Повышение эффективности управления технологическим процессом формирования структур интегральных элементов
Диссертация
При создании ИЭ ионно-фотонные ТП в значительной степени определяют такие характеристики, как процент выхода годных (ПВГ) в производстве и надежность при эксплуатации. Повышение ПВГ требует целенаправленного автоматизированного управления ТП для достижения заданного уровня точности и стабильности работы технологических ч операций (ТО), однородности параметров выпускаемых изделий. Такое управление… Читать ещё >
Содержание
- 1. АНАЛИЗ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА ПРОИЗВОДСТВА
- 1. 1. Анализ технологического процесса производства1 элементов интегральной электроники^
- 1. 2. Технологический процесс как объект управления
- Выводы к главе 1
- 2. УПРАВЛЕНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИМИ ПРОЦЕССАМИ ПРИ ПРОИЗВОДСТВЕ ЭЛЕМЕНТОВ ИНТЕГРАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ
- 2. 1. Алгоритмы управления технологическими процессами
- 2. 2. Исследования и составление схемы процесса
- 2. 3. Моделирование процессов и эффективность выбора управлений
- 2. 4. Формализация цели управления
- Выводы к главе 2
- 3. УПРАВЛЕНИЕ ПРОЦЕССОМ ФОРМИРОВАНИЯ СТРУКТУРЫ ИНТЕГРАЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ
- 3-. 1 Совершенствование метода и повышение эффективности управления технологическим процессом имплантации
- 3. 2. Управление динамическими параметрами интегральных элементов в процессе формирования структур
- 3. 3. Управление технологическими параметрами структурных слоев
- Выводы к главе 3
- 4. МАТЕМАТИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА ОТЖИГА НЕКОГЕРЕНТНЫМ ИЗЛУЧЕНИЕМ ПРИ ФОРМИРОВАНИИ ИОННО-ЛЕГИРОВАННЫХ СЛОЕВ
- 4. 1. Особенности процесса отжига некогерентным излучением
- 4. 2. Разработка модели процесса нагрева полупроводниковых пластин при некогерентном отжиге
- 4. 3. Управление процессом отжига пластин
- Выводы к главе 4
- 5. МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА ТРАВЛЕНИЯ
- 5. 1. Процесс травления в технологии микроэлектроники
- 5. 2. Моделирование процесса травления
- Выводы к главе 5
Список литературы
- Курносов А.И., Юдин В. В. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. М.: Высшая школа, 1986. 368с.
- Коледов Л.А. Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров микросборок. СПб.: Лань, 2009. 400с.
- Кротов И.И., Гаврилина М. И. Технология производства полупроводниковых материалов, приборов и интегральных схем. М.: МГОУ, 2001. 140с.
- Коледов Л.А., Волков В. А., Докучаев И. И. Конструирование и технологии микросхем. М.: Высшая школа, 1984. 231с.
- Власов В.Е., В.П. Захаров, А. И. Коробков. Системы технологического обеспечения качества компонентов микроэлектронной аппаратуры. М.: Радио и связь, 1987. 160с.
- Березин A.C., Мочалкина О. Р. Технология и конструкция интегральных микросхем. М.: Радио и связь, 1992. 320с.
- Бургер Р., Донован Р. Основы технологии кремниевых интегральных схем. Окисление, диффузия, эпитаксия. М.: Мир, 1969. 451с.
- Королев М.А., Крупкина Т. Ю., Ревелева М. А. Технология, конструкция и методы моделирования кремниевых микросхем. М.: Бином. Лаборатория знаний, 2007. 397с.
- Чистяков Ю.Д., Райнова Ю. П. Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий. Т1. Физико-химические основы технологии микроэлектроники. М.: Бином. Лаборатория знаний, 2010. 392с.
- Таиров Ю.М., Цветков В. Ф. Технология полупроводниковых и диэлектрических материалов. СПб.: Лань, 2002. 424с.
- С. Johnson. Process Control Instrumentation Technology. New Jersey: Prentice Hall, 2005. 704c.
- Рембеза С.И. Методы исследования основных параметров полупроводников. Воронеж: Изд-во Воронежского университета, 1989. 221с.
