Контроль качества и прогнозирование надежности изделий электронной техники по электрофизическим параметрам
Диссертация
Основные результаты диссертационной работы были доложены на 11-ом Всесоюзном совещании по физике отказов АН СССР (г. Москва, 1979), на Всесоюзных научно-технических конференциях «Оптические, радиоволновые и тепловые методы и средства неразрушающего контроля качества промышленной продукции» (г. Одесса, 1977, г. Могилев, 1984, г. Саратов, 1991, г. Ульяновск, 1993, 2000) — на ежегодных семинарах… Читать ещё >
Содержание
- Глава 1. Физические процессы старения в оксидных конденсаторах и методы контроля их качества и прогнозирования надежности
- 1. 1. Пробой и электрическое старение металлооксидных диэлектрических пленок
- 1. 2. Перенос кислорода и электростимулированный рост кристаллов Ta205 (Nb205) в конденсаторной системе металл -анодный оксид — электролит. Изотопные исследования
- 1. 3. Кинетика электростимулированного роста кристаллов Та
- Nb2Os) в конденсаторной системе металл — анодный оксид -электролит
- 1. 4. Влияние структуры оксида и межфазовой границы раздела металл — оксид на кинетику процесса электростимулированного роста кристаллов Та205 и Nb
- 1. 5. Кинетика процесса развития пробоя аморфных металлооксидных диэлектриков
- 1. 6. Процессы электрического старения оксидного диэлектрика и модели прогнозирования долговечности конденсаторов
- 1. 7. Возможности прогнозирования показателей надежности оксидных конденсаторов по результатам испытаний в динамических режимах нагружения
- 1. 8. Структурно-чувствительные и кинетические свойства и диагностика металлооксидных конденсаторных диэлектриков
- 1. 9. Методики определения характеристических параметров кинетики электрического разрушения металлооксидных пленок в рабочей структуре электролитических конденсаторов
- 1. 10. Возможности прогнозирования временной стабильности свойств оксидного конденсаторного диэлектрика и отбраковки потенциально ненадежных изделий
- 1. 11. Возможности улучшения эксплуатационных свойств конденсаторов с оксидным диэлектриком
- Выводы
- Глава 2. Контроль качества фоторезисторов по совокупности электрофизических параметров и математическое моделирование их отказов
- 2. 1. Определение информативных параметров фоторезисторов для индивидуального прогнозирования их надежности
- 2. 2. Экспериментальные исследования оценки качества и прогнозирования надежности по коэффициенту низкочастотного шума
- 2. 2. 1. Определение рациональных режимов измерения коэффициента низкочастотного шума. щ 2.2.2. Выявление потенциально ненадежных фоторезисторов по коэффициенту низкочастотного шума
- 2. 2. 3. Взаимосвязь низкочастотного шума с дефектами фоторезисторов
- 2. 3. Аппаратная реализация метода неразрушающего контроля качества фоторезисторов
- Ф 2.3.1. Принцип измерения уровня низкочастотного шума фоторезисторов
- 2. 3. 2. Основные технические характеристики измерителя низкочастотных шумов фоторезисторов
- 2. 3. 3. Структурная схема измерителя низкочастотных шумов фоторезисторов
- 2. 4. Анализ качества функционирования фоторезисторов с учетом деградации информативных электрофизических параметров
- Выводы
- Глава 3. Методы и средства отбраковки потенциально ^ ненадежных полупроводниковых приборов по шумовым характеристикам при ускоренных испытаниях
- 3. 1. Постановка задачи и выбор объекта исследования
- 3. 2. Разработка эквивалентной схемы возникновения низкочастотного шума в исследуемом полупроводниковом приборе
- 3. 3. Выбор и обоснование метода измерения низкочастотного шума
- 3. 4. Моделирование отказов полупроводниковых приборов по электрофизическим параметрам
- 3. 4. 1. Физическое и математическое моделирование
- 3. 4. 2. Прогнозирование безотказной работы Ш полупроводниковых приборов при линейном законе деградации электрофизических параметров
- 3. 5. Экспериментальное исследование зависимости уровня низкочастотного шума полупроводниковых приборов при ускоренных испытаниях
- 3. 5. 1. Выбор режимов проведения эксперимента
- Ф 3.5.2. Анализ результатов эксперимента
- 3. 5. 3. Теоретическая интерпретация результатов эксперимента
- Выводы
- Глава 4. Методы и приборы неразрушающего контроля качества и прогнозирования надежности транзисторов и операционных усилителей по уровню их низкочастотных шумов
- 4. 1. Выбор объекта исследования и его характеристика
- 4. 2. Разработка физических эквивалентных схем операционных усилителей
- 4. 3. Методы и аппаратура для измерения низкочастотных шумов операционных усилителей
- 4. 4. Прогнозирование надежности операционных усилителей по уровню их низкочастотных шумов
- Выводы
Список литературы
- Воронцов В.Н., Кристалннский JT.JT. Определение информационных параметров для индивидуального прогнозирования надежности фоторезисторов СФ2−12 //Электронная техника.- Сер.8.- 1977.- № 5.-С.43−49.
- Воронцов В.Н., Кристалинский JI.JT., Розин И. Т. Индивидуальное прогнозирование надежности фоторезисторов на основе статистической теории распознавания образов //Электронная техника.-Сер.8.- 1978.- № 6.-С.З-8.
- Врачев А.С. Низкочастотный шум и надежность полупроводниковых приборов //Труды МЭИ.- 1977.- Вып.334.- С.78−80.
- Гольперин Б.С. О токовых шумах в неметаллических резистивных материалах //Электронная техника. Сер.8: 1967.- Вып.4.
- Галикман Б.Ю. Разработка и внедрение в производство методов неразрушающего контроля качества и надежности радиодеталей //Электронная техника. Сер.8.- 1972.- Вып.9.- С.21−24.
- Геликман Б.Ю., Кристалинский JT.JT. Применение методов неразрушающего контроля при производстве резисторов и конденсаторов //Электронная техника. Сер.8.- 1973.- Вып.6.- С.16−18.
- Карба Л.П., Карпов Ю. С. Электронные флуктуации в фоторезисторах //Радиотехника и радиоэлектроника. 1970.- Т.15.- № 9.- С.30−33.
- Нарышкин А.К., Врачев А. С. Теория низкочастотного шума. -М.: Энергия, 1972.
- Шнайдерман Н.А. Новые методы неразрушающего контроля качества и технической диагностики: Обзор //Зарубежная радиоэлектроника .1974 .-№ 3 .- С. 54.
- Сотсков Б.С. основы теории и расчета надежности элементов и устройств автоматики и вычислительной техники. -М.: Высшая школа, 1970.
