Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Исследование и разработка метода математического моделирования влияния оптической анизотропии на качество изображения прецизионных оптических систем

Диссертация: Исследование и разработка метода математического моделирования влияния оптической анизотропии на качество изображения прецизионных оптических систем
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

На протяжении многих лет интенсивно ведутся исследования и разработки в области дифракционной теории света. Из-за сложности математического описания на данный момент остаются нерешенными аналитически многие дифракционные задачи, возникающие в самых разных областях современного оптического приборостроения, фотолитографии, атак же в технологиях, тесно связанных с развитием новых методов оптического… Читать ещё >

Содержание

  • ГЛАВА. Основные принципы и способы решения дифракционного интеграла, используемые в оптике
    • 1. 1. Обзор основных теорий
    • 1. 2. Выбор подхода, удобного для описания светового поля
  • ВЫВОДЫ
  • ГЛАВА. Математические модели формирования изображения
    • 2. 1. Описание векторного поля через электрический диполь
    • 2. 2. Описание поля, прошедшего через объект
    • 2. 3. Описание поля, прошедшего через оптическую систему
    • 2. 4. Векторная модель формирования изображения, основанная на геометрической оптике
    • 2. 5. Описание влияния входной апертуры
  • ВЫВОДЫ
  • ГЛАВА. Задачи матричной оптики: учет малого двойного лучепреломления и влияния оптических покрытий на формирование изображения
    • 3. 1. Описание состояния поляризации векторных плоских волн
    • 3. 2. Математическая модель учета влияния оптической анизотропии
    • 3. 3. Модель формирования оптического изображения
  • ВЫВОДЫ
  • ГЛАВА. Проблемы дискретизации векторной математической модели формирования изображения
    • 4. 1. Выбор шагов дискретизации
    • 4. 2. Основные алгоритмы моделирования изображения
    • 4. 3. Генерация тест-объектов и анализ качества оптического изображения
  • ВЫВОДЫ
  • ГЛАВА. Компьютерное моделирование формирования изображения высокоапертурными оптическими системами
    • 5. 1. Обзор результатов моделирования
    • 5. 2. Влияние высокой числовой апертуры
    • 5. 3. Влияние входной апертуры
    • 5. 4. Влияние двойного лучепреломления и оптических покрытий
    • 5. 5. Формирование полихроматического изображения
  • ВЫВОДЫ

Исследование и разработка метода математического моделирования влияния оптической анизотропии на качество изображения прецизионных оптических систем (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