- Неизвестный И.Г., Придании Н. Б. Физика поверхности полупроводников. Новосибирск: НГТУ, 1994. 184с.
- Шауцуков А.Г., Кузнецов Г. Д. Моделирование процесса фотонного отжига ионно-легированных слоев // Электронный журнал «Исследовано в России». 2005.
- Двуреченский A.B., Качурин Г. А., Нидаев Е. В. Импульсный отжиг полупроводниковых материалов. М.: Наука, 1982. 13с.
- Бородин И.Ф., Судник Ю. А. Автоматизация технологических процессов. М.: Колосс, 2007. 344с.
- Литюшкин В.В. Модели производственных систем // Приборы и системы управления. 1994. № 4. С.45−47.
- Спицнадель В.Н. Системы качества. СПб.: Бизнес-пресса, 2000.336с.
- Мустафаев М.Г. Некоторые проблемы при создании микроэлектронных приборных структур // Современные проблемы радиоэлектроники: сборник научных трудов. Красноярск. 2009. С.263−266.
- Муромцев Д.Ю. И.В. Тюрин, A.A. Кабанов. Управление качеством электронных средств: учебное пособие. 41. Тамбов: ТГТУ, 2005. 80с.
- Мустафаев М.Г. Системный подход к обеспечению качества изделий // Автоматизация и современные технологии. 2007. № 1. С.43−45.
- Рей У. Методы управления технологическими процессами. М.: Мир, 1983. 368с.
- Головицына М.В. Информационные технологии проектирования радиоэлектронных средств. М.: Бином. Лаборатория знаний, 2008. 432с.
- Мустафаев М.Г., Мустафаев М. Г. Совершенствование управления производством и его эффективность // ИТР. 2008. № 9. С. 11.
- Мустафаев М.Г., Мустафаев А. Г. Система обеспечения качества сверхбольших интегральных схем // Электронная промышленность. 2007. № 1. С.29−32.
- Ицкович Э. Л. Методы рациональной автоматизации, производства. Вологда: Инфра инженерия, 2009. 256с.
- Щагин А. В., Демкин В. И., Кононов В. Ю., Кабанова А. Б. Основы автоматизации-техпроцессов. М.: Высшее образование, 2009. 176с.
- Сироткин B.C., Пресс Ф. П. Управление технологическими процессами производства полупроводниковых приборов. М.: Энергии, 1979. 208с.
- Соснин О. М. Основы автоматизации технологических процессов и производств. М.: Академия, 2009. 240с.
- Волчкевич Л. И. Автоматизация производственных процессов. М.: Машиностроение, 2007. 384с.
- Харазов В.Г. Интегрированные системы управления технологическими процессами. СПб.: Профессия, 2009. 592с.
- Пономарева В.М., Литвинова А. П. Основы автоматического* регулирования и управления. М.: Высшая школа, 1974. 440с.
- Абчук В.А., Лифшиц А. Л., Федулов A.A., Куштина Э. И. Автоматизация управления. М.: Радио и связь, 1984. 264с.
- Меньков А. В., Острейковский В. А. Теоретические основы автоматизированного управления. М.: Оникс, 2005. 640с.
- Бородакий Ю.В. Основы теории систем управления (исследование и проектирование). М.: Радио и связь, 2004. 256с.
- Рыжий В.И., Банков H.A. Математическое моделирование субмикронных элементов интегральных схем: состояние и проблемы // Микроэлектроника. 1987. Т. 16. № 6. С.484−496.
- Колмогоров Г. Д., Мусабеков Т. Ю. Оптимизация технологических режимов на основе статистического моделирования // Электронная техника. Сер. 2. 1974. вып.5. С.99−100.
- Кулешев A.A., Малышев B.C., Нелаев В. В., Стемпицкий В. Р. Статистическое проектирование и оптимизация технологии производства интегральных микросхем // Микроэлектроника. 2003. Т.32. № 1. С.47−61.
- Мазель Е.З., Пресс Ф. П. Планарная технология кремниевых приборов. М.: Энергия, 1974. 384с.
- Реньян В.Р. Технология полупроводникового кремния. М.: Металлургия, 1969. 335с.
