Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Магнетронные распылительные системы и технологии нанесения энергосберегающих покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки

Диссертация: Магнетронные распылительные системы и технологии нанесения энергосберегающих покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

В настоящее время основным методом нанесения тонкопленочных покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки является магнетронное распыление. Несмотря на достаточно развитые технологии нанесения низкомиссионных и солнцезащитных покрытий, исследования в этой области продолжаются. Их актуальность связана с необходимостью создания более дешевых и стойких покрытий, обладающих улучшенными… Читать ещё >

Содержание

  • Глава 1. Магнетронное нанесение энергосберегающих покрытий
    • 1. 1. Тонкопленочные покрытия на архитектурных стеклах и полимерных 12 пленках
      • 1. 1. 1. Структура и характеристики низкоэмиссионных (энергосберегающих) покрытий
      • 1. 1. 2. Структура и характеристики электрохромных покрытий
    • 1. 2. Технологические устройства и установки для нанесения тонкопленочных покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки
      • 1. 2. 1. Магнетронные распылительные системы
        • 1. 2. 1. 1. Основные типы магнетронных распылительных систем
        • 1. 2. 1. 2. Несбалансированные магнетроны
        • 1. 2. 1. 3. Магнетроны с импульсным питанием. Дуальные магнетроны
      • 1. 2. 2. Факторы, определяющие однородность равномерность толщины покрытий, наносимых магнетронными распылительными системами и методы ее повышения
        • 1. 2. 2. 1. Геометрические факторы, влияющие на равномерность толщины покрытий
        • 1. 2. 2. 2. Конструкция магнитной системы
        • 1. 2. 2. 3. Влияние анода
        • 1. 2. 2. 4. Равномерность подачи газов
      • 1. 2. 3. Методы повышения коэффициента использования мишени
        • 1. 2. 3. 1. Магнетроны с вращающимся цилиндрическим катодом
      • 1. 2. 4. Сильноточные импульсные магнетронные распылительные системы
    • 1. 3. Предварительная ионно-плазменная обработка поверхности как метод 38 увеличения адгезии наносимых покрытий
      • 1. 3. 1. Источники ионов и плазмы для предварительной обработки поверхности подложек
      • 1. 3. 2. Механизмы увеличения адгезии покрытий, наносимых на предварительно обработанные подложки
    • 1. 4. Технологические установки для нанесения энергосберегающих покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки
  • Выводы к главе 1
  • Глава 2. Экспериментальное оборудование и методики измерений
    • 2. 1. Экспериментальное оборудование
      • 2. 1. 1. Лабораторная установка для нанесения тонкопленочных покрытий
      • 2. 1. 2. Протяженная магнетронная распылительная система с цилиндрическим вращающимся катодом
      • 2. 1. 3. Протяженная планарная магнетронная распылительная система
      • 2. 1. 4. Протяженная магнетронная распылительная система с цилиндрическим катодом
      • 2. 1. 5. Магнетронная распылительная система с электромагнитной катушкой
      • 2. 1. 6. Ионный источник с анодным слоем
      • 2. 1. 7. Источник питания магнетронной распылительной системы мощностью
    • 5. кВт
      • 2. 1. 8. Источник питания магнетронной распылительной системы мощностью
    • 20. кВт
      • 2. 1. 9. Источник питания ионного источника с анодным слоем
      • 2. 1. 10. Источник питания для возбуждения сильноточного импульсного магнетронного разряда
      • 2. 2. Измерительное и аналитическое оборудование. Методики исследования характеристик разработанных устройств, параметров плазмы, а также свойств ' получаемых покрытий
      • 2. 2. 1. Измерительное и аналитическое оборудование
      • 2. 2. 2. Методика измерения параметров плазмы
      • 2. 2. 3. Методика измерения равномерности тока ионного пучка
      • 2. 2. 4. Методика определения функции распределения ионов по энергиям
      • 2. 2. 5. Методика измерения плотности ионного тока
      • 2. 2. 6. Методика измерения потенциала плазмы эмиссионным зондом
      • 2. 2. 7. Метод измерения адгезии
      • 2. 2. 8. Методика исследования прозрачности покрытий в видимом диапазоне спектра
      • 2. 2. 9. Методика измерения отражения покрытий в инфракрасном диапазоне спектра
      • 2. 2. 10. Методика исследования электрофизических характеристик покрытий
      • 2. 2. 11. Методика исследования стойкости покрытий к атмосферным воздействиям
      • 2. 2. 12. Методика исследования структуры покрытий с помощью атомносилового микроскопа
  • Выводы к главе 2
    • Глава 3. Исследования формирования функциональных покрытий на архитектурном стекле
  • 3. 1. Физические основы создания низкоэмиссионных покрытий
  • 3. 2. Технологическая установка «ВНУК» для нанесения низкоэмиссионных покрытий на архитектурные стекла
  • 3. 3. Исследование влияния конфигурации магнитного поля в протяженном магнетроне с цилиндрическим катодом на однородность толщины наносимых покрытий
  • 3. 4. Экспериментальное исследование характеристик ионного источника с анодным слоем
  • 3. 5. Разработка технологии нанесения низкоэмиссионных покрытий на архитектурные стекла
  • 3. 6. Спектральные характеристики стекол с низкоэмиссионными покрытиями и стеклопакетов на их основе
  • Выводы к главе 3
  • Глава 4. Нанесение низкоэмиссионных покрытий структуры диэлектрик-металл-диэлектрик на полимерные пленки
    • 4. 1. Установка для нанесения низкоэмиссионных покрытий на полимерную пленку
    • 4. 2. Исследования равномерности покрытий, наносимых протяженными магнетронными распылительными системами
    • 4. 3. Исследование свойств низкоэмиссионных покрытий структуры диэлектрик-металл-диэлектрик на полимерной пленке
      • 4. 3. 1. Низкоэмиссионные покрытия с серебряным функциональным слоем
      • 4. 3. 2. Низкоэмиссионные покрытия с медным функциональным слоем
    • 4. 4. Исследование параметров плазмы сильноточного импульсного магнетронного разряда и нанесение с его помощью медного функционального слоя низкоэмиссионных покрытий
  • Выводы к главе 4
  • Глава 5. Нанесение электрохромных покрытий на стекло методом магнетронного распыления
    • 5. 1. Принцип работы и структура электрохромных покрытий
    • 5. 2. Экспериментальная установка для получения электрохромных покрытий методом реактивного магнетронного распыления
    • 5. 3. Метод изготовления твердотельного электрохромного устройства (ЭХУ)
      • 5. 3. 1. Получение прозрачных проводящих слоев ЭХУ
      • 5. 3. 2. Определение оптимальных режимов нанесения электрохромных слоев
      • 5. 3. 3. Определение режимов нанесения электрохромных слоев NiO с наилучшей окрашиваемостью
      • 5. 3. 4. Нанесение твердого электролита Таг
      • 5. 3. 5. Изготовление твердотельного ЭХУ
  • Выводы к главе 5