На протяжении многих лет интенсивно ведутся исследования и разработки в области дифракционной теории света. Из-за сложности математического описания на данный момент остаются нерешенными аналитически многие дифракционные задачи, возникающие в самых разных областях современного оптического приборостроения, фотолитографии, атак же в технологиях, тесно связанных с развитием новых методов оптического сверхразрешения. В настоящее время активно развивается оптическая литография [39, 70, 95−99] в глубоком ультрафиолете (248, 157 нм), которая достигает возможности отображения элементов с минимальным размером порядка 0.15 мкм и меньше. Такое разрешение обеспечивается не только за счет коротких длин волн, но также за счет высокой числовой апертуры от 0.6 до 0.8 [73,109]. В прецизионных объективах для фотолитографии на весьма значительном поле достигается предельно возможное разрешение, поэтому усиливается влияние на контраст изображения таких факторов, действие которых невозможно изучать без учета векторной природы света. Также в последние годы большое развитие получили средства записи и считывания информации на оптических носителях. Для этого применяются особо светосильные системы с высоким разрешением. В таких системах применяются дифракционные оптические элементы и асферические поверхности, где достигаются большие углы падения, и поэтому векторная природа света оказывает существенное влияние на формирование рабочих световых пучков. В связи со сложностью аналитического решения уравнений математической физики и учета множества параметров, связанных со структурой оптической системы, таких как аберрации, выбор состояния поляризации, влияние искусственного двойного лучепреломления и покрытий оптических элементов, а так же возможность изменения этих параметров, активно применяется компьютерное моделирование таких процессов [2,4,5,9−13,36−38]. Наиболее актуальным является моделирование формирования «воздушного» изображения с учетом всех влияющих факторов. 45−48,72−77,86,104,108] Для моделирования работы таких систем необходимо применение векторной волновой теории и векторной теории дифракции. В связи с этим представляется актуальным дальнейшее развитие компьютерных методов моделирования и проектирования прецизионных оптических установок на основе углубленной дифракционной теории оптического изображения. Таким образом, отсюда вытекает цель данной диссертационной работы, а именно, дальнейшее развитие методов математического моделирования изображения, которое формируется высокоапертурными прецизионными оптическими системами. В данной работе эти методы развиваются применительно к анализу влияния анизотропии оптических элементов на- контраст изображения тонких периодических структур. Для исследования проблем, связанных с дифракцией и дифракционным рассеиванием, следует рассматривать не скалярную, а векторную дифракционную теорию, которая позволит ответить на целый ряд вопросов: 1) Каково влияние поляризации света и высокой числовой апертуры в оптической системе на контраст изображения объекта со структурой на уровне предельного разрешения? 2) Как при аналогичных условиях обосновать требования к допустимому лучепреломлению оптических сред и оптических элементов? 3) Как различается влияние разных типов поляризации света на качество изображения, образованного высокоапертурными оптическими системами? Для ответа на эти вопросы следует решить ряд задач, которые рассмотрены в данной работе, а так же решен ряд дополнительных задач, t /. относящихся к векторной теории дифракции. Можно выделить несколько основных задач, позволяющих достичь цели данной работы, а так же позволяющие более полно рассмотреть взаимосвязь влияния высокой числовой апертуры и аберраций дифракционно-ограниченной оптической системы на контраст изображения тонких периодических структур: 1) Исследование математического описания векторного электромагнитного поля, проходящего через высокоапертурную оптическую систему.2) Формулировка соотношений, которые связывают между собой влияние аберраций оптической системы, влияние свойств среды и свойств оптических покрытий на формирование оптического изображения.3) Изучение влияния высокой числовой апертуры на входе и на выходе дифракционно-ограниченной оптической системы на картину распределения интенсивности света в плоскости изображения. ^ ' 4) Формулировка основанного на векторной теории дифракции последовательного описания формирования изображения аналогично анализу линейных систем.5) Математическое моделирование влияния анизотропии, возникающей в оптических элементах высокоапертурных оптических систем, на качество изображения тонких периодических структур. Эти задачи, а так же ответы на поставленные выше вопросы