- Заболотнов Ю-М. Оптимальное управление непрерывными динамическими системами. Самара: СГАУ им. С. П. Королева, 2005. 129с.
- Ли Э.Б., Маркус JI. Основы теории оптимального управления. М.: Наука, 1972. 576с.
- Носов Ю.Р., Петросянц К. О., Шилин В. А. Математические модели элементов интегральной электроники. М.: Советское радио, 1976. 304с.
- Дворецкий С.И., Муромцев Ю. Л., Погонин В. А., Схиртладзе А. Г. Моделирование систем. М.: Академия, 2009. 320с.
- Горбунов Ю.И. Технология полупроводниковых приборов и изделий. Полупроводниковые приборы и интегральные микросхемы. М.: Высшая школа, 1989. 143с.
- Гусев В. Г., Гусев Ю. М. Электроника и микропроцессорная техника. М.: Высшая школа, 2008. 800с.
- Абрамов И.И. Лекции по моделированию элементов интегральных схем. М. Ижевск: Изд-во «НИЦ. «Регулярная и хаотическая динамика», 2005. 154с.
- Диткин В.А., Грудников А. Г. Интегральные преобразования и операционное исчисление. М.: Наука, 1974. 542с.
- Химмельблау Д. Анализ процессов статистическими методами- М: Мир, 1973. 957с.
- Дрейпер Н., Смит Г. Прикладной регрессионный анализ. М.: Статистика, 1973. 391с.
- Линник Ю.В. Метод наименьших-квадратов и основы математико-статистической теории обработки наблюдений. М-: Наука, 1962- 349с.
- Зарубин В-С. Математическое моделирование в технике. М.: МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2010. 495с.
- Мустафаев М.Г., Мустафаева Д. Г. Формализация моделирования технологической системы управления производством изделий5 // Машиностроитель. 2009. № 6. С.6−8.
- Мустафаев М.Г., Мустафаева Д. Г. Повышение эффективности технологической системы путем оптимизации ее управления! // Машиностроитель. 2009. № 11. С. 14−16.
- Мустафаев М.Г., Мустафаев Г. А. Управление и регулирование технологической системы производства элементов и компонентов // Приборы. 2007. № 11. С.44−47.
- Мустафаев М.Г. Совершенствование управления технологической, системой при производстве изделий // Материалы VI Международной научно-практической конференции «Электронные средства и системы управления». Томск. 2010. С.113−114.
- Мустафаев М.Г., Мустафаева Д. Г. Повышение эффективности управления технологической системы при создании элементов и: компонентов РЭС // Вопросы радиоэлектроники. 2009. № 1. С.70−73.
- Ремнев Г. Е. Импульсные мощные ионные пучки и их применение в области материаловедение // Материалы II Всероссийской конференции «Физические и физико-химические основы ионной имплантации». Казань. 2008. С. 27.
- Вятник А.Ф. Современное состояние технологии- ионной имплантации // Материалы II Всероссийской конференции «Физические, и физико-химические основы. ионной имплантации». Казань. 2008- С. 23.
- Герасименко Н.Н. Современное состояние проблем ионно-лучевой модификации материалов // Материалы. II Всероссийской конференции «Физические и физико-химические основы, ионной имплантации». Казань., 2008. С. 24.
- Зорин Е.И., Павлов П.В-, Тетельбаум Д. И. Ионное легирование полупроводников. М.: Энергия, 1975. 129с.
- Рисел X., Руге И. Ионная имплантация. М.: Наука, 1983. 360с.
- Гаев Д.С., Панченко В. А., Кармоков A.M., Тешев Р:Ш. Технология получения многокомпонентных субмикронных слоев для изделий- функциональной электроники // Тезисы докладов российской конференции «Приборы и техника ночного видения». Нальчик. 2002. С.64−67.
- Барабененков М.Ю. Метод ионной-лучевой модификации материалов в микрофотонике // Материалы II Всероссийской конференции «Физические и физико-химические основы ионной имплантации». Казань. 2008. С.27−28.
- Шауцуков А.Г., Кизимов И. М., Кузнецов Г. Д. Применение воздействия ионных пучков на структуры «пленка-подложка» в технологии полупроводниковых приборов и интегральных схем // Прикладная физика. 2010. № 6. С.51−53.