- З.Чернышев А. А. Основы надежности полупроводниковых приборов и интегральных схем. М.: Радио и связь, 1988.
- Данилин Н.С. и др. Обеспечение качества РЭА методами диагностики и программирования.-М.: Изд-во стандартов, 1983. -224с.
- Некрасов М.М., Платонов В. В., Дадео Л. И. Неразрушающие методы обеспечения надежности радиоэлектронной аппаратуры. -Киев.: Техника, 1980.
- O’Connor P.D.T. Reliability prediction- Help or hoax? //Solid State Technology.-1990. Vol.33. — N 8. — P.59−61.
- Allan R.J., Roesch W.J. Reliability prediction: the applicability of high temperature testing //Solid State Technology.- 1990. Vol.33.- N 9.- P. 103 108.
- Воронцов B.H., Геликман Б. Ю., Кристалинский Л. Л. Прогнозирование надежности радиодеталей (резисторов и конденсаторов). Л.: ЛДНТП, 1982.-28 с.
- Одынец JI.JI., Орлов В. М. Анодные оксидные пленки. JL: Наука, 1991.-200 с.
- Lomer P.D. Dielectric strength of aluminium oxide films. // Proc. Phys. Soc. 1950. — V.8.- N 6, — P.797−798.
- Kawamura H., Azuma K. Dielectric breakdown of thin aluminium oxide film. // Journ. Phys. Soc. Japan. 1953. — V.8, N.6, — P.797−798.
- Одынец JI.JI., Платонов Ф. С., Савина Г. М. Электрическая прочность оксидных пленок на вентильных металлах. 1. Электрический пробой оксидных пленок на тантале и цирконии при постоянном напряжении. //Изв. ВУЗов: Сер. Физика. 1967.-№ 1.-С. 121−126.
- Пассивные радиокомпоненты. Часть 1: Электрические конденсаторы С. Д. Ханин, А. И. Адер А.И., В. Н. Воронцов, О. В. Денисова: Учеб.пособие.-СПб.: СЗПИ, 1998.
- Прокопчук Е.М. Некоторые закономерности пробоя анодных оксидных пленок в системе металл окисел — металл // Анодные оксидные пленки: Межвуз. сб. науч. тр. — Петрозаводск: ПГУ, 1978. — с. 150−157.
- Прокопчук Е.М., Платонов Ф. С., Шинкарчук А. В. Электрический пробой анодных оксидных пленок. // Анодные оксидные пленки: Межвуз. сб. науч. тр. Петрозаводск: ПГУ, 1978. — С. 158−165.
- Ханина Е.Я. Искрение в системах металл окисел — электролит и металл — окисел — Мп02 — электролит // Анодные оксидные пленки: Межвуз. сб. ПГУ. — Петрозаводск, 1978. — С. 138−150.
- Ханина Е.Я. Физико-химические процессы при образовании окисных пленок: Автореф. дис. канд. хим. наук/ Инст. электрохимии АН СССР.- М., 1983.- 16 с.
- Малиненко В.П., Платонов Ф. С. Физика диэлектриков. Сильные поля: Учеб пособие- Петрозаводск: Петрозаводский государственный университет, 1984. 78 с.
- Larin Н.В. Mechanism of electrolytic rectification // Journ. Electrochem. Soc. 1952. — V.99.- № 1.-P.30−35.
- Ulrich D. Die Sprunge des Formierungs-Gradienten bei der anodischen Oxydschichtbildung von Aluminium und Tantal in wabrigen Elektrolyten. // Z. Hochschule Elektrotechn. 1957. — Bd.3. — S.65−66.
- Воробьев A.A., Воробьев Г. А. Электрический пробой и разрушение твердых диэлектриков. -М.: Высшая школа, 1966. 224 с.
- Just G. Die Durchschlagsfestigkeit auberst diinner Ta2Os Schichten in Abhangigkeit von der Schichtdicke// Z. Physik.- 1936.- Bd.82.- № 1−2. -S.l 19−133.
- Betz H. Die Durchschlagsfestigkeit auberst diinner Ta205 und A1203 -Schichten in Abhangigkeit von der Schichtdicke// Z. Physik 1936.- Bd.83.-№ 9−10. — S.644−649.
- Pakswer S., Pratiniclinik K. Negative resistance in thin anodic oxide films. // Journ. Appl. Phys., 1963. — V.34.- № 3. — P.711−716.
- Shousha A.H.M. Filamentary breakdown in thin anodic films. // Journ. Non-Cryst. Solids. 1975. — V. 17.- N 1. — P.100−108.
- Воробьев Г. А., Мухачев B.A. Пробой тонких диэлектрических пленок. -М.: Сов. радио, 1977. 70с.
- De Wit H.J., Wijenberg Ch., Gevercouer С. The Dielectric breakdown of anodic aluminium oxide. // Journ. Electrochem. Soc. 1976. — V.123.-N 10, — P.1480−1486.
- Гюнтершульце А., Бетц Г. Электролитические конденсаторы. М.: Оборонгиз, 1939. — 200 с.
- Klein N. Electrical breakdown in thin dielectric films. // Journ. Electrochem. Soc. 1969. — V. 116. — N 7. — P.963−972.
- Yahalom J., Zahavi J. Electrolytic breakdown crystallization of anodic oxide films on Al, Taund Ti. //Electrochim. Acta. 1970. -V. 15. — P. 1429−1433.
- Burger F., Wu I.C. Dielectric breakdown in electrolytic capacitor // Journ. Electrochem. Soc. 1971. — V. l 18. — N 11, — P.2039−2042.
- Маркова M.E., Чернышев B.B., Войщев B.C. Исследование процессов искрения при формовке анодов электролитических конденсаторов. // Изв. ВУЗов. 1966. — Вып.57. — С. 156−160.
- Лалэко B.A., Шмидт T.B. Исследование электрического пробоя некристаллического окисла тантала // Физ. тв. тела. 1989. — Т.31.-№ 2.-С. 187−192.
- Ершова Н.Ю., Лалэко В. А., Шмидт Т. В. Исследование электрического пробоя в окислах тантала, алюминия и кремния // Физика окисных пленок: Тез. докл. Всесоюзной конф. -Петрозаводск, 1987. С.75−76.
- Лалэко В.А., Ершова Н. Ю. Исследование электрического пробоя анодного окисла алюминия // Изв. ВУЗов: Физика. 1990. — № 4. -С.25−28.
- Klein N., Albert М. Electrical breakdown of aluminum oxide films formed flanked by metallic electrodes// Journ. Appl. Phys. 1982. — V.53. — № 8. -P.5840−5850.