рассмотрены в данной диссертационной работе и распределены по главам, кратко описанным ниже. В первой главе под названием. Основные принципы и способы решения дифракционного интеграла, используемые в оптике, проводится анализ различных способов решения дифракционной задачи, а так же представлен и обоснован подход, который лежит в основе данной работы. Во второй главе. Математические модели формирования изображения, рассматриваются теоретические основы формирования t г. (t «воздушного» изображения с учетом влияния высоких числовых апертур. В данной работе используются две ортогональные векторные модели формирования изображения. Эти модели подробно рассмотрены и показана справедливость данных методик, так как они базируются на фундаментальных положениях и не противоречат известным формулам и теоремам. В третьей главе. Задачи матричной оптики: учет малого двойного лучепреломления и влияния оптических покрытий на формирование изображения, рассмотрены основные задачи матричной оптики, относящиеся к описанию поляризации, и рассмотрено использование матричного аппарата в расчете лучей для учета влияния двойного лучепреломления оптических сред. В четвертой главе, Проблемы дискретизации векторной математической модели формирования изображения, рассмотрены проблемы связанные с численной реализацией предлагаемых математических моделей формирования изображения. Подробно описаны процедуры выбора шага дискретизации функции, используемые при моделировании, представлены алгоритмы и схемы моделирования частичнокогерентного освещения, а так же получения полихроматического изображения. И в последней пятой главе, Компьютерное моделирование формирования изображения высокоапертурными оптическими системами, представлены результаты компьютерного моделирования формирования изображения дифракционно-ограниченных систем. Моделирование проводилось с учетом различных типов освещения. Произведен анализ моделирования и показано влияние высокой числовой апертуры с учетом влияния векторных свойств света, двойного лучепреломления и оптических покрытий на формирование изображения. В состав данной диссертационной работы входят также четыре приложения: % •^ь ^ 1) результаты моделирования «воздушного» изображения тонкой периодической структуры высокоапертурными дифракционноограниченными оптическими системами, при различных типах поляризации, с учетом аберраций, влиянием оптических покрытий и «искусственного» двойного лучепреломления, присутствующего в этих системах- 2) результаты моделирования влияния входной числовой апертуры на % качество изображения высокоапертурной оптической системы- 3) Внешний вид и краткое описание программного обеспечения- 4) Исходный код программы для вычисления монохроматического изображения. На зашиту выносятся следующие оригинальные научные положения: 1) Наличие высокой числовой апертуры существенно изменяет степень влияния волновой аберрации на предельное разрешение дифракционно-ограниченной оптической системы, что может быть (^ использовано для ослабления требований к аберрационной коррекции.2) Двойное лучепреломление в оптических элементах снижает контраст изображения не только из-за эффекта двоения, но также из-за изменения состояния поляризации проходящего излучения, и поэтому его влияние усиливается при величинах числовых апертур свыше 0.6.3) Оптические покрытия оказывают весьма малое влияние на состояние поляризации проходящего излучения, поэтому основным влияющим фактором покрытий является только переменное для различных углов падения комплексное пропускание покрытия, которое сказывается на качестве изображения, подобно влиянию волновой аберрации и аподизации зрачка.4) Для целей анализа качества изображения высокоапертурных дифракционно-ограниченных оптических систем с учетом влияния # векторных свойств света достаточно использовать описание векторной комплексной амплитуды светового поля только в приближении электрического диполя. Практическая ценность диссертационной работы заключается в следующем: 1) Проведено численное исследование влияния технологических факторов — анизотропии оптических элементов и просветляющих оптических покрытий на изображение тонких периодических структур для целей фотолитографии на длинах волн 248 нм и 157 нм.2) Получена возможность выработки практических рекомендаций к аберрационной коррекции и параметрам оптических покрытий высокоапертурных дифракционно-ограниченных систем.3) Разработано комплексное программное обеспечение, предназначенное для анализа формирования изображения оптических систем с учетом векторной природы света в ^ полихроматическом свете, как без экранирования, так и с экранированием и с усложненной формой описания конфигурации источника излучения. л т ^ *? #.