    • Магнетронные распылительные системы и технологии нанесения энергосберегающих покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

    Листовое архитектурное стекло является одним из самых распространенных строительных материалов. Мировой объем его производства растет ежегодно на 4 — 5% и в настоящее время составляет 6,2 млрд. м2. Тенденцией двух последних десятилетий является быстрое увеличение доли стекла, подвергающегося после изготовления дальнейшей переработке. Если в 1995 г без дополнительной переработки использовалось 66% плоского стекла, то в 2005 г. эта цифра снизилась до 42%. Наибольший рост произошел на сегменте стекол с различными видами покрытий: с 7 до 25%. Производство стекол с покрытиями увеличилось с 200 млн. м2 в 1995 г. до 1,5 млрд. м2 в 2005 г.

    В первой декаде 21 века с 7% до 14% (с 200 до 840 млн. м2) возрос объем производства ламинированных стекол, т. е. стекол с наклеенными на их поверхность полимерными пленками. Современные ламинирующие пленки могут иметь те же функциональные характеристики, что и стекла с покрытиями, т. е. могут быть низкоэмиссионными, солнцезащитными и т. д. Тенденцией последних лет является замещение стекол с функциональными покрытиями на стекла ламинированные полимерной пленкой с такими же покрытиями. Это объясняется тем, что технологически процессы нанесения тонкопленочных покрытий на стекла и пленки близки, но стоимость оборудования для нанесения покрытий на полимерные пленки кратно ниже.

    Основной причиной роста производства стекол с покрытиями стало ужесточение требований к энергоэффективности окон во многих странах мира. Требование снижения потерь тепла через окна в течение отопительного периода ведет к необходимости использования стекол с низкоэмиссионными покрытиями. Существенное снижение затрат на кондиционирование возможно только при использовании стекол с солнцезащитными покрытиями, наиболее перспективными из которых являются покрытия с электрически изменяемой прозрачностью (электрохромные покрытия).

    В настоящее время основным методом нанесения тонкопленочных покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки является магнетронное распыление. Несмотря на достаточно развитые технологии нанесения низкомиссионных и солнцезащитных покрытий, исследования в этой области продолжаются. Их актуальность связана с необходимостью создания более дешевых и стойких покрытий, обладающих улучшенными эксплуатационными характеристиками. Актуальными задачами являются также улучшение характеристик магнетронных распылительных систем (MPC) с целью нанесения равномерных по толщине пленок на подложки большой площади с высокой скоростью, а также уменьшение стоимости процесса напыления. В частности, для достижения оптимальной структуры и свойств покрытий, зачастую важно регулировать плотность ионного тока на подложку J, и энергию бомбардирующих ионов Et [1]. Метод магнетронного распыления обеспечивает контролируемое изменение условий осаждения покрытия, определяющих электрофизические и структурные свойства наносимого покрытия.

    Таким образом, актуальной задачей в области нанесения тонкопленочных покрытий, является совершенствование технологий магнетронного распыления и улучшение эксплуатационных характеристик MPC для нанесения энергосберегающих покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки.

    Исходя из вышесказанного, главная цель работы — разработке методов, технологий и эффективного технологического оборудования, в том числеMPC, для нанесения^ энергосберегающих (низкоэмиссионных и электрохромных) тонкопленочных покрытий на-архитектурные стекла и полимерные пленки. Для достижения, этой цели в работе поставлены и решены следующие задачи:

    1) Разработана технологическая установка периодического действия для магнетронного нанесения низкоэмиссионных покрытий на архитектурные стекла. Проведено исследования протяженных MPC с целью повышения однородности наносимых покрытий и разработана промышленная технология нанесения низкоэмиссионных покрытий со структурой оксид / металл / оксид наархитектурные стекла размером 1,6×2,5 м².

    2) Создана экспериментальная установка для магнетронного нанесения низкоэмиссионных покрытий на полимерную пленку. Разработана структура многослойного низкоэмиссионного покрытия, обладающего высокой стойкостью к внешним воздействиям.