- De Wit H.J., Grevecour G. Electrical breakdown of anodic aluminum oxide // Phys. Lett. 1974. — V.50A, № 5. — P.365−366.
- Schwartz N., Gresh M. Effect of ambient and contact area on the asymmetric conduction of anodic tantalum oxide films // Journ. Electrochem. Soc. 1965. — V. l 12. — № 3. -P.295−300.
- Axelrod N.N., Schwartz N. Asymmetric conduction in thin films Та (Та oxide) metal structures. Interstitial an substitutional impurity effects and direct detection of flow breakdown // Journ. Electrochem. Soc. 1969. -V. 116.- № 4. — P.460−465.
- Мирзоев P.A., Давыдов А. Д. Диэлектрические анодные пленки на металлах. // Итоги науки и техники. Сер. Коррозия и защита от коррозии.- 1990. Т.16. — С.89−143.
- Харитонов Е.В. Диэлектрические материалы с неоднородной структурой. -М.: Радио и связь, 1983. 127 с.
- Платонов Ф.С. Электрическая прочность оксидных пленок на вентильных металлах. II. О времени запаздывания разряда в тонких оксидных пленках на алюминии и тантале // Изв. ВУЗов: Физика. -1967. № 2. — С.7−12.
- Лалэко В.А. Экспериментальное изучение предпробивных токов в диэлектрических слоях // Физика диэлектриков: Пробой и электрическое старение диэлектриков: Тез. докл. Всесоюзной конф. -Томск, 1983.-С. 16.
- Klein N. Electrical breakdown in insulators by one-carrier impact ionization. // Journ. Appl. Phys. 1982. — V.53. — № 8. — P.5828−5839.
- Klein N. Electrical breakdown mechanisms in thin insulators // Thin Solid Films. 1978. — V.50.- № ½. — P.223−232.
- Klein N., Solomon P. Current runaway in insulators affected by impact ionization and recombination // Journ. Appl. Phys. 1976. — V.47. — № 10. -P.43 64−43 72.
- Kashat J., Klein N., Current runaway in insulators affected by impact ionization and drift // Journ. Appl. Phys., 1977. — V.48 .- № 12. — P.5217−5226.
- Кинетика нарушения электрической прочности в пленках окислов / И. А. Сербанов, В. В. Фролов, В. В. Салун, Л. А. Рябова // Физика окисных пленок: Тез. докл. II Всесоюзной конф. Петрозаводск, 1987. — 4.1. -С.45.
- Klein G.P., Jaeger N.I. Electron injection into anodic tantalum oxide enhanced by ionic interface polarization // Journ. Electrochem. Soc. 1970. — V. l 17.- № 10. — P.1423−1435.
- Jaeger N.I., Klein G.P., Myzvabghes M. Electron injection in valve metal oxides//Journ. Electrochem. Soc. 1972. — V. l 19.-№ 11. — P. 1531−1538.
- Klein G.P., Jaeger N.I. Electron injection and interfacial reactions at valve metal oxides // Thin Solid Films. 1977. — V.43 .- № ½. — P. 103−131.
- Лалэко В.А., Одынец Л. Л., Зайденберг А. З. Исследование процесса «активации» проводимости (деградации) анодных пленок на тантале в сильных электрических полях // Электрохимия. 1981. — Т. XVII, № 8. -С. 1246−1248.
- Лалэко В.А., Райкерус П. А. Исследование необратимых изменений проводимости окисных пленок на тантале в сильных электрических полях//Журн. техн. физики. 1982. — Т.52 № 1. — С. 134−135.
- Лалэко В.А., Одынец JI.JI., Стефанович Г. Б. Ионный ток и кинетика «активации» проводимости (деградации) анодных окисных пленок на тантале в сильных электрических полях // Электрохимия. 1982. — Т. XVIII.- № 6. — С.833−836.
- Лалэко В.А., Райкерус П. А. О механизме изменений проводимости некристаллического окисла тантала при деградации в сильном электрическом поле // Журн. техн. физики. 1984. — Т.54.- № 1. — С.200−202.
- Лалэко В.А., Райкерус П. А. Исследование переноса заряда в тонких диэлектрических пленках окисла тантала // Физика диэлектриков. Явления в тонкопленочных системах и на границах раздела: Тез. докл. Всесоюзной научн. конф. Баку, 1982. — С.73−74.
- Klein N. Electrical breakdown in thin dielectric films // Journ. Electrochem Soc. 1969. — V. l 16, N 7. -P.973−979.
- Костров Д.В., Мирзоев P.A. Тепловой пробой диэлектрических анодных пленок // Электрохимия. 1987. — T.XXIII.- № 5. — С.595−601.
- Мирзоев Р.А. Тепловой пробой анодных пленок при наличии поверхностной проводимости границы оксид электролит // Электрохимия. — 1987. — T.XXIII.- № 5. — С.676−679.
- Харитонов Е.В., Ермолина Э. И. Кинетические эффекты в диэлектриках при тепловой неустойчивости // Физ. тв. тела. — 1987. Т.29 .- № 4. -С.977−984.
- Лалэко В.А. Факторы, определяющие электрический пробой анодного окисла алюминия // Физики окисных пленок: Межвуз. сб. науч. тр. -Петрозаводск: ПГУ, 1987. С.73−77.
- Костылев С.А., Шкут В. А. Электронное переключение в аморфных полупроводниках. Киев: Наукова думка, 1978. — 203 с.
- Долговечность и механизм старения оксидно-полупроводниковых конденсаторов /Копач В.Р., Поздеев Ю. Л., Столов JI.A., Скатков И. Б. // Электронная техника. Сер.8. Управление качеством, стандартизация, метрология, испытания. 1979. — Вып.1(71). — С.32−35.
- Харитонов Е.В. Модели долговечности конденсаторных структур и кинетика изменения вольтамперных характеристик // Электронная техника. Сер.8. Управление качеством, стандартизация, метрология, испытания. 1982. — Вып.3(95). — С.23−24.
- Thomas О., Heurle М., Charai A. Reacted amorphous layers: tantalum and niobium oxides // Phil. Mag. B. 1988. — V.58, № 5. — P.529−538.
- Юнг Л. Анодные оксидные пленки. Л.: Энергия, 1967. — 232 с.
- Дьяконов М.Н., Муждаба В. М. Ханин С.Д. Современные представления о механизме электропроводности оксидного диэлектрика конденсаторов. // ЦНИИ «Электроника». Обзоры по электронной технике. Сер.5. Радиодетали и радиокомпоненты, 1982. -Вып.3(866). 40 с.