ВЫВОДЫ.

Моделирование формирования изображения проводилось на основе векторной теории с различными видами излучения, так же производились вычисления при частично-когерентном излучении с различными значениями коэффициента когерентности, на персональном компьютере Intel Pentium 4 с тактовой частотой 1.3 Ггц и объемом оперативной памяти 256 Mb. Размерность выборок составляла 512×512 элементов.

Представленные в данной работе результаты моделирования различных эффектов, влияния числовой апертуры, двойного лучепреломления и оптических покрытий на формирование оптического изображения дифракционно-ограниченными системами, согласуются с результатами моделирования и экспериментальными данными, опубликованными в литературе.

С помощью данного пакета исследовательских программ можно моделировать различные явления векторной природы света протекающие в дифракционно-ограниченных оптических системах.

Показать весь текст

Список литературы

  1. М.И. Апенко, А. С. Дубовик. Прикладная оптика. -М. Наука, 1982. -353 с.
  2. В.К. Аблеков, Высокоразрешающие оптические системы. -М. Машиностроение, 1985. -176 с.
  3. Б.Н. Бегунов. Теория оптических систем. -М. Машиностроение, 1981.-432 с.
  4. Р. Быстрые алгоритмы цифровой обработки сигналов. -М. Мир, 1989. с. 128−169, 259−302.
  5. М., Вольф Э. Основы оптики. -М. Наука, 1973. -720 с.
  6. Н. Б. Ортогональные полиномы для описания аберраций оптических систем с различными видами симметрии. Известия вузов СССР. Приборостроение. № 5, с. 92−94, 1982.
  7. И.Б., Белозубов А. В., Вознесенская Н. Н., Виноградова Г. Н. Описание векторного электромагнитного поля в двойном дипольном приближ:ении. Оптический журнал. Том 69, № 3, март, 2002, стр. 5−10.
  8. Н. Б., Родионов А., Домненко В. М., Иванова Т. В. Векторная модель дифракции в оптических системах. Тезисы международной конференции «Прикладная оптика — 96″.
  9. Н. Б., Родионов А., Домненко В. М., Иванова Т. В. Математическая модель дифракции в оптических системах с высокими числовыми апертурами. Оптический журнал. Том 64, № 3, с. 48−52, 1997. ^
  10. Справочник по высигей математике. М. Я. Выгодский, М., Джангар, 1999,864 с. 5^ Вычислительная оптика. Справочник. Под общей редакцией М. М. Русинова. -Л. Машиностроение. Ленингр. отд-ние, 1984. -423 с.
  11. Д.Ю. Геометрическая оптика кристаллов. Труды ГОИ, Ленинград, 1981. — 130с.
  12. Дж. Введение в Фурье-оптику. -М. Мир, 1970. -364 с.
  13. Дж. Статистическая оптика. -М. Мир, 1988. с. 267−306.
  14. Дж. Голуб, Ч. Ван Лоу Матричные вычисления. -М. Мир, 1999, -548 с
  15. А. Джеррард, Дж. М. Берн Введение в матричную оптику. — М. Мир, 1978,-342 с
  16. В. Диффракция в линзах при любом отверстии. Известия Государственного оптического института. Том I, выпуск IV, 1919.
  17. Ш. Д. Нестационарный векторный дифракционный интеграл Кирхгофа. -Письма в ЖТФ, том 20, вып. 22, 1994. 78−81 с.
  18. Г., Корн Т. Справочник по математике для научных работников и инженеров. -М. Наука, 1984. -832 с.
  19. А. Теория систем и преобразований в оптике. -М. Мир, 1971. — 496 с.
  20. Проектирование оптических систем. Под редакцией Р. Шеннона, Дж. Вайанта. -М. Мир, 1983. с. 178−332.
  21. Прикладная физическая оптика. Под редакцией В. А. Москалева, И. М. Нагибина. -Политехника, СПб, 1995, -528 с.
  22. А. Мешков, Ю. Тихомиров. Visual C++ и MFC Программирование для Windows NT, том 1,2,3, BHV-Санкт-Петербург, 1997.