    3) Разработан, магнетронный метод получения на стекле твердотельного электрохромного устройства (ЭХУ).

    Научная новизна работы:

    1. Впервые показано, что конфигурация и величина магнитного поля в области I изменения направления дрейфа электронов в протяженном магнетроне оказывает значительное влияние на однородность распыления катода магнетрона по всей его длине.

    2. Впервые показана перспективность использования в составе многослойного низкоэмиссионного покрытия в качестве барьерных слоев тонких пленок оксида цинка, легированного галлием, получаемых магнетронным распылением керамической мишени в атмосфере аргона. Полученные низкоэмиссионные покрытия обладают повышенной влагостойкостью.

    3. Показано, что использование сильноточного импульсного магнетронного разряда для нанесения медного слоя низкоэмиссионного покрытия улучшает его функциональные свойства (увеличивает прозрачность в видимом диапазоне при сохранении высокого коэффициента отражения в инфракрасном диапазоне длин волн).

    4. Разработан метод магнетронного нанесения многослойного электрохромного покрытия с твердым электролитом. Показано, что ионная бомбардировка растущей пленки оксида тантала оказывает негативное влияние на протонную проводимость пленки твердого электролита из гидратированного оксида тантала. Максимальная протонная проводимость пленок оксида тантала достигается при минимальной плотности ионного тока на подложку.

    Положения, выносимые на защиту:

    1 Конфигурация и величина магнитного поля в области изменения направления дрейфа электронов в протяженной магнетронной распылительной системе с цилиндрическим катодом, формирующей два противоположно направленных потока распыленных атомов, определяет квазипериодическое изменение концентрации плазмы и скорости распыления катода вдоль всей магнетронной распылительной системы. Равномерность толщины покрытия увеличивается при использовании двух магнетронных распылительных систем с противоположными направлениями дрейфа электронов.

    2. Многослойное низкоэмиссионное покрытие с защитными слоями. из легированного галлием оксида цинка, полученными магнетронным распылением проводящей 2пО: Оа мишени в атмосфере аргона, имеет влагостойкость выше, чем покрытие с защитными слоями из нержавеющей стали. Оптимальным с точки зрения влагостойкости, прозрачности в видимом диапазоне и отражения в инфракрасном диапазоне является низкоэмиссионное покрытие с прозрачностью 82% и отражением 93% со структурой ТЮ2(Ю нм)/гп0:0а (20 нм)/ А£(9 нм)/2пО:Оа (28 нм)/ТЮ2(20 нм).

    3. Использование сильноточного (0,2−1 кА) импульсного магнетронного разряда для нанесения слоя меди в составе многослойного низкоэмиссионного покрытия увеличивает прозрачность покрытия в видимом диапазоне длин волн до 67% при неизменном отражении в инфракрасном диапазоне.

    4. Протонная проводимость тонких пленок оксида тантала, наносимых методом магнетронного распыления танталовой мишени в смеси аргона и кислорода, измеренная в жидком электролите (0,5 М водный раствор ацетата натрия) повышается с 1,5×10″ 10 См/см до 4><10″ 10 См/см при уменьшении плотности ионного тока на подложку, определяемого уровнем несбалансированности магнетронной распылительной системы с 1- 2 мА/см2 до 0,1 — 0,2 мА/см2.

    Практическая значимость работы:

    1. Создана технологическая установка для нанесения энергосберегающих низкоэмиссионных покрытий на архитектурное стекло. За время эксплуатации установки произведено около 500 000 м² стекла с низкоэмиссионным покрытием. Испытания стеклопакетов с низкоэмиссионным стеклом показали, что их значения приведенного сопротивления теплопередаче соответствуют требованиям ГОСТ ГОСТ 26 602.1−99 «Блоки оконные и дверные. Методы определения сопротивления теплопередаче».

    2. Создана опытная установка для нанесения стойких низкоэмиссионных покрытий на полимерную пленку. Показано, что тепловой экран из такой пленки, установленный в окно марки ОР 15−13,5 с двухслойным остеклением, увеличивает приведенное сопротивление теплопередаче с 0,38 м2оС/Вт до 0,73 м2оС/Вт, чем достигается двукратное снижение потерь тепла.

    3. Создано оборудование и в лабораторном масштабе реализован магнетронный метод получения на стекле пятислойного, полностью твердотельного ЭХУ.

    Апробация результатов исследования:

    Материалы работы были доложены и обсуждены на следующих конференциях:

    1. 5-я международнаяконференция по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы, Томск, 2000 г.

    2. 11-й международный конгресс по физике плазмы, Сидней, Австралия, 2002 г.

    3. XXX Звенигородская конференция по физике плазмы и У ТС, Звенигород, 2003 г.

    4. 7-й Корейско-Российский симпозиум по науке и технологии, Ульсан, Корея, 2003 г.

    5. 4-ая международная конференция по физике плазмы и плазменным технологиям, Минск, Белоруссия, 2003 г.

    6. 7-я международная конференция по модификации материалов пучками заряженных частиц, Томск, 2004 г.

    7. 8-я международная конференция по модификации материалов пучками заряженных частиц, Томск, 2006 г.

    9. 6-я международная конференция по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы, Томск, 2002 г.

    10. 9-я международная конференция по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы, Томск, 2008 г.

    И. 10-я международная конференция по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы, Томск, 2010 г.

    На основе проведенных исследований были изготовлены и поставлены заказчикам:

    1) Технологическая установка для нанесения низкоэмиссионных покрытий на архитектурные стекла, г. Красноярск, ЗАО «Сибирская стекольная компания», 1999 г.