- Ханин С.Д. Проблемы электрофизики металлооксидных конденсаторных диэлектриков// ЦНИИ «Электроника». Обзоры поэлектронной технике. Сер.5. Радиодетали и радиокомпоненты .- 1990. -Вып. 1 (1524).-57 с.
- Vermileya D.A. The Crystallization of anodic tantalum oxide films in the presence of a strong electric field // Journ. Electrochem. Soc. 1955. -V.l02 .-N22, P.207−215.
- Franklin R.W. Electrolytic capacitor // Proc. Inst. Electric Eng. 1962. -V.B109, suppl., N 22. — P.525−536.
- Brettle J., Jackson N.F. Failure mechanisms of solid electrolytic capacitors // Electrocomp. Science Technol. 1977. — V.3. — P.233−246.
- Goudswaard В., Dreisens F.J.J. Failure mechanism of tantalum capacitors // Electrocomp. Science Technol. 1976. — V.2. — P. 171−179.
- Shwartz N, Gresh M., Karlik S. Niobium solid electrolytic capacitors //Journ. Electrochem. Soc. 1961. — V. l 08. — № 8. — P.750−757.
- Прохорова JI.A. Полевая кристаллизация анодных оксидных пленок на ниобии // Анодные оксидные пленки: Межвуз. сб. науч. тр. -Петрозаводск: ПТУ, 1978. -С.70−79.
- Прохорова JI.A., Чекмасова С. С. Применение метода частотных характеристик для анализа изменений, происходящих в конденсаторных системах металл окисел — электролит // Анодные оксидные пленки: Межвуз. сб. науч. тр. — Петрозаводск: ПТУ, 1978. -С.181−189.
- Hasegawa Y., Morimoto К. Characteristics and failure analysis of solid tantalum capacitors// Nec. Res. Developm. 1978. — № 50. — P.79−94.
- Vermileya D.A. Nucleation of crystalline Ta205 during field crystallization // Journ. Electrochem. Soc. 1957. — V. l04 .- № 9. — P.542−546.
- Jackson N.F. Field crystallization of anodic films on tantalum // Journ. Appl. Electrochem. 1973. -№ 3. -P.91−98.
- Vermileya D.A. Effect of ultraviolet irradiation on the growth of anodic Ta205 films// Journ. Electrochem. Soc. 1957. — V.104. — № 4. -P.212.
- Ohrlein G.S., d’Heurle E.M., Reisman A. Some properties of crystallized tantalum pentoxide thin films on silicon// Journ. Appl. Phys. -1984. V.35. — № 10. — P.3715−3725.
- Галкин Г. И., Маркова H.E. Кристаллизация и структура барьерных анодно-оксидных пленок тантала // Физика диэлектриков и перспективы ее развития. Тонкие диэлектрические пленки: Материалы Всесоюзной конф. Л., 1973. -Т.З. -С.244.
- Малюк Е.И., Чернякова JI.E. Исследование кристаллизации анодного оксидного слоя на ниобиевой фольге // Украинский физ. журн. 1973. — Т. 39. — № 1. — С. 45−48.
- Одынец Л.Л. Модель полевой кристаллизации в системе металл -оксид — электролит // Электрохимия. 1987. — T.XXIII. — № 12.- С. 1703−1706.
- Одынец Л.Л. Модель полевой кристаллизации в системе металл -окисел электролит // Физика окисных пленок: Тез. докл. Всесоюзной конф. — Петрозаводск, 1987. — С.36.
- Колмогоров А.Н. К статистической теории кристаллизации металлов. // Изв. АН СССР. Сер. Математ. 1937. — Т.З. — № 3. — С. 355 359.
- Исследование процессов старения оксидных слоев на алюминии и тантале, а также элементов конструкции конденсаторов при электротепловом нагружении: Отчет о НИР /НИИ «Гириконд" — Рук. Ю. М. Мудролюбов, С. Д. Ханин. № ГР 6 005 807. — Л., 1988. — 79 с.
- Шульгин Е.И. Феноменологическое описание некоторых типичных процессов отказов изделий и материалов электронной техники //Физика отказов: Тез. докл. -М.: Наука, 1979.
- Вопросы качества радиодеталей /Б.Ю.Геликман, Г. А. Горачева, В. В. Стальбовский, Л. Л. Кристалинсий, под ред. А. П. Балашова. -М.: Сов. радио, 1980 .-328с.
- Кофстад П. Отклонение от стехиометрии, диффузия и электропроводность в простых окислах металлов. М.: Мир, 1975. -396 с.
- Швайко-Швайковский В. Е. Особенности ионного транспорта в тугоплавких оксидах с отклонением от стехиометрии. // ДАН СССР. -Т.273. № 5. — С. 1150−1152.
- Овчинников В.В. Отклонение от стехиометрии в анодных оксидных пленках. // Физ. хим. обраб. матер. 1987. — № 1. — С.89−94.
- Овчинников В.В. Теория ионной проводимости в тонких оксидных пленках при одновременном переносе анионов и катионов. // Электрохимия. T.XXIV.- № 9. — С.1163−1169.
- Transformation in a metal/insulator/semiconductor structure with an amorphous insulator film caused by contacts /B.T.Boiko, P.A.Pancheha, V.R.Kopach et al. //Thin Solid Films. 1985. — V.130 .-№ ¾. — P.341−345.
- Межфазное взаимодействие на границе с окислом в слоистых системах / Б. Т. Бойко, П. А. Панчеха, В. Р. Копач, Ю. Л. Поздеев // Украинский физ. журн. 1982. — Т.27 .-№ 11.- С. 1684−1687.
- Наблюдение стимулированных электрическим током структурных превращений в системе металл диэлектрик — полупроводник / Б. Т. Бойко, П. А. Панчеха Ю.Л.Поздеев, В. Р. Копач // Поверхность. Физика, химия, механика. — 1983 .- № 12. — С.84−92.
- Kinetic measurements of oxygen dissolution into niobium substractes: in situ X-ray photoelectron spectroscopy study /B.R.King, H.S.Patel, D.A.Gulino, B.J.Tatarchuk //Thin Solid Films. 1990. — V.192 .- № 2. -P.351−369.
- Шишкин Ю.П. Некоторые закономерности, связывающие физико-химические и диэлектрические свойства вещества //
- Электронная техника. Сер.5. Радиодетали и радиокомпоненты. 1972.- Вып.2(27). С.63−71.
- Dreiner R. Temperature dependence of the field coefficient for the anodization of tantalum //Journ. Electrochem. Soc. 1964. — V.III.- E.M. 4. -P.1350−1355.
- Argall F., Jonscher A.K. Dielectric properties of thin films of aluminium oxide and silicon oxide // Thin Solid Films. 1968. — V.2 .- № 3.- P.185−211.