  23. А. Автоматизация проектирования оптических систем. -Л. Машиностроение, Ленингр. отд-ние, 1982. -270 с.
  24. А. О дифракции в оптических системах. Оптика и спектроскопия. Том 46, выпуск 4, с. 776−784, 1979.
  25. М.М. Техническая оптика. -Л. Машиностроение, Ленингр. отд-ние, 1979. -488 с.
  26. Г. Применение методов Фурье-оптики. -М. Радио и связь, 1988.-536 с.
  27. . Язык программирования C++. -М. „Издательство БИНОМ“, -СПб. „Невский диалект“, 1999. -991 с.
  28. И. Г. Введение в Фурье-оптику. -М. Мир, 1988. -182 с.
  29. X. Волны и поля в оптоэлектронике. -М. Мир, 1988. -432 с. >. optical systems with high numerical apertures. Proc. SPIE, 1999, Vol.3754, p.366−373.
  30. A.V. 77?^ influence of aberrations on the image quality of subtle periodic structures in case of high entrance numerical apertures. Proc. SPIE, 2001, Vol.4436, p.222−230.
  31. A.Boivin, E. Wolf. Electromagnetic field near the focus of Gaussian beams, II Phys. Rev., B. 138, 1965, P. 1561−1565.
  32. C.J. Bouwkamp. On bethe 's theory of diffraction by small holes, II Philips Res. Rep., No. 5, 1950, P. 321−332.
  33. C.J. Bouwkamp. On the diffraction of electromagnetic waves by small circular disks and holes, II Philips Res. Rep., No. 5, 1950, P. 401−422.
  34. С J. Bouwkamp, ^'Diffraction theory». Rep. Prog. Phys. 17, pp. 35−100, 1954. X 44. Z. Bouchal, J. Wagner, M. Chlup. Seld-reconstruction of a distorted nondiffracting beam II Optics Com., Vol. 151, 1998, P. 207−211.
  35. Chang Chih-Yuan, Scaper C. D., Kailath T. Computer-aided optimal design of phase-shifting masks. In Optical Microlithography V, Proc. SPIE, Vol. 1674, pp. 65−72, 1992.
  36. E.G. Churin, J. Hossfeld, T. Tschudi. Polarization Configurations with singular point formed by computer-generated holograms. II Opt. Commun, Vol. 99, pp. 13−17, 1993.
  37. Cole D. C, Barouch E., Hollerbach U., Orszag S. A. Derivation and simulation of higher numerical aperture scalar aerial images. Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 31, No. 128, pp. 4110−4119, 1992.
  38. Frigo M., Johnson S. G. FFTW Tutorial, http://theory.lcs.mit.edu/fftw.
  39. D.G. Hall. Vector-beam solutions of Maxwell’s wave equation. II Opt. Lett. Vol. 21, P. 9−11, 1996.
  40. Hillon P. Relativistic theory of scalar and vector diffraction by planar aperture. JOSA A. Vol. 9, No. 10, P. 1794−1800, 1992. > —
  41. Hopkins H. H. Canonical coordinates in geometrical and diffraction image theory. Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 4, Suppl. 1, pp. 31−35, 1965.
  42. Hopkins H. H. On the Diffraction Theory of Optical Images. Proc. Roy. Soc. 1.ondon. A217, pp. 408−432, 1953.
  43. Hopkins H. H. The Airy disc formula for systems of higher relative apertures. Proc. Roy. Soc. London. Vol. 55, P. 116−128, 1943.
  44. Hsu W., Barakat R. Starton-Chu vectorial diffraction of electromagnetic fields by apertures with application to small-Fresnel-number systems. JOS A, Vol. l l, N o. 2, P. 623−629, 1994.
  45. Hone-Ene Hwang, Gwo-Huel Yang, Jung-Chuan Chou. Diffraction limit for a T circular mask with a periodic rectangular apertures array II Opt. Eng., Vol. 41, No 10, 2002, P. 2620−2626.
  46. R.L. Gordon, G.W. Forbes. Optimal resolution with extreme depth of focus II Optics Com., Vol. 150, 1998, P. 277−286.
  47. P.L. Greene, D.G. Hall. Diffraction characteristics of the azimuthal Bessel- Gauss beam. II JOSA, Vol. 31, P. 962−966, 1996.