    2) Технологическая установка для нанесения низкоэмиссионных покрытий на архитектурные стекла, г. Сургут, ЗАО «Субос», 2001 г.

    3) Ионные источники с замкнутым дрейфом электронов, Maxford Technology Ltd., Гонконг, Китай, 2006 г.

    Публикации. Результаты исследований изложены в 8 статьях и 5 докладах международных конференций. Получены два патента РФ.

    Структура и краткое содержание работы:

    Диссертация состоит из введения, пяти глав и заключения. В работе 1581 страниц, включая 114 рисунков, 15 таблиц, 2 приложения и список литературы, из 147 наименований.

    Основные результаты, полученные в диссертационной работе:

    1. Разработана технологическая установка периодического действия для нанесения энергосберегающих низкоэмиссионных покрытий на архитектурные стекла размером 1,6×2,5 м². Производительность установки — 4000 м² стекла с покрытием в месяц.

    2. Проведено исследование протяженных магнетронных систем с цилиндрическим катодом. Впервые экспериментально показано, что конфигурация магнитного поля в области поворота магнитной системы двухсторонней MPC с цилиндрическим катодом влияет на равномерность плотности плазмы магнетронного разряда (равномерность распылениякатода) не только в области непосредственно за поворотом, но и по всей длине катода. Области изменения направления дрейфового тока электронов являются' источником возмущения плазмы разряда и определяют квазипериодическую структуру изменения концентрации плазмы магнетронного разряда.

    3. Разработана технология нанесения энергосберегающих низкоэмиссионных покрытий структуры оксид/металл/оксид на архитектурные стекла, включающая в себя процессы предварительной очистки стекла, нанесения функциональных слоев, спектрального контроля характеристик покрытия во время его нанесения.

    4. Создана экспериментальная' установка для магнетронного нанесения энергосберегающих низкоэмиссионных покрытий на полимерную (ПЭТФ) — пленкул размером 70×200 см .

    5. Разработана структуры* многослойных энергосберегающих низкоэмиссионных покрытий на основе медных и серебряных тонких пленок, обладающие высокой стойкостью к воздействию влаги. Покрытия не требуют особых условий для транспортировки и хранения, могут быть использованы вне герметичных стеклопакетов.

    6. Показана перспективность использования качестве барьерных слоев в структуре энергосберегающего низкоэмиссионного покрытия с серебряным слоем, тонких пленок легированного галлием оксида цинка. Пленки легированного галлием оксида цинка наносятся магнетронным методом из проводящей керамической (Zn0:Ga203) мишени в атмосфере аргона. Слой оксида цинка создает условия для осаждения тонких пленок серебра имеющих преимущественную ориентацию в плоскости максимально плотной упаковки (111). Полученные низкоэмиссионные покрытия обладают повышенной влагостойкостью.

    7. Экспериментально показано, что медный слой низкоэмиссионного покрытия, нанесенный методом СИМР обладает большей прозрачностью в видимом диапазоне по сравнению с полученным традиционным магнетронным распылением, при одинаковом отражении в ИК-диапазоне.

    8. На основе полимерных пленок с энергосберегающим низкоэмиссионным покрытием созданы и испытаны тепловые экраны, увеличивающие приведенное сопротивление теплопередаче стандартного окна с 0,38 до 0,73 м2оС/Вт.

    9. В лабораторном масштабе разработан магнетронный метод получения на стекле многослойного твердотельного электрохромного устройства. Все функциональные слои ЭХУ наносятся магнетронным распылением.

    10. Показано, что степень несбалансированности магнетрона оказывает существенное влияние на ионную проводимость оксида тантала. Использование сбалансированной конфигурации магнитного поля магнетрона позволяет в 4 раза увеличить удельную электропроводность пленок оксида тантала в сравнении с пленками, полученными в несбалансированном режиме.

    Достоверность и обоснованность результатов диссертационной работы подтверждается систематическим характером исследований, использованием независимых дублирующих методик, сравнением полученных результатов с результатами других исследователей, практической реализацией научных положений и выводов при создании конкретных устройств, используемых в настоящее время, как в нашей стране, так и за рубежом.

    Личный вклад автора состоит в активном участии в создании экспериментальных и технологических установок, выборе методик эксперимента, проведении исследований и анализе их результатов. Обсуждение задач исследований проводилось с научным руководителем Н. С. Сочуговым. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые научные положения, сделаны выводы и даны рекомендации, на основании которых созданы установки и разработаны технологии для нанесения" энергосберегающих низкоэмиссионных и электрохромных покрытий. Фамилии соавторов, участвовавших в проведении исследований, указаны в работах, опубликованных по теме диссертации.

    Автор выражает искреннюю благодарность Н. С. Сочугову, под научным руководством-которого была выполнена данная работа, признателен К. В. Оскомову за помощь в проведении анализа образцов покрытий и плодотворные обсуждения результатов исследований и благодарит A.A. Соловьева, Н. Ф. Ковшарова, C.B. Работкина за участие и помощь в проведении экспериментов.

    ЗАКЛЮЧЕНИЕ

    .