- Кубашевский О., Гопкинс Б. Окисление металлов и сплавов. -М.: Металлургия, 1965. 428 с.
- Влияние ориентации монокристаллов на вторичную ионно-ионную эмиссию /М.А.Васильев, И. А. Запорожец, С. П. Чепахин, В.Т.Черепин// Взаимодействие атомных частиц с твердым телом: Сб. статей. Харьков, 1976. — С.98−101.
- Влияние сверхвысоковакуумной термообработки ниобия на электрофизические свойства его анодного оксида /В.М.Орлов, Т. И. Рюнгенен, А. В. Новотельнова, С. Д. Ханин //Высокочистые вещества. 1989.- В.6. — С. 193−197.
- Структурные превращения на границе металл-аморфный окисел. /Л.А.Алешина, В. П. Малиненко, А. Д. Фофанов, Н.М.Яковлева// Анодные окисные пленки: Межвуз. сб. науч. тр. Петрозаводск: ПТУ, 1978. — С.44−58.
- Авдеев А.Л. Изучение ионных процессов при электрическом старение двуокиси титана (рутила): Автореф. дис.канд. техн. наук. — Л.: ЛПИ, 1970.- 16 с.
- Штурбина Н.А., Погуляев В. В. Влияние термополевой обработки на электрофизические характеристики анодного оксида тантала // Известия ВУЗов. Физика. 1991. — № 9.
- Ханин С.Д. Проблемы электрофизики металлооксидных конденсаторных диэлектриков// ЦНИИ «Электроника»: Обзоры по электронной технике. Сер.5. Радиодетали и радиокомпоненты. 1990. -Вып. 1(1524). — 57 с.
- Михлин B.C. Физическое прогнозирование отказов оксидно-полупроводниковых конденсаторов //Физика отказов: Тез. докл. — М.: Наука, 1979.
- Юсов Ю.П. Электрофизическое диагностирование ИЭТ // Электронная промышленность 1990. — В.6. — С.5−8.
- Pawell R.E., Campbell J.J. The Influence of alloing elements on oxygen diffusion and flexure in tantalum base alloys // Acta Metal. 1981. -V.29. — № 5. -P.809−817.
- Сердюк Г. Б. Теория и методы интегральной диагностики по нелинейным эффектам и переходным процессам //Методы и средства интегральной диагностики.- Киев, 1984 .- С.4−11.
- Белянков К.В., Концевой Ю. А., Павлов Э. В. Определение параметров скрытого канала ПЗС по изменению ВАХ и ВФХ тестовых транзисторов //Электронная техника. Сер.2 .- 1984 .- Вып. З, С.45−48.
- Воронцов В.Н., Алхименков С. В. Индивидуальное прогнозирование надежности изделий электронной техники по уровню низкочастотного шума//Радиотехника. Метрология: Доклады юбилейной НТК.- СПб.: СЗПИ, 2000.
- Винец И.Л., Кристалинский Л. Л., Мотенко Е. Н. Применение метода измерения порогового напряжения шума для неразрушающего контроля качества конденсаторов с органическим диэлектриком //Электронная техника.- Сер.8. 1983. — Вып.5 (104).
- Врачев А.С. О механизме связи НЧ-шума с надежностью элементов РЭА // Материалы Всесоюзн. конф. Флуктуационные процессы в электронных системах. Рига, 1984. — С.29−34.
- Букингем М. Шумы в электронных приборах и системах: Пер. с англ. /Под ред. В. Н. Губанкова. М.: Мир, 1986 .- 400 с.
- Ван-дер Зил А. Единое представление шумов типа 1/f в электронных приборах: фундаментальные источники //ТИИЭР. 1988. — Т.76,. -N 3. — С.28−56.
- Hooge F.N. 1/f noise // Physica. 1976. — Vol.83B. — P. 14−23.
- Pellegrini B. The theory of flicker noise //Phys. Rev.B., 1980, Vol.22. -N10.-P.4684−4691.
- Palenskis V., Shoblitskas Z. Oridin of 1/f noise //Solid State Commun. -1982, Vol.43, N 10, P761−763.
- Van Vliet C.M. A survey of results and future prospects on quantum 1/f noise and 1/f noise in general //Solid State Electron. 1991. — Vol.34. — N 11.- P. 1−21.
- Clarce J., Voss R.F. 1/f noise from thermal fluctuations in metal films //Phys. Rev. Lett. 1974. — Vol.33. — P.24−27.
- Врачев А.С. О термодинамическом подходе к проблеме низкочастотного шума //Изв. Вузов. Радиофизика. — 1980. — Т.23. -N12.- С. 1464−1472.
- Врачев А.С. О связи старения с природой НЧ-шума в диэлектриках//Тр. МЭИ .- 1982 .- Вып. 579.
- Воронцов В.Н. Методика оценки влияния конструкторско-технологических факторов на выбор прогнозирующего параметра при исследовании надежности элементов оптоэлектроники//Материалы XIV НТК.-Л.: СЗПИ, 1976.
- Воронцов В.Н., Каминер В. И. К вопросу контроля качества и надежности фоторезисторов неразрушающими методами//Труды СЗПИ.1976.-№ 37.-С.6−10.
- Воронцов В.Н. Неразрушающий контроль элементов оптоэлектроники для следящих систем/ТМежвуз.сб.научн.тр М.: ВЗМИ, 1977.-С.118−123.
- Воронцов В.Н. Метод выявления потенциально ненадежных элементов оптоэлектроники, используемых в системах автоматики// Межвуз.сб.научн.тр.-М.: ВЗМИ, 1978.-С.114−119.
- Воронцов В.Н., Задорин Ю. Ф., Хамидуллин P.P. К вопросу измерения информативного параметра фоторезисторов для индивидуального прогнозирования их надежности//Межвуз.сб.научн.тр-М.: ВЗМИ, 1980.-С.95−99.
- Воронцов В.Н. Методологические концепции к проблеме оценки качества и прогнозирования надежности изделий электронной техники/ЦНТИ «Информсвязь».-1982.-90 е.- Деп. в ВИНИТИ.- № 125.
- Воронцов В.Н., Винец И. Л., Задорин Ю. Ф. Методы интегральной диагностики нелинейных резисторов/ЦНТИ «Информсвязь».- 1982.-90 с.-Деп. в ВИНИТИ, — № 8.
- Быков М.Ф., Воронцов В. Н., Задорин Ю. Ф. Некоторые результаты анализа составляющей низкочастотного шума как информативного параметра качества фоторезисторов//Электронная техника.- 1982.-№ 3.