- Мустафаев М.Г. Ионно-лучевая технология при исследовании и создании* структур // Материалы VI Международной- научной конференции «Химия твердого тела* и современные микро- и нанотехнологии». Кисловодск.2006. С.87−88.
- Юдин В.В. Радиационные дефекты при ионной- имплантации кремния. М.: Высшая школа, 1976. 164с.
- Мустафаев М.Г., Кармоков A.M. Обеспечение- надежности элементов и компонентов радиоэлектронных систем // Вестник ВГТУ. 2009. Т.5. № 1. С.127−130.
- Гаев Д.С., Панченко В. А. Лазерно-плазменный имплантер для сверхвысоковакуумных исследовательских установок // Тезисы докладов российской конференции «Приборы и техника ночного видения». Нальчик. 2001. С.24−28.
- Готра З.Ю., Осередько С. А., Бобицкий Я. В. Импульсный лазерный отжиг ионно-имплантированных полупроводниковых материалов // Зарубежная электронная техника. 1983. № 6. С.3−48.
- Мустафаев М.Г. Оптимизация процесса формирования структурных слоев интегральных элементов // Материалы II Международной- научно-практической конференции «Прогрессивные технологии и перспективы развития». Тамбов. 2010. С. 208.
- Мустафаев М.Г., Мустафаева Д. Г. Некоторые методологические принципы совершенствования управления технологической системой при создании изделий // Известия ВУЗ. Технические науки. Северо-Кавказский регион. 2009. № 3. С.3−5.
- Сучанов Т., Икома Т. Введение в микроэлектронику. М.: Мир, 1988.320с.
- Киреев В. Технологии и оборудование для производства интегральных микросхем. Состояние и тенденции развития // Электроника: Наука. Технология. Бизнес. 2004. № 7. С.72−77.
- Айхлер Ю., Айхлер Г.-И. Лазеры. Исполнение, управление, применение. М.: Техносфера. 2008. 440с.
- Мустафаев М.Г., Мустафаев Г. А. Обеспечение качества и надежности пленочных приборных структур // Приборы. 2010. № 10. С.49−53.
- Мустафаев М.Г., Мустафаева Д. Г. Эффективность управления технологической системой при создании изделий // Труды молодых ученых. 2008. № 4. С.6−8.
- Буренков А.Ф., Комаров М. А. Таблица параметров пространственного распределения ионно-имплантированных примесей. Минск, 1980. 236с.
- Боднарь О.Б., Попов П. Ю., Груздев Ю. В. Моделирование диффузионных процессов в ионно-легированных материалах // Наукоемкие технологии. 2008. № 7. С. 52−56.
- Абрамов И.И. Моделирование физических процессов в элементах кремниевых интегральных микросхем. Минск: БГУ, 1999. 189с.
- Тетельбаум Д.И. Эффект дальнодействия, как отклик твердого тела на энергетические потоки малой интенсивности // Материалы II Всероссийской конференции «Физические и физико-химические основы ионной имплантации''. Казань. 2008*. С.28−29.
- Бостанджиян Б. А. Распределение Пирсона, Джонсона, Вейбулла и обратное нормальное. Оценивание их параметров. М.: Редакционно-издательский отдел ИПХФ РАН, 2009. 240с.
- Леман Э. Проверка статистических гипотез. М.: Наука, 1964. 408с.
- Панфилов Ю.В., Рябов В. Т., Цветков Ю. Б. Оборудование производства интегральных микросхем и промышленные роботы. М.: Радио и связь, 1989. 320с.
- Абрамов И.И., Харифнов В. В. Проблемы моделирования, элементов кремниевых интегральных схем // Электронная техника. Сер.З. Микроэлектроника. 1996. Вып. 5. С.3−9.
- Мустафаев М.Г., Мустафаева Д. Г. Эффективность функционирования технологической системы при создании изделий // Машиностроитель. 2009. № 5. С.44−48.
- Мустафаев М.Г. Моделирование процесса отжига при производстве приборных структур // Материалы 7-й Всероссийской научно-технической конференции «Измерения, автоматизация и моделирование в промышленности и научных исследованиях». Бийск. 2010. С.64−66.