    Показать весь текст

    Список литературы

    1. Zhang Х.В., Xiao J.Q., Pei Z.L. et al. 1. fluence of the external solenoid coil arrangement and excitation mode on plasma characteristics and target utilization in a dc-planar magnetron sputtering system // J.Vac.Sci.Technol. 2007, V.25, p.209−214.
    2. Pilkington and the Flat Glass Industry 2006 // NSG Annual Report. 2006, p.68.
    3. Маневич В. E.,. Чесноков А. Г, Емельянова О. А. Состояние и перспективы развития производства и потребления архитектурно-строительного стекла // СтройПрофиль, 2003, № 2, с. 6 9
    4. Pilkington and the Flat Glass Industry 2006 // NSG Annual Report, 2009, p.74
    5. Allendorf M.D. Research needs for coatings on glass. Summary of the US department of Energy roadmapping workshop // Thin Solid Films, 2001, V.392, p. 155−163.
    6. Brauer G. Large area. glass coating // Surface and Coatings Technology, 1999, V.112, p. 358−365.
    7. Martin-Palma R.J. Spectrally selective coatings on glass: solar control and low-emissivity coatings // Journal of Nanophotonics, 2009, V.3, p.1−4.
    8. Martin P. M. Thermal control coatings //Vacuum Technology & Coating, April 2007, p.42−45.
    9. Miyazaki M., Ando E. Durability improvement of Ag-based low-emissivity. coatings /.I
    10. Journal of Non-Crystalline Solids, 1994, Vol.178, p.245−249.
    11. Austin R.R. Solar control properties in low emissivity coatings // US Patent 5,183,700,1993.
    12. Ando E. et al Sputtered silver-based low-emissivity coatings with high moisture durability./ // Vacuum, 2000, V 59, p.645−659.
    13. Hartig K.W.et al High performance, durable, low-E glass // US Patent 5,344,718,1994.
    14. Shaefer C. et. al Low emissivity coatings on architectural glass // Surf.Coat.Technol., 1997, 93, p. 37−45.
    15. Ando E., Miyazaki M. M. Moisture^ degradation mechanism of silver-based low-emissivity coatings // Thin Solid Films, 1999, V.351, p.306−312.
    16. Smart window switch on the light / Circuits and Devices // 1992, № 3, p. 19.
    17. Papaefthimiou S., Leftheriotis G., Yianoulis P. Advanced electrochromic devices based on W03 thin films // Electrochimica Acta, 2001, V. 46, p. 2145−2150.
    18. C.G. / Handbook of Inorganic Electrochromic Materials // Elsevier, Amsterdam, 1995.
    19. К.-С. Ho, L.-C. Chen, C.-C. Lee / Proc. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng., 3788, 1999, p.
    20. Lechner R., Thomas L.K. All solid state electrochromic devices on glass and polymeric foils // Solar Energy Mater. Solar Cells, 1998, V. 54, p. 139−146.
    21. Munro В., Conrad P., Kramer S., Schmidt H., Zap P. Development of electrochromic cells by the sol-gel process // Solar Energy Mater. Solar Cells, 1998, V. 218, p. 131−137.
    22. Pennisi A., Simone F., Barletta G., Di Marco G., Lanza M. Preliminary test of a large electrochromic window// Electrochim. Acta, 1999, V. 44, p. 3237−3243.
    23. Monk P.M.S., Mortimer R.J., Rosseinsky D.R. Electrochromism: Fundamentals and Applications // VCH, Weinheim, Germany, 1995.
    24. Granqvist C.G. Electrochromic tungsten oxide films: Review of progress 1993−1998 // Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 2000, V. 60, p. 201−262.
    25. Granqvist C.G., Avendano E., Azens A. Electrochromic coatings and devices: survey of some recent advances // Thin Solid Films, 2003, V. 442, p. 201−211.
    26. Nagai J., McMeeking G.D., Saitoh Y. Durability of electrochromic glazing H> Soli Energy Mater. Sol. Cells, 1999, V. 56, p. 309−319.
    27. Azens A.,. Vaivars G, Veszelei M., Kullman L., Granqvist C.G. // J. Appl. Phys., 2001, V. 89, p. 78−85.
    28. Ahn K.-S., Nah Y.-C., Sung Y.-E., Cho K.-Y, Shin S.-S., Park J.-K. // Appl. Phys. Lett., V. 81,2002, p. 3930.
    29. Person C., Porqueras 1.,. Vives M, Corbella C., Pinyol A., Bertran E. Degradation of a solid state electrochromic device // Solid State Ionics, 2003, V. 165, p. 73−80.
    30. Yueyan S., Zhiyang Z., Xiaoji Y. Electrochromic properties of NiOxHy thin films // Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 2002- V. 71, p. 51−59.
    31. B.C., Сырчин B.K. Магнетронные распылительные системы// M. Радио и связь, 1982, 72 с.
    32. Musil J. Sputtering of thin films // Kovine, zlitine, tehnologije, 1997, 31, 1−2, p. 107 111.
    33. Zhang D.H., Yang T.L., Wang Q. P,. Gao R. W, Ma H. L Preparation of transparent conducting ZnO: Al films on polymer substrates by r. f. magnetron sputtering // Applied Surface Science, 2000, 158, p. 438.
    34. Chen M., Pei Z.L., Wang X., Sun C., Wen L.S. Properties of ZnO: Al films on polyester produced by dc magnetron reactive sputtering // Materials Letters, 2001, 48, p. 137 143.