- Воронцов В.Н., Ковалев Н. Ф. Современное состояние и применение методов неразрушающего контроля для анализа отказов изделий электронной техники//Физические методы и средства НК в производстве МЭА: Сб.науч.тр.-Л.:ЛИАП, 1986.-Вып. 181.-С.З-9.
- Воронцов В.Н., Загребельный В. П., Холкин В. Ю. Неразрушающий контроль и математическое моделирование отказов изделий электронной техники/ТПриборы и методы контроля качества: Деп.сб.- М.: Машиностроение, 1989.
- Воронцов В.Н., Мелуа А. И. Организация контроля и управления качеством радиоэлектронных средств//Приборы и методы контроля качества: Деп. сб-М.: Машиностроение, 1989.
- Воронцов В.Н., Загребельный В. П., Парфенов А. А. Автоматизированные системы неразрушающего контроля качества ИЭТ//Оптич, радиоволн, и тепл. методы и ср-ва неразр. контр, изделий: Межвуз.сб.научн.тр.- Л.:СЗПИ, 1989.-С.108−120.
- Воронцов В.И., Гориловская Т. Г. Анализ отказов конденсаторов в цветных телевизорах//Оптич, радиоволн, и тепл. методы и ср-ва неразр. контр, изделий: Межвуз.сб.научн.тр- Л.:СЗПИ, 1989.-С.150−157.
- Воронцов В.Н., Гавриченков, Загребельный В.П. Физико-технический анализ отказов комплектующих изделий РЭА// Повышение качества и надежности изд.: Сб.-Д.: ЛДНТП, 1989.
- Воронцов В.Н., Андреев А. Л. Методика выявления потенциально ненадежных ИЭТ по уровню низкочастотного шума//Актуальные проблемы надежности Л.: ЛДНТП, 1989.
- Воронцов В.Н., Задорин Ю. Ф., Циунеллис В. Г. Автоматизированный комплекс интегральной диагностики ИЭТ на основе измерения электрофизических параметров//Вопросы проектирования и производства РЭА и электрорадиоизделий.- М., 1988.
- Потапов А.И., Воронцов В. Н. Неразрушающий контроль и диагностика изделий из неметаллических материалов и микроэлектроники// Неразрушающие физические методы контроля: XII Всесоюзн. НТК. Свердловск, 1990.-Т.7.
- Ханин С.Д., Воронцов В. Н., Денисова О. В. Кинетические явления и анализ структурных особенностей высокоомных неоднородных материалов электронной техники// Релаксация-94: Материалы международной конференции-СПб., 1994.
- Абрамов Е.Е., Воронцов В. Н. Прогнозирование надежности операционных усилителей по уровню низкочастотного шума// Дефектоскопия.- 1995.- № З.-С. 66−68.
- Воронцов В.Н., Холкин В. Ю. Шумовая термоэлектродинамическая диагностика полупроводниковых приборов// Дефектоскопия.- 1995. № 3.- С. 69−71.
- Vorontsoff V.N., KholkinV.Y. Noise and thermoelectrodynamic diagnostics of semiconductor Instruments//Suss. J. Nondestruct. Test. (USA) vol.31, 1996. No. 3.- P. 220−222.
- Пассивные радиокомпоненты. Электрические конденсаторы./ Ханин С. Д., Воронцов В. Н., Адер А. И., Денисова О. В. -2-е изд.- СПб.: СЗПИ, 2000.
- Воронцов В.Н. Неразрушающий контроль качества и прогнозирование надежности изделий электронной техники по электрофизическим параметрам. СПб.: СЗТУ.-2002.-160 с.
- Троицкий Ю.В., Строев К. Н., Строев Н. Н. Комплекс аппаратныхи программных средств для анализа спектра случайных сигналов //Приборы сист. упр.- 1992. N 2. — С.38.
- Придорогин В.М. Шумовые свойства транзисторов на низких частотах. М.: Энергия, 1976. — 160 с.
- Полонников Д.Е. Операционные усилители: Принципы построения, теория, схемотехника. М.: Энергоатомиздат, 1983. — 216с.
- Алексенко А.Г., Шило B.JT. Основные параметры и эквивалентные схемы интегральных операционных усилителей //Микроэлектроника. 1972. — Вып. 5. — С.27−47.
- Ковалев В.В. Модель интегрального операционного усилителя //Изв. Вузов. Радиоэлектроника. 1980. — Т.23. — N 6. — С.61−63.
- Денисюк В.А., Добролеж С. А., Шафер В. И. Оценка качества технологического процесса производства операционных усилителей по уровню низкочастотного шума //Электронная техника. Сер. Стандартизация, метрология, испытания.- 1984.- Вып.2. С. 107.
- Воронцов В.Н., Геликман Б. Ю., Кристалинский JI.JI. Контроль и управление качеством РЭА// Материалы XVI НТК Л.: СЗПИ, 1985.-72 с.
- Знаменская Т.Д. Исследование стабильности параметров ИС ОУ при воздействии повышенной температуры //Научн. тр. МЛТИ 1983. Вып. 158.
- Cellic-Butter Z., a.oth., Characterization of electromigration parameters in VLSI metallizations by 1/f noise measurements //Solid State Electronics. 1991. — Vol.34. N2. — P.185−188.
- Клявиньш Ю.Р. Связь шумовых характеристик с другими параметрами операционных усилителей //Диэлектрики и полупроводники. 1990. — N 37. — С.70−73.
- Орлов В.В., Якимов А. В. Диффузия примесей и фликкерные флуктуации подвижности носителей тока в полупроводниках //Изв. Вузов. Радиофизика.- 1984.- Т.27.- N 12. С.35−40.
- Акменьтинын Я., Клявиньш В. И. Связь шумовых параметров с конструкцией биполярных транзисторов //Исследование и разработка современных радиоэлектронных элементов и устройств /Республ. научн.- техн.конф.: Тезисы докл.- Рига, 1989, — С. 21.
- Слайдиньш И.Я. Контроль качества и надежности транзисторов и операционных усилителей по шумовым параметрам //Там же .- С. 26.
- Высоцкий Ф.В. и др. Цифровые фильтры и устройства обработки сигналов на интегральных микросхемах, М.: Радио и связь, 1984.-216с.
- Воронцов В.Н. и др. Способ определения параметров избыточного шума А.С. № 1 481 694.-1989.
- Северин B.C. Влияние вакансий на низкочастотный шум в твердом теле //ФТТ, — 1987.- Т.28.- N11.
- Коган Ш. М. Низкочастотный токовый шум со спектром типа 1/f в твердых телах //УФН.- 1985.- Т.145.- N 2. С.285−328.