- Молчанов А.А. Моделирование и проектирование сложных систем. М.: Высшая школа, 1988. 359с.
- Бубенников А.Н. Моделирование интегральных микротехнологий, приборов и схем. М.: Высшая школа, 1990. 320с.
- Лабунов В.А., Борисенко В. Е., Грибковский В. В. Импульсная термообработка материалов полупроводниковой электроники некогерентным светом // Зарубежная электронная техника. 1983. № 1. С. 3−57.
- W.C. Dunn. Introduction to instrumentation, sensors, and process control. London: Artech House Publishers, 2005. 354c.
- G. Kalani. Industrial Process Control: Advances and Applications. Houston: Gulf Professional Publishing, 2010. 182c.
- Парк Дж., Маккей С., Райт Э. Передача данных в системах контроля и управления. М.: Группа ИДТ, 2007. 480с.
- Денисенко В. В. Компьютерное управление технологическим процессом, экспериментом, оборудованием. М.: Горячая Линия Телеком, 2009. 608с.
- Нестеров А.Л. Проектирование АСУТП. Книга 1. СПб.: Деан, 2010. 552с.
- Нестеров А.Л. Проектирование АСУТП. Книга 2. СПб.: Деан, 2009. 944с.
- Шандров Б. В., Чудаков А. Д. Технические средства автоматизации. М.: Академия, 2010. 368с.
- Ониси С. Установка отжига. М.: Мир, 1986. 136с.
- Баталов С. А. Автоматическое управление техническими системами. УФА: УГАЭС, 2007. 300с.
- ГОСТ 19.701−90. Единая система программной документации. Схемы алгоритмов, программ, данных и систем. Условные обозначения и правила выполнения.
- Кормен Т., Лейзерсон Ч., Ривест Р., Штайн К. Алгоритмы. Построение и анализ. М.: Вильяме, 2009. 1296с.
- R. Sedgewick. Algorithms. New Jersey: Addison-Wesley, 1988. 560c.
- Старосельский В.И. Физика полупроводниковых приборов микроэлектроники. М.: Высшее образование, 2009. 464с.
- Галперин В.А., Молчанов А. И., Данилкин Е. В. Процессы плазменного травления в микро- и нанотехнолигиях. М: Бином. Лаборатория знаний, 2010. 283с.
- Цветков Ю. Микротехнология — универсальная основа производства современной электроники // Технологии в электронной промышленности. 2005. № 4. С.43−46.
- Русанов В.Д., Фридман A.A. Физика химически активной плазмы. М.: Наука, 1984.415с.
- Чистяков Ю.Д., Райнова Ю. П. Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий. Т2. Физико-химические основы технологии микроэлектроники. М.: Бином. Лаборатория знаний, 2010. 252с.
- Орликевский A.A. Плазменные процессы в микро- и наноэлектронике. Плазмохимические реакторы нового поколения и их применение в технологии микроэлектроники // Микроэлектроника. 1999. Т.28. № 6. С.415−426.
- Орликевский A.A. Плазменные процессы в микро- и наноэлектронике. Реактивное ионное травление // Микроэлектроника. 1999. Т.28. № 5. С.349−362.
- Лукичев В.Ф., Юнкин В. А. Масштабирование скорости травления и подобие профилей при плазмохимическом травлении // Микроэлектроника. 1998. Т.27. № 3. С.229−239.
- Итумнов Д.В., Костюнина Т. П. Основы полупроводниковой электроники. М.: Горячая линия Телеком, 2005. 392с.
- А. Ю. Закгейм. Общая химическая технология. Введение в моделирование химико-технологических процессов. М.: Логос, 2010. 304с.
- Гартман Т.Н., Клушин Д. В. Основы компьютерного моделирования химико-технологических процессов. М.: ИКЦ «Академкнига», 2006. 416с.
- Бедсел Ч., Ленгдон А. Физика плазмы и численное моделирование. М.: Энергоатомиздат, 1989. 452с.
- Фаттахов Я.В., Хайбуллин И. Б., Баязитов P.M. Анизотропное локальное плавление монокристаллического и имплантированного кремния импульсами некогерентного света // Поверхность. Физика, химия, механика. 1989. № 11. С.61−69.