Компьютерное моделирование спектров ЭПР радиационных дефектов и переходных элементов в ион-имплантированных стеклах и в тонких аморфных пленках
![Диссертация: Компьютерное моделирование спектров ЭПР радиационных дефектов и переходных элементов в ион-имплантированных стеклах и в тонких аморфных пленках](https://westud.ru/work/2523328/cover.png)
Диссертация
В кварцевых стеклах, имплантированных ионами Ti+ при дозах > 1017 см'2, часть Ti нескольких процентов) присутствует в форме слабо взаимодействующих ионов Ti3+, локализованных в окружении тетрагонально сжатого октаэдра, с основным состоянием — ху >. При высоких дозах (6−1017 см'2) Ti3+ входит в нестехиометрические оксиды Tin02n-iВ фосфатных стеклах, так же как и во фторалюминатных… Читать ещё >
Содержание
- Общая характеристика работы
- ГЛАВА 1. Обзор литературы
- 1. Стеклообразное состояние. Структура стекла
- 2. Радиационные парамагнитные дефекты (РПД) в неорганических стеклах, индуцированные у-излучением
- 2. 1. Основные РПД в у-облученном кварцевом стекле, связанные с его собственными дефектами
- 2. 2. Радиационные парамагнитные центры (РПЦ) в силикатных стеклах
- 2. 3. Радиационные парамагнитные центры в боратных стеклах
- 2. 4. Радиационные парамагнитные центры в фосфатных стеклах
- 2. 5. Парамагнитные дефекты в у-облученных фторидных стеклах
- 3. Парамагнитные центры в оксидных стеклах, связанные с имплантированными ионами
- 3. 1. Ионная имплантация
- 3. 2. РПД в ион-имплантированных пленках аморфного кварца (а—Si02) на кремнии
- 3. 3. РПД в ион-имплантированных кварцевых стеклах
- 3. 4. Ион-имплантированные силикатные стекла
- 4. ЭПР переходных элементов в стеклах
- 5. ЭПР стекол, имплантированных переходными элементами
- ГЛАВА 2. Методика эксперимента и компьютерное моделирование спектров
- 1. Цель работы. Постановка задачи. Методика эксперимента
- 2. Алгоритм компьютерного моделирования спектров ЭПР
- 2. 1. Моделирование спектров ЭПР с анизотропным g-фактором и сверхтонкой структурой
- 1. Дефекты в оксидных стеклах, имплантированных различными ионами
- 1. 1. А- и В-спектры
- 1. 2. S-сигнал
- 2. Парамагнитные центры в оксидных стеклах, имплантированных ионами С*
- 3. Парамагнитные центры в оксидных стеклах, имплантированных ионами N*
- 4. Силикатные и фосфатные стекла, имплантированные ионами РЬ+
- 5. Дырочные центры, связанные с кислородом
- 6. Ион-имплантированные фторалюминатные стекла
- 1. Переходные элементы в кварцевом стекле
- 1. 1. Титан
- 1. 2. Цирконий
- 1. 3. Хром
- 2. Фосфатные стекла
- 2. 1. Титан
- 2. 2. Ванадий
- 2. 3. Кобальт
- 2. 4. Эффект Ti—Си ионного смешивания
- 3. Фторидные стекла
- 3. 1. Титан во фторалюминатных стеклах
- 3. 2. Никель во фторалюминатных стеклах
- 3. 3. Цирконий во фторцирконатных стеклах
Список литературы
- Arnold G.W., Mazzoldi P. 1.n Beam Modification of glasses. // in: «Ion Beam Modification of Insulators», ed. by P. Mazzoldi and G.W. Arnold. Amsterdam, Elsevier. — 1987. — Chap. 5. — p. 195−222.
- Arnold G.W. Ion implantation in alkaliborate glasses. // Radiat. Eff. — 1986.—V. 98. —p. 55−91.
- Hobbs A., Barklie R.C., ReesonK., Hemment P.L.F. Dose dependence of defects in silicon produced by high dose, high temperature 0±implantation. // in: «Defects in Semiconductors», ed. by H.J. Bardeleber. Switzerland. — 1986. — V. 10−12.— p. 1159−1164.
- Sazonov A., Nathan A., Striakhilev D. PECVD amorphous silicon nitride at 120° С for a—Si:H TFTs. // MRS Symp. Proc. 2001. — 695E. — Publ. MqD.5.15.
- Zachariasen W.H. The atomic arrangement in glass. // J. Amer. Chem. Soc. — 1932. — V. 54. — p. 3841−3851.