    35. Kelly P. J,.Arnell R.D. Magnetron sputtering: a review of recent developments and applications // Vacuum, 2000, 56, p.159−172.
    36. Kourtev J et al. Unbalanced planar magnetron with continuos control of the operating mode from type I to type II // Vacuum, 1996, 47, 11, p.655−659.
    37. Window B.,.Sawides N. Unbalanced DC magnetrons as a souces of high ion fluxes // J.Vac.Sci.Technol. 1986, A4, p.171−177.
    38. Scholl R.A. Assymetric bipolar pulsed power: a new power technology // Surf.Coat.Technol. 1998, 98, p.823−827.
    39. Sail I. Recent aspects concerning DC reactive magnetron sputtering of thin films: a review// Surf.Coat.Technol. 2000,127, p.203−219.
    40. Szczyrbowski J. et al. Reactive Sputtering of dielectric layers on large scale substrates using an AC twin magnetron cathode // Surf.Coat.Technol. 1997, 93, p.14−20.
    41. Kirchhoff V., Kopte Т., Winkler Т., Schulze M., Wiedemuth P. Dual magnetron sputtering (DMS) system with sine-wave power supply for large-area coating // Surf.Coat.Technol., 1998, 98, p.828−833.
    42. Heister U. et al. TwinMag TM II attempts to improve an excellent sputter tool // Thin Solid Films, 1999, 351, p.27−31.
    43. Suzuki K. State of the art in large area vacuum coatings on glass //Thin Solid Films, 1999,351, p.8−14.
    44. Sawides N.,.Window B. Unbalanced magnetron ion-assisted deposition and property modification of thin films // J.Vac.Sci.Technol. 1986, A4, p.504−508.
    45. П.С. и др. Магнетронная распылительная система// RU 2 107 971 С1, 27.03.1998.
    46. Eiji Shidoji et al. An anomalous erosion of rectangular magnetron system // J.Vac.Sci.Technol. 2000, A18(6), p.2858−2863.
    47. Sieck P.A. et al Anode structure for magnetron sputtering systems // US Patent 5,487,821, 1996.
    48. Robinson M. G Gas distribution system for sputtering cathodes// US Patent 4,425,218, 1984.
    49. Welty R.P. Magnetron sputtering cathode //US Patent 4,892,633, 1990.
    50. Kukla M R. Magnetron sputtering on large scale substrates: an overview on the state of the art / // Surf.Coat.Technol., 93, 1997, p. 1−6.
    51. High rate sputtering of metal oxides with a moving plasma zone / R. Kukla, M. Bahr, S. Beiswenger, W.E.Fritsche, M. Lubbehusen // Thin Solid Films, 228, 1993, p.51−54.
    52. Newcomb R.L. High target utilization magnet array and associated methods // US Patent 6,372,098, 2002.
    53. Musil J Rectangular magnetron with full target erosion // J.Vac.Sci.Technol. 1999, A17(2), p.555−563.
    54. McKelvey H.E. Magnetron cathode sputtering apparatus // US Patent 4,356,073,1982.
    55. Bernick M.A. Sputtering cathode // US Patent 5,736,019, 1998.
    56. Dickey E.R. et al. Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems, // US Patent 4,425,218,1998.
    57. Hartig K., et al Magnetron cathode for a rotating target.// US Patent 5,364,518, 1994
    58. De Bossher W. et al. Magnetron with parallel race track and modified end portions thereof// US Patent 6,375,814,2002.
    59. Alami J., Gudmundsson J.T., Bohlmark J. et al. Plasma dynamics in a highly ionized pulsed magnetron discharge // Plasma Sources Sei. Technol. 2005, V. 14, p. 525−531.
    60. Gudmundsson J.T., Alami J., Helmersson U. Evolution of the electron energy distribution and plasma parameters in a pulsed magnetron discharge // Appl. Phys. Lett. 2001, V. 78, p. 3427.
    61. Alami J., Persson P.O., Bohlmark J. et al. Ion-assisted physical vapor deposition for enhanced film properties on nonflat surfaces // J.Vac.Sci.Technol. 2005, V. 23, № 2, p.278−280.
    62. Davis J.A., Sproul W.D., Christie D.J., et al. High power pulse reactive sputtering of Ti02 // 47th Annual Technical Conference Proceedings of the Society of Vacuum Coaters, 2004, p.215.
    63. Alami J., Eklund P., Andersson J.M. et al. High-power impulse magnetron? sputtering of Ti-Si-C thin films from a Ti3SiC2 compound target // Thin Solid Films, 2006, V. 515, № 4, p. 1731−1736.
    64. Christie D. J Target material pathways model for high power pulsed magnetron sputtering // J.Vac.Sci.Technol. 2005, V. 23, № 2, p.330−335.
    65. Alami J., Sarakinos K., Mark G. et al. On the deposition rate in a high power pulsed magnetron sputtering discharge // Appl. Phys. Lett. 2006, V. 89, № 15, p. 4104.
    66. Rossnagel S.M., Kaufman H.R. Current-voltage relations in magnetrons // J.Vac.Sci.Technol. 1988, V. 6, № 2, p.223−229.
    67. Jung-Hwan In, Sang-Hun Seo, Hong-Young Chang A novel pulsing method for the enhancement of the deposition rate in high power pulsed magnetron sputtering // Surface & Coatings Technology, 2008, 202, p. 5298−5301.
    68. Д.П., Коваль H.H., Щанин П. М. Генерация объемной плазмы дуговым разрядом с накаленным катодом / Известия ВУЗов. Физика, 1994, т.37, № 3, с. 115−120/