  48. P.L. Greene, D.G. Hall. Properties and diffraction of vector Bessel-Gauss beams. //JOSA, Vol. 15, P. 3020−3027, 1998.
  49. P.L. Greene, D.G. Hall. Focal shift in vector beams. II Opt. Exp., Vol. 4, P. 411−419, 1999.
  50. R.H. Jordan, D.G. Hall. Free-space azimuthal paraxial wave equation: the ^ azimuthal Bessel-Gauss beam solution II Opt. Lett., Vol. 19, 1992, P. 427−429.
  51. G.P. Karmon, M.W. Beijersbergen, A. van Duijl, D. Bouwmeester, J.P. Woerdman. Airy pattern reorganization and subwavelength structure in a focus II JOSA A., Vol. 15, No 4, 1998, P. 848−856.
  52. M. Lax, W.H. Louisell, W.B. McKnight. From Maxwell to paraxial wave opf/c5//Phys. Rev., Vol. 11, 1975, P. 1365−1370.
  53. Morse P., Feschbach H. Methods of theoretical physics P. 1−2, N.Y., McGraw- Hill, 1953, p. l978.
  54. S De Nicola, D. Anderson, M. Lisak. Focal shift effects in diffracted focused beams II Pure Appl. Opt, Vol. 7, 1998, P. 1249−1259.
  55. Enrico Nichelatti, Giulio Pozzi. Improved beam propagation method equations II Appl. Opt, Vol. 37, No. l, 1998, P. 9−21.
  56. D. Pohl. Operation of a ruby laser in the purely transverse electric mode ТЕщ II Appl. Phys. Lett., Vol. 20, 1972, P. 266−267.
  57. Rothschild M. Progress towards sub-100 nm lithography at MIT’s Lincoln 1. aboratory II Lambda Highlights, Vol 54, 1998, P. 1−6
  58. B. Richards, E. Wolf. Electromagnetic diffraction in optical systems IL Structure of the image field in an aplanatic system II Proc. Roy. Soc. A, 253, 1959, P. 358−379.
  59. Sheppard C. J. R., Hrynevych M. Diffraction by circular aperture: a generalization ofFresnel diffraction theory. JOSA A. Vol. 9, No. 2, pp. 274−281, 1992
  60. Sheppard C.J.R., Torok P. Study of evanescent waves for transmission near- field optical microscope II Journ. Mod. Opt, 1996, Vol. 43, No. 6, T P. 1167−1183.
  61. Sheppard C. J. R., Torok P. Approximate forms for diffraction integrals in high numerical aperture focusing. Optik. Vol. 105, No. 2, pp. 77−82, 1997.
  62. Sheppard C.J.R., Gu M. Imaging by a high aperture optical system II Journ. Mod. Opt, Vol. 40, P. 1631−1651, 1993.
  63. Sheppard C.J.R., Torok P. Efficient calculation of electromagnetic diffraction in optical systems using a multipole expansion II Journ. Mod. Opt, Vol. 44, No. 4, P. 803−818, 1997.
  64. Michael Shribak, Shinya Inoue, Rudolf Oldenbourg. Polarization aberrations caused by differential transmission and phase shift in high-numerical-aperture lenses: theory, measurement, and rectification II Opt. Eng., Vol. 41, No 5, 2002, P. 943−953.
  65. S.R. Seshadri. Electromagnetic Gaussian beam II JOSA A., Vol. 15, No 10, 1998, P. 2712−2719.
  66. Smith B. W., Flagello D. G., Summa J. R., Fuller L. F. Comparison of scalar and vector diffraction modeling for deep-UV lithography. In Optical/ Laser «^ Microlithography VI, Proc. SPIE, Vol. 1927, pp. 847−857, 1993.
  67. Velauthapillai Dhayalan, Jakob J. Stamnes. Focusing of mixed-dipole waves II Appl. Opt, Vol. 6, 1997, P. 317−345.
  68. Velauthapillai Dhayalan, Jakob J. Stamnes. Focusing of electric-dipole waves in the Debye andKirchhoff approximations II Appl. Opt, Vol. 6, 1997, P. 347−372.
  69. Jakob J. Stamnes, Daya Jiang. Focusing of two-dimensional electromagnetic waves through a plane interface II Appl. Opt, Vol. 7, 1998, P. 603−625.
  70. Jakob J. Stamnes, Halvor Heier. Scalar and electromagnetic diffraction point- speadfunctions II Appl. Opt, Vol. 37, No. 13, 1998, P. 346−355. / 85
  71. М. Stalder, M.Schadt. Linearly polarized light with axial symmetry generated by liquid-cristalpolarization converters II Opt. Lett., Vol. 21, 1996, P. 1948−1949.
  72. Sucharita Sanyal, Partha Bandyopadhyay, Ajay Ghosh. Vector wave imagery using a birefrigent lens II Opt. Eng., Vol. 47, No 2, 1998, P. 592−599.
  73. Chung-Hao Tien, Yin-Chieh Lai, Han-Ping David Shieh. Polarization analyses of readout signals by a solid immersion lens in phase change recording material II Opi. Eng., Vol. 40, No 10, 2001, P. 2285−2291.
  74. Torok P, P.D. Higdon, T. Wilson. On the general properties of polarized light conventional and confocal microscopes II Opt. Commun, Vol. 148, 1998, f- P. 300−315−818.
  75. Anthony A. Tovar. Phase compensation of azimuthally polarized Ji Bessel — Gaussianlaser beams II Appl. Opt, Vol. 37, No 3, 1998, P. 540−545.
  76. Anthony A. Tovar. Production and propagation of cylindrically polarized 1. aguerre — Gaussian laser beams II JOSA A., Vol. 15, No 10, 1998, P. 2705−2711.
  77. Lee W. Casperson, Anthony A. Tovar. Hermite — sinusoidal — Gaussian beams in complex optical systems II JOSA A., Vol. 15, No 4, 1998, P. 954−961.
  78. Visser T. D. Wiersma S. H. Diffraction of converging electromagnetic waves. JOSA A. Vol. 9, No. 11, pp. 2034−2047, 1992.
  79. Voznessensky N.B. Optimum choice of basic functions for modeling light propagation through nanometer-sized structures II Proc. SPIE., 1999, Vol. 3791, P. 147−157.
  80. Website ASM Lithography, http://www.asml.com
  81. Website IBM Research, http://www.research.ibm.com/topics/serious/chip/
  82. Website Intel Technology Journal, http://developer.intel.com/technology/itj/
  83. Website Karl Zeiss, http://www.zeiss.de
  84. Website Numerical Technologies, http://www.numeritech.com 100. WebsИеНаучно-образовательный сервер no физике http://Phys.Web.Ru
  85. J.J. V^ у nnQ. Generation of the rotationally symmetric TEQI and TMQI modes -^, from a wavelength-tunable laser II IEEE J. Quant. Elec, Vol. 10, 1981, «P. 125−127.
  86. Wolf E. Electromagnetic diffraction in optical system. Proc. R. Soc, London. Ser. A 253, pp. 349−357, 1959.
  87. Yasuyuki Unno. Distorted wave front produced by a high-resolution projection optical system having rotationally symmetric birefringence II Appl. Opt, Vol. 37, No/ 31, 1998, P. 442−453.
  88. K.S. Youngworth, T.G. Brown. Focusing of high numerical aperture cylindrical-vector beams II Optics Exp., Vol. 7, No. 2, 2000, P. 11-%1. — i —
  89. K.S. Youngworth, T.G. Brown. Inhomogeneous polarization in scaning optical microscopy II Proc. SPIE., Vol.3919, 2000.
  90. A. Yoshida, T Asakura. Electromagnetic field near the focus of Gaussian beams II Optik, Vol. 41, 1974, P. 281−292.
  91. A. Yoshida, T Asakura. Electromagnetic field in the focal plane of a coherent beam from a wide-angular annular-aperture system II Optik, Vol. 40, 1974, P. 322−331.
  92. Yeung M. S. Modeling high numerical aperture optical lithography. In Optical/Laser Microlithography, Proc. SPIE, 1988, Vol.922, p.149−167.
  93. Bing Zhao, Zhengyuan Cao, Anand Asundl. Diffraction image in an optical Y microscope: application to detection of birefringence II Opt. Eng., Vol. 41, No 4, 2002, P. 751−758. X • <
Заполнить форму текущей работой

Пора сдавать?