Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Расчёт МОП-транзистора с индуцированным каналом

КурсоваяПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Определение напряжения и тока насыщения и напряжения отсечки. Данные, полученные с помощью ЭВМ, заносятся в таблицу 1.1.: Собственная концентрация носителей в кремнии ni=1,5*1010см-3; Построение вольтфарадной характеристики МОП-структуры. Диэлектрическая проницаемость кремния Еап=1,062*10−12 Ф/см; Построение стоковой и стоко-затворной характеристики. Диэлектрическая проницаемость оксида… Читать ещё >

Содержание

  • 1. 1. Имеется МОП-транзистор с индуцированным каналом на кремневой под-ложке
  • В курсовой работе необходимо выполнить
  • 1. Построение вольтфарадной характеристики МОП-структуры
  • 2. Построение стоковой и стоко-затворной характеристики
  • 3. Определение напряжения и тока насыщения и напряжения отсечки
  • 4. Нахождение крутизны стоко-затворной характеристики и проводимости канала
    • 1. 2. Исходные данные
  • 1. концентрация примеси N=3,5*1015 См
  • 2. тип подожки n
  • 3. ширина канала Z=5,8 мкм
  • 4. толщина канала L=1,1 мкм
  • 5. толщина оксидного слоя Xокс=0,15 мкм
  • 6. плотность заряда Qss=8*10−8 Кл/м
  • 7. поверхностный заряд на границе Qss=1,6*10−8 Кл/см
  • Расчёт МОП-транзистора с индуцированным каналом (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

    1. ЗАДАНИЕ.

    1.1. Имеется МОП-транзистор с индуцированным каналом на кремневой подложке.

    В курсовой работе необходимо выполнить:

    1) Построение вольтфарадной характеристики МОП-структуры.

    2) Построение стоковой и стоко-затворной характеристики.

    3) Определение напряжения и тока насыщения и напряжения отсечки.

    4) Нахождение крутизны стоко-затворной характеристики и проводимости канала.

    1.2. Исходные данные:

    1) концентрация примеси N=3,5*1015 См-2;

    2) тип подожки n;

    3) ширина канала Z=5,8 мкм;

    4) толщина канала L=1,1 мкм;

    5) толщина оксидного слоя Xокс=0,15 мкм;

    6) плотность заряда Qss=8*10−8 Кл/м2;

    7) поверхностный заряд на границе Qss=1,6*10−8 Кл/см2.

    1.3. Дополнительно будут использоваться следующие справочные данные:

    1) тепловой потенциал;

    2) собственная концентрация носителей в кремнии ni=1,5*1010см-3;

    3) диэлектрическая проницаемость кремния Еап=1,062*10−12 Ф/см;

    4) диэлектрическая проницаемость оксида Еок=3,54*10−13 Ф/см;

    5) заряд электрона q=1,6*10−19 Кл;

    6) работа выхода электрона для алюминия Фм=4,1 эВ;

    7) энергия сродства электрона для кремния Х=4,05 эВ;

    8) ширина запрещённой зоны для кремния Еg=1,124 эВ.

    1.4. Допущения:

    1) металл — идеальный проводник;

    2) оксидный слой — идеальный диэлектрик, заряды внутри слоя отсутствуют;

    3) в расчёте будем пренебрегать поверхностными явлениями на границах металл-оксид и оксид-полупроводник;

    4) полупроводник считается идеальным и однородным.

    2. РАСЧЁТНАЯ ЧАСТЬ.

    2.1. Построение вольт-фарадной характеристики канала.

    Ёмкость между затвором и подложкой МОП-структуры будем рассматривать как два последовательно включённых конденсатора.

    Один, из которых образуется металлом и границей Si-SiO2, его ёмкость равна const и равна С0.

    Другой конденсатор образуется в режиме обеднения и инверсии за счёт наличия обеднённой области. Эта ёмкость не линейна и зависит от ряда параметров.

    Общая ёмкость имеет следующую оценку:

    — при Uз

    — при Uпз

    Ёмкость описывается формулой:

    — при Uпор

    — при Uпор

    — при Uпор

    Данные, полученные с помощью ЭВМ, заносятся в таблицу 1.1.:

    Таблица 1.1.

    U, B -1 -0,5 0 0,5 1 1,5

    C0 3,6 2,87 2,55 2,30 2,08 2,09

    По данным таблицы строится график на рисунке, приложенном к курсовой работе.

    Ёмкость МОП-конденсатора с единичной площадью обкладок определяется по формуле:

    Показать весь текст

    Список литературы

    1. Л.Рассадо Физическая электроника и микроэлектроника, М. Высшая школа, 1991 г.
    2. Д.Б. Элементы интегральных схем.
    3. O.П. Основы транзисторной электроники.
    4. И.П. Степаненко Основы транзисторов и транзисторных схем, М., Энергия, 1973 г.
    Заполнить форму текущей работой