    69. Morozov A.I. Stationary plasma thruster, development steps and future perspectives // Proc. 23rd Int. Electric Propulsion Conf., Seattle, WA, 1993, p. 945−949.
    70. Morozov A.I. Electric propulsion thrusters and plasmadynamics // Proc. 24rd Int. Electric Propulsion Conf., Moscow, 1995, p. 41−53.
    71. Janes G.S., Dotso J., Wilson T. Momentum transfer through magnetic fields // Pros. 3rd SymP. on Advanced Propulsion Concepts, New York, 1962, p. 153−176.
    72. Zharino A.V.,. Popov Yu.S. Acceleration of plasma by a closed Hall curent // Sov. Phys.-Tech. Phys. 1967, V.12, p. 208−211.
    73. Vershinin N. et al Hall current accelerator for pre-tratment of large area glass sheets // Thin Solid Films, 1999, 351, p.190−193.
    74. В.М. Применение ускорителей с замкнутым дрейфом электронов и протяженной зоной ускорения в ионно-лучевой технологии обработки оптических деталей // Вакуумная техника и технология, 1992, т. П, № 1, с.42−47.
    75. Zhurin V.V., Kaufman H.R. and. Robinson R. S Physics of closed drift thrusters // Plasma Sources Sei. Technol. 1999, V.8, p. 1−20.
    76. Belan N.V., Kim V.P., Oransky A.I. and Tikhonov Y.B. Stationary plasma thrusters // Kharkov, 1989, p. 142.
    77. С.Д., Лесков A.B., Козлов Н. П. Ускорители плазмы //- М. Машиностроение, 1982, 245 е.
    78. .В., Кротова H.A., Смилга В.П- Адгезия твердых тел // М, Наука, 1993.
    79. Sarto F, Alvisi M., Mellissano E., Rizzo A., Scaglione S.,. Vassanelli L. Adhesion enhancement of optical coatings on plastic substrate via ion treatment // Thin Solid Films, 1 999 346, p. 196−201.
    80. Han S, Koh S.K., Yoon K.H. Induced surface reaction and chemical states: a kiloelectronvolt ion irradiation on simple linear chain structure polymer in an O2 enviromment // Journal of The Electrochemical Society, 1999,-146,11, p.4327−4333.
    81. Koh S.K., Cho J: S., Kim K.H.,.Han S, Beag J.W. Altering a polymer surface chemical structure by an ion-assisted reaction //J.Adhesion Sci.Technol. 2002,16, № 2, p. 129−142.
    82. A.A., Кривобоков В. П., Юдаков C.B. Система управления промышленной плазменной установкой- // Известия Томского политехнического университета, 2005, Т. 308, № 4, с. 59−63.
    83. Senf J., Bruckner J., Deus С. et al. A new sputter roll coater design for coating of optical multi-layers // 16th international conference on vacuum web coating, Sedona, USA, 2002, p. 1−7.
    84. Field D. J, Dew S.K., Burrell R.E. Spatial survey of a magnetron plasma sputtering system using a Langmuir probe // J. Vac. Sci. Technol. 2002, V.20(6), p. 2032−2041.
    85. Методы исследования плазмы / Под ред. В. Лохте-Хольтгревена // М.: Мир,-1971,552 с.
    86. Jones R Optimization- and performance of electrostatic, particle analyzers // Rev.Sci.Instrum., 1978, 49- 1, p.21−23-
    87. Kudyan И.М. Interpretation of electrostatic energy analyzer data of a flowing plasma / // Rev.Sci.Instrum., 1978,49, 1, p.8−10.
    88. Hatchinson I. Principles of Plasma Diagnostic // Cambridge University Press, Cambridge, 1987. p.449.
    89. Engstrom C., Berlind Т., BirchJ. et al. Design, plasma studies and ion assisted thin film growth in an unbalanced dual target magnetron sputtering system with a solenoid coil // Vacuum- 2000, V.56, p.107−113.
    90. М., Вольф Э- Основы оптики // М.: Наука, 1973, 719 с.
    91. Физика тонких пленок. Т VI / М.: Мир, 1973, 392 с.
    92. Н.С., Соловьев А.А.,. Захаров А. Н. / Магнетронная распылительная система // RU 2 242 821,20.12.2004.
    93. С.П., Ковшаров Н.Ф.,. Сочугов Н. С, Ладыженский О. Б. Технологическая установка «ВНУК» для нанесения теплоотражающих покрытий на архитектурные стекла
    94. Докл. VI конф. «Модификация свойств конструкционных материалов пучками заряженных частиц» — г. Томск, 23−29 сентября. 2002 г., с. 43−46.
    95. Fan J.C.C., Backner F.J. Transparent heat mirrors for solar-energy applications // Appl. Opt. 1976, Vol. 15, p. 1012−1017.
    96. Chiba K., Sobajima S., Yatabe T. Transparent heat insulating coatings on polyester film using chemically-prepared dielectrics // Sol. Energy Mater., 1983, Vol. 8, p. 371−385.
    97. Suzuki E., Aomine N. et al. Sputtered silver-based low-emissivity coatings with high moisture durability / Ando. // Vacuum, 2000, V.59, p. 792−799.
    98. Д.Д., Кривобоков В. П., Легостаев B.H. Оптимизация- параметров плазменных теплоотражающих покрытий // Известия Томского политехнического университета, 2004, Т. 307, № 2, С. 29−33.
    99. De Bosscher W., Lievens H. Magnetron with parallel race track and modified end portions thereof// US Patent 6,375,814, 2002.
    100. Vanderstraeten E., Morgan, S., Vanderstraeten J. & Gobin, G. Apparatus and method for sputtering a magnetron target // Patent of Canada W098/35 070,1998.
    101. Liua X., Cai X., Qiao J., Mao J., Jiang N. The design of ZnS/Ag/ZnS transparent conductive multilayer films // Thin Solid Films., 2003, Vol. 441, p. 200−206.
    102. Gordon R. Chemical vapor deposition of coatings on glass // J. .Non-Cryst. Solids., 1997, 218, p. 81−91.
    103. Kusano K., Kawaguchi J., Enjouji K. Thermal stability of heat-reflective films consisting of oxide-Ag-oxide deposited by dc magnetron sputtering // J. Vac. Sci. Technol., 1986, A4, p. 2907−2910.
    104. Soloviev A.A., Sochugov N.S., Oskomov K. V Influence of deposition parameters on properties of magnetron sputtered Ag films // Изв. вузов. Физика, 2007, № 9, Приложение. — С. 453−456.
    105. А.А., Сочугов Н. С., Оскомов К. В., Захаров, А.Н. Свойства многослойных ZnO: Ga/Ag/ZnO:Ga покрытий, наносимых магнетронным распылением.// Физикохимия поверхности и защита материалов. 2010, Т. 46. № 4, С. 361−366.I
    106. Arbab М. The base layer effect on the d.c. conductivity and structure of direct current magnetron sputtered thin films of silver // Thin Solid Films., 2001, 381, p. 15−21.
    107. Физические величины: Справочник / А. П. Бабичев и др. // М.- Энергоатомиздат, 1991, С. 1232.
    108. Kouznetsov V,. Macak К, Schneider J.M., Helmersson U., Petrov I. A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities // Surf. Coat. Technol: 1999,122, p. 29−35.
    109. Bohlmark J., Latteman M., Gudmundsson J.T. The ion energy distribution ion flux composition from a high power impulse magnetron sputtering discharge // Thin- Solid Films., 2006, 515, p. 1522−1526.
    110. Таблицы спектральных линий / А. Н. Зайдель, В. К. Прокофьев, .С. М. Райский, В. А. Славный, Е. Я. Шрейдер // М.- 1969, С. 784.
    111. Bedja I., Hotchandani S.,. Carpentier R, Vinodgopal K.,. Kamat P.Y. Electrochromic and Photoelectrochemical Behavior of Thin WO3 Film Prepared from Quantized Colloidal Particles // Thin Solid Films, 1994, 247, p. 195.
    112. Kaneko H., Nishimoto S., Miyake K., Suedomi N.J. Physical and electrochemichromic properties of rf sputtered tungsten oxide film // Appl. Phys., 1986, 59, p. 2526.
    113. Zhang Y.,. Wessel' S. A, Colbow K. Spray pyrolysis electrochromic WO3 -films: electrical and X-ray diffraction measurements // Thin Solid Films, 1990, 185, p. 265.
    114. Ashrit P.V. Structure-dependent electrochromic behavior of WO3 thin films under dry lithiation // SPIE Colorado, 1999, 158, p.3789.
    115. Monteiro A., Costa M.F., Almeida В., Teixeira V., Gago J., Roman E. Structural and optical characterization of WO3 deposited on glass and ITO // Vacuum, 2002, 64, p. 287.
    116. С. П., Захаров А.Н.,. Оскомов К. В, Сочугов Н. С Электрохромизм вIпленках триоксида вольфрама, полученных методом реактивного магнетронного распыления вольфрамовой мишени. // Изв. ВУЗов Физика, 1996, т.39, № 5, С.4−9.
    117. А.Н., Оскомов К. В., Сочугов H.C.Transparent Conducting Al-doped Zinc Oxide Films- Reactively Sputtered on PET Substrates // Изв. вузов. Физика, 2007, №.9 (Приложение), С. 457 459.
    118. Захаров А. Н, Подковыров В. Г., Работкин С. В., Сочугов Н. С. / Способ получения пленок оксида цинка // RU 2 316 613, 10.02.2008.
    119. А.И., Секушин Н. А. Электрохромизм и фотохромизм в оксидах вольфрама и молибдена // JL: Наука, 1990, С. 112.
    120. Duggan M.J., Saito Т., Niwa Т. Ionic conductivity of tantalum oxide by rf sputtering /.// Solid State Ionics, 1993, V. 62, № 1−2, p. 5−20.
    121. Slade R.C.T., Barker J., Halstead T. Protonic conduction and diffusion in the hydrous oxides V205-wH20, Nb205-wH20, Ta205-wH20 and Ce02wH20 // Solid State Ionics, 1997, V. 24, № 2, p.147−153.
    122. A.A., Быстров Ю. А., Комлев A.E., Мезенов А. В., Шаповалов В.И Частотная дисперсия пленок оксида тантала // Письма в ЖТФ, 2006, том 32, № 2, с. 61−66.
    123. Tajima К., Yamada Y., Bao S., Okada М., Yoshimura К. Reactive DC sputter-deposited tantalum oxide thin film for all-solid-state switchable mirror // Vacuum, 2009, 83, p.602−605.
    124. Ozer, N., Lampert, С. M. Structural and optical properties of sol-gel deposited proton conducting Ta205 films // Journal of Sol-Gel Science and Technology, 1997, 8, p. 703−709.
    125. Abe Y., Itadani N., Kawamura M., Sasaki K., Itoh H. Ion conducting properties of hydrogen-containing Ta2Os thin films prepared by reactive sputtering // Vacuum, 2009, 83, p.528−530.
    126. Yoon-Chae Nah, Kwang-Soon Ahn, Yung-Eun Sung Effects of tantalum oxide films on stability and optical memory in electrochromic tungsten oxide films // Solid State Ionics, 2003,165, p. 229−233.
    127. Bard A. J, Faulkner L.R. Electrochmical methods: fundamentals and application // John Wiley & Sons, INC., 2001, p.814.
    Заполнить форму текущей работой

    Пора сдавать?