- Tadon J.L. Simpl interpretation of 1/f noise phenomenon //Pr. ITE. CEMI. 1989. — N 9. — P.81−85.
- Hey строев JT.H. О спектрах шума вблизи порога возбуждения медленных рекомбинационных волн //ФПТ.- 1986.- Т.20.- Вып.5.-С.937−939.
- Hooge F.N., Kleinpenning T.G.M., Vandamme L.K.J. Experimental studies on 1/f noise //Rep. On Progr. Phys.- 1981. Vol.44. — P.480−532.
- Иконников О.Г., Неустроев Jl.H., Осипов B.B. Теория генерационно-рекомбинационных шумов в полупроводниках с поверхностными состояниями //Поверхность. Физика, химия, механика.- 1984.- N8. С.23−30.
- Бочков Г. Н., Кузовлев Ю. Э. Новое исследование 1/f шума //УФН. -1983. Т. 141.- N 1. — С. 151−176.
- Коган Ш. М., Шкловский В. И. Избыточный низкочастотный шум при прыжковой проводимости //ФТП.- 1981.- Т.15.- Вып.6.- С. 10 491 060.
- Pellegrini В. Jne model of flicker, burst and generation-reconbination noises //Phys. Rev. B. 1981. — Vol.24. — N12. — P.7071−7083.
- Кузовлев Ю.Б., Бочков Т. Н. К вопросу о происхождении статистических характеристик 1/f шума // Изв. Вузов. Радиофизика.-1983.- T.2.-N3.-С.310−317.
- Cottie J.B., Klonaris N.S. Microstructural effects on the 1/f noise of thin aluminium based films //Jornal of Electronic Materials. 1990. -Vol.19. N 11.-P.1201−1206.
- A study electromigration in aluminium and aluminium-silicon thin film resistors using noise technique / Diliganti A., Bangoli P.E., Neri В., Mantelassi L. A //Solid Stat Electon. 1989. — Vol.32. — N 2. — P. l 1−16.
- Milnes A.G., Baner C.L. Voids associated with electromigration in metal lines //Solid Stat Electon. 1991. — Vol.34. — N 7. — P.741−746.
- Nori В., Diligenti A., Bagnodi P. Electrimidration and low-frequency resistance fluctuation in aluminium thin film interconnections //IEEE Theory Electron Devices. 1987. — Vol.34. -Nil.- P.2317−2321.
- Scherge M., Breternitz V., Knedlik C. Simulation of electromigrstuon behaviour in A1 metallization of integrated circuits //Microelectron. Reliab. 1992. Vol.32. — N 1−2. — P.21−24.
- Воронцов B.H. Новые результаты работ по изучению физики отказов//Актуальные вопросы теории и практики надежности: Научно-технич. семинар.-Л.: ЛДНТП, 1990.
- Лукьянчикова Н.В. Флуктуационные явления в полупроводниках и полупроводниковых приборах. М.: Радио и связь, 1990. — 296с.
- Богословский Н.Н., Якимов А. В. Источники фликкерных шумов в биполярных транзисторах //Изв. Вузов. Радиофизика. 1986.- Т.29.-N 6. — С.675−683.
- Терпугов Н.В. Шумы каскадов и их соединений при различных схемах включения транзисторов //Радиотехника.- 1984.- N 5. С.23−27.
- Отт Г. Методы подавления шумов и помех в электронных системах / Пер. с англ. под ред. М. В. Гальперина.- М., 1979.-320с.
- Степаненко И.П. Основы теории транзисторов и транзисторных схем.- М.: Энергия, 1977.- 672с.
- Тихонов В.И. Нелинейные преобразования случайных процессов.- М.: Радио и связь, 1986.- 296с.
- Бендат Дж. Основы теории случайных шумов и ее применение / Пер. с англ. под ред. B.C. Пугачева.- М.: Наука, 1965.- 464с.
- Чупраков В.А., Краснощеков И. П. Современное состояние измерительной техники анализа сигналов в реальном времени //Измерит. Техника.- 1990.- N 8. С.50−52.
- Вдовин С.Е., Волынчук В. Н., Зибров Н. Н. Разрешающая способность по частоте цифровых анализаторов спектра //Радиотехника.- 1990.- N 1. С.41−44.
- Воронцов В.Н., Ковалев Н. Ф., Иванов В. Н. Методы физико-технического анализа отказов изделий микроэлектроники//Материалы XVI НТК.- Д.: СЗПИ, 1985.
- Блатов В.В. измерение отношения сигнал/шум по плотности величины мгновенной частоты //Радиотехника и электроника.- 1987.-Т.32. С. 444.
- Воронцов В.Н., Быков М. Ф., Задорин Ю. Ф. Анализ функциональных зависимостей при испытаниях РЭА: Доп. программы для статистических расчетов на микроЭВМ JL: СЗПИ, 1988.-13 с.
- Богословский Н.Н., Якимов А.В., источники фликкерных шумов в биполярном транзисторе //Изв. Вузов. Радиофизика. -1986.- Т.29.- N9.-С.675−683.
- Быков М.Ф., Воронцов В. Н., Задорин Ю. Ф. Контроль качества и испытания РЭА на должность: Учебное пособие. JL: СЗПИ, 1988, -80с.
- Валеев В.И., Лоссовский В. А. О прогнозировании надежности 111 111 по импульсным шумам //Надежность и контроль качества.- 1979.- N 8.
- Ван дер Зил А. Шум при измерениях / Пер. с англ. под ред. А. К. Нарышкина. -М.: Мир, 1979. -292 с.
- Ван дер Зил А. Шум. Источники, описание, измерение/ Пер. с англ. /Под ред. А. К. Нарышкина. М.: Сов. Радио, 1973. -259 с.
- Воронцов В.Н. Методологический подход к проблеме оценки качества изделий электронной техники//Материалы XV НТК Л.: СЗПИ, 1980.
- Воробьев В.Л. Термодинамические основы диагностики и надежности микроэлектронных устройств,— М.: Наука, 1989. -160 с.
- Быков М.Ф., Воронцов В. Н., Задорин Ю. Ф. Диагностика, прогнозирование, неразрушающий контроль и управление качеством ЭА :Учеб. пособие.-Л: СЗПИ, 1985.-80 с.
- Дубицкий Л.Г. Физические основы интегральной диагностики. Электронная техника. Сер.8.-1980. -Вып.7 (85). С. 11−34.
- Меламедов И.Н. Физические основы надежности. -Л.: Энергия, 1970. -151с.
- Митропольский А.К. Техника статистических вычислений. -М.: Наука 1971.
- Мхитарян З.О., Барсегян Р. С., Арутянин В. М. Шумовые характеристики кремниевых диодов с примесью серы //Радиофизика. -1984. -Т.27.- N9. -С.1218−1220.
- Надежность и диагностика интегральных схем /Обзоры по электронной технике.- Сер.З. -М.: ЦНИИ «Электроника», 1991. -84с.
- Нарышкин А.К. Основные задачи диагностики качества и прогноза надежности полупроводниковых приборов неразрушающими методами// Радиоэлектроника и электросвязь, — Рига, 1984.
- Примаченко Н.А., Сердюк Г. Б. Техническое диагностирование биполярных полупроводниковых приборов по параметрам квадратической нелинейности их вольтамперных характеристик //Электронная техника. Сер.8.- 1979.- Вып. 7.- С. 17−26.
- Пряников B.C. Прогнозирование надежности 111 111 по их низкочастотным шумам// Радиотехника.- 1981.- Т.36.- N 9.
- Сердюк Г. Б. Интегральные электрофизические эффекты и их диагностическая информативность// Сб. научн. трудов «Методы и средства неразрушающего контроля качества компонентов РЭА.-Ульяновск, 1987.-С. 18−22.
- Buckingham M.J., Faulkner Е.А. The theory of inherent noise in p-n junction diodes and bipolar transistors// -The Radio and Elect. End. 1974. -44.-P. 125−140.
- Jevtic M.M. Impuzity concentration dependence of the 1/f -noise parameter and in silicon //Solid State Electron. -1988. V. 31. — N 6,-P. 1049−1052.
- Mihaila M., Amberiadis K. and Van der Ziel A., Solid-St. Electron. 27, 675 (1984).
- Van der Ziel A. and Handel P.H., «1/f noise in n+ -p diodes, «IEEE Trans. Electron Devices, vol. ED-32, p. 1805, 1985.
- Ашмарин И.П., Васильев H.H., Амбросов B.A. Быстрые методы статистической обработки и планирование экспериментов. —JI.: ЛГУ, 1975. 78с.
- Асауленко Ю.Б. и др. Оценка эффективности отбраковочных испытаний комплектующих элементов РЭА //Надеж, и контр, кач-ва. -1989.-N12.-C.22−27.
- Чибисов В.П. и др. Экспериментально-имитационный метод проведения предварительных испытаний // Надеж, и контр, кач-ва. -1990. N 1. — С.55−60.
- Варганов Н.О., Мархаев Н. Г. Ускорение испытания и прогнозирование надежности //Научн. тр. МИРЭА.- 1991.- N3. С. 114 120.
- Рычина Т.А. Методика сокращения времени испытания образцов //Конструирование быстродействующей помехозащищенной аппаратуры /Моск. ин-т электрон. машиностр.-М., 1991.- С.71−73.
- Bieleck C.J., Volkman F. Burn-in as a quality assurance and process control tool //Electronic Manufacturing. 1990. — Vol.36. — N 4. — P.14−15.
- Джонсон H., Лион Ф. Статистика и планирование эксперимента в технике и науке. Методы обработки данных / Пер. с англ. под ред. Э. К. Лецкого.-М.: Мир.- 1980, 616с.
- Боханкевич В.И. Комплексная оценка качества МДП структур по напряжению микропробоя //Электронная промышленность.-1985.- N3 -с.34.
- Корнилов С.А., Овчинников К. Д., Рипак A.M. Генерационно-рекомбинационные (ГР) шумы в токе лавинно-пролетных диодов //Изв. вузов СССР. Сер. Радиофизика. -1986. -т.29, N12. -с. 1462−1470.
- Крамер Г. Математические методы статистики. —М.: Мир, 1975.
- Pellegrini В. Diffusion, mobility, fluctuations and island models of flicker noise//Phys. Rev. В.- 1982. Vol.26. -N 4. — P. 1791−1797.
- Сравнение контроля низкочастотных шумов и нелинейности, как методов прогнозирования стабильности тонкопленочныхрезисторов/ Арменча Н. Н., Деев И. Н., Канцер И. Т. и др. //Надежность и контроль качества, — 1986. N 3. — С.56.
- Лукьянчикова И.Б. Физические основы электро-флуктуационной диагностики надежности и срока службы 111 111 //Электронная промышленность.- 1983. Т.6.
- Никулин С.Н. Надежность элементов радиоэлектронной аппаратуры. М.: Энергия. -80с.
- Сердюк Г. Б. Электрофизические методы диагностирования в задачах обеспечения качества и надежности электроизделий. Киев, Техника, 1986.
- Слайдинып И.Я. контроль качества и надежности транзисторов операционных усилителей по шумовым параметрам //Исследования и разработка современных радиоэлектронных элементов и устройств: Тезисы докл. -. Рига, 1989. -С.21.
- Van Vliet К.М., Mehta Н. Theory of Transport Noise in Semiconductors //Phys: Stat. Solisi B. -1981. -Vol.106. N 1. -P.l 1−30/
- Клявинып Ю.Р., Эйэентол Ю. В. Низкочастотный шум и характеристики полупроводниковых приборов //Флуктуационные явления в физических системах: Тезисы докл.- Вильнюс, 1988 г. -С.72−73.
- Ткаченко Н.Н. Низкочастотный шум и механизм токопрохождения в диодах на основе поликристаллического кремния// Флуктуационные явления в физических системах /Тезисы докл., 1985, г. Пущино, Моск. обл. с.98−99.
- Dai Y., Deep-level impurity analysis for р-n junctions of a bipolar transistor from low-frequency g-r noise measurements //Solid State Electronics. 1989. — V.32. — P.439−443.
- Стальбовский B.B. Вопросы качества радиодеталей/ Геликман Б. Ю., Горячева Г. А., Кристалинский JI.JI., —М.: Сов. Радио, 1980. -328с.
- Круз П., Макглоулин Л., Маквиотан Р. Основы инфрокрасной техники. М.: Воениздат, 1964.
- Марков М.Н. Приемники инфракрасного излучения. -М.: Наука, 1968.
- Шоль А. и др. Приемники инфракрасного излучения. М.: Мир, 1969.
- Фоторезисторы. ГОСТ 17 772. -М., 1972.
- Хадсон Р. Инфракрасные системы. -М.: Мир, 1972.
- Соболев Н.А., Пеламид А. Е. Фотоэлектронные приборы, М., «Высшая школа», 1974.
- Воронцов В.Н., Черкасов Е. И. О возможности прогнозирования надежности и качества элементов оптоэлектроники по их шумовым характеристикам//Материалы XIV НТК Л.: СЗПИ, 1976.
- Роуз А. Фото проводимость твердых тел. М.: Мир, 1966.