V. 65, № 12. — P. 3621−3627.
  44. Bollanti S., p. Di. Lazzaro, Flora F., Giordano G., Letardi Т., Schina G., Zheng C.E. Ianus, the three-electrode eximer laser // Appl. Phys B. —1998. — V. 66. — P. 401−406.
  45. Gerritsen J. W., L.A. Keet and Ernst G. J., Witteman W.J. High-efficiency operation of a gas discharge XeCl laser using a magnetically induced resonant voltage overshoot circuit // J. Appl. Phys. — 1990. — V. 67, № 7. — P. 3517−3519.
  46. Ю.Н., Иванов Н. Г., Лосев В. Ф. Особенности формирования активной среды в короткоимпульсном электроразрядном XeCl лазере // Квантовая электроника. — 2000. — V. 35, № 9. — С. 816−820.
  47. Т. Н., Palumbo L. J., Hunter А. М. Kinetics simulation of high-power gas laser // IEEE J. Quantum Electron. — 1979. — V. QE-15, № 5. — P. 289−301.
  48. Levin L. A., Moody S. E., Klosterman E. L., Center R. E. Kinetic model for long-pulse XeCl laser performance // IEEE J. Quantum Electron. — 1981. — V. QE-17, № 12, —P. 2282−2289.
  49. A.B., Кочетов И. В., Напартович А. П., Капителли М., Горсе К., Лонго С. Моделирование 10-литрового электроразрядного XeCl-лазера // Квантовая электроника. — 1992. — Т. 19, № 9. — С. 848−852.
  50. Riva R., Legentil М., Pasquiers S. and Puech V. Ionization-attachment balance in neon-HCl pulsed discharges // J. Phys. D: Appl. Phys. V. — 1993. —V. 26. — P. 1061−1066.
  51. Maeda M., Takahashi A., Mizunami Т., Miyazoe Y. Kinetic model for self-sustained discharge XeCl lasers // J. Appl. Phys. 1982. — V. 21, № 8. — P. 1161−1169.
  52. Kvaran A., Shaw М and Simons J. // Appl. Phys. В. —1988. — V. 46. —1. P. 95.
  53. Tisone G., Hoffman J. Study of the XeCl laser pumped by a high-intensity electron beam // IEEE J. Quant. Electron. —1982. — V.18, № 6. — P.1008—1020.
  54. Domcke W. Mundel C. Calculation of cross sections for vibrational excitation and dissociative attachment in HC1 and DC1 beyond the local-complex-potential approximation // J. Phys. B: At. Mol. Phys. — 1985. — V. 18. — P. 4491−4509.
  55. Longo S., Gorse C., Capitelli M. Open problems in the XeCl laser Physics // IEEE Trans. Plasma Sci. — 1991. — V. 19, № 2. — P. 379−386.
  56. Longo S., Capitelli M., Gorse C., Demyanov A. V., Kochetov I. V., Napartovich A. P. Non-Equilibrium vibrational, attachment and dissociation kinetics of HC1 in XeCl Selfsustained laser discharges // Appl. Phys. B. — 1992. —V. 54. — P. 239−245.
  57. Rockwood S. D. Elastic and inelastic cross section for electron-Hg scattering from Hg transport data // Phys. Rev. A. — 1973. —V. 8, № 5. — P. 23 482 358.
  58. Gorse C., Capitelli M., Dipace A. Time-dependent Boltzmann equation in a self-sustained discharge XeCl laser: Influence of electron-electron and superelastic collisions // J. Appl. Phys. — 1990. — V. 67, № 2. — P. 1118−1120.
  59. Stielow G., Hammer Th. and Botticher W. Verification of a XeCl* laser model by measurement of the plasma conductivity // Appl.Phys.B — 1988. — V. 47 — P. 333−342.
  60. Loffhagen D., Winkler R. A New nonstationary boltzmann solver in self-consistent modelling of discharge pumped plasmas for eximer lasers // J. Сотр. Phys. — 1994. —V. 112, № 1.— P. 91−101.
  61. Bychkov Yu.I., Losev V. F., Panchenko Yu.N., Yastremsky A.G., Yampolskaya S.A. Researches of short pulse discharge Xecl laser // Proc. SPIE. —2004. — V. 5777.—P. 558−561.
  62. Sherman В. The difference-differential equation of electron energy distribution in gas // J. of Math. Analysis and Appl. 1960. — N.l. — P.342 — 354.
  63. Fletcher C.A.J. Computational Galerkin Methods // Springer, New-York, 1984.
  64. A.E., Численные методы для ПЭВМ на языках Бейсик, Фортран и Паскаль // Радио и связь. -1991.- Томск, С. 270.
Заполнить форму текущей работой