- Biscoe J., Warren B.S. X-ray diffraction study of soda-boric oxide glasses. // J. Amer. Ceram. Soc. — 1938. — V. 21. — p. 287−293.
- Goldshmidt V.M. Geochemische Verteilungsgesetze der Elemente. // J. Math. Naturwiss. — 1926. — № 8. — p. 7−156.
- Петровский Г. Т., Абдрашитова Э. И. Структурные и физико-химические особенности фторбериллатных стекол. // Физика и химия стекла. 1983. — Т. 9. — № 9. — с. 385−482.
- Sun K. // US Patent 2.466.509, 1949.
- Videau J.-J., Porter J. Fluoride glasses.// in: «Inorganic solid fluoride: chemistry and physics.» Orlando. — 1985. — p. 309−329.
- Weeks R.A. Paramagnetic resonance of lattice defects in irradiated quarts. // J. Appl. Phys. — 1956. — V. 27. — p. 1376−1381.
- Griscom D.L. Electron spin resonance in glasses. // J. Non-Cryst. Solids. — 1980. — V. 40. — p. 211−272.
- Silsbee R.H. Electron spin resonance in neutron-irradiated quartz. // J. Appl. Phys. — 1961. — V. 32. — p. 1459−1462.
- Griscom D.L. E'-center in glassy silicon oxide: 170, 29Si, Ш and «very weak» 29Si hyperfine structure. // Phys. Rev. — 1980. — V. B2. — p. 4192−4202.
- Feinl F.J., Fowler W.B., Yip K.L. Oxygen vacancy model for the E'-center in Si02. // Solid State Commun. — 1974. — V. 14. — p. 225−229.
- Warren W.L., Lenahan P.M., Brinker C.J. Experimental evidence of two fundamentally different E' precursor in amorphous silicon dioxide. // J. Non-Cryst. Solids. — 1991. V. 136. — p. 151−162.
- Stapelbroek M., Griscom D.L., Friebele E.J., Sigel G.H. Oxygen-associated trapped-hole centers in high-purity fused silica. //J. Non-Cryst. Solids. — 1979. — V. 32. — p. 313−319.
- Friebele E.J., Griscom D.L., Stapelbroek M., Weeks R.A. Fundamental defect centers in glass: peroxiradical in irradiated, high purity, fused silica. // Phys. Rev. Lett. — 1979. V. 42. — p. 1346−1349.
- Tsai Т.Е., Griscom D.L. Experimental evidence of exiting mechanism of defect generation in high purity silica. // Phys. Rev. Lett. — 1991. — V. 67. — p. 2517−2520.
- Griscom D.L. Electron spin resonance studies of trapped hole centers in irradiated alkalisilicate glasses: a critical comment on currents models for HCj and HC2. // J. Non-Cryst. Solids. — 1984. — Y. 64. — p. 229−247.
- Griscom D.L. E.S.R. studies of radiation damage and structure in oxide glasses not containing transition group ions: a contemporary overview with illustrations from the alkali-borate system. // J. Non-Cryst. Solids. — 1973/74. — V. 13. — p. 251−285.
- Стародубцев B.A., Шиян JI.H., Заусуева H.H. Образование фосфорно-кислородных радикалов в фосфатных стеклах при импульсном облучении электронами средних энергий. // Физика и химия стекла. — 1990. — Т. 16. — с. 165−168.
- Карапетян Т.О., Юдин Д. М. Изучение структуры неорганических стекол методом ЭПР. // В кн.: «Радиоспектроскопия твердого тела». М. — 1963. — с. 363−366.
- БебихЛ.Г., Корниенко JI.С., Литвин Б. Н., Рыбалтовский А. О., Тихомиров В. А. Радиационные парамагнитные центры в стеклообразном и кристаллическом ультрафосфате Лантана. // Физика и химия стекла. — 1984. — Т. 10. —с. 139−144.
- Корниенко Л.С., Денер Б. И., Осипов В. В., Рыбалтовский А. О., Тихомиров В. А. Радикал-ионы в стеклообразных редкоземельных фосфатах, содержащих различные щелочные модификаторы. // Физика и химия стекла. — 1984. — Т. 10. — с. 592−598.
- Griscom D.L. Defect centers in heavy-metal fluoride glasses: a review. // J. Non-Cryst. Solids. — 1993. — V. 161. — p. 45−51.
- Богомолова JI.Д., Жачкин В. А. Парамагнитные центры в ион-имплантированных неорганических стеклах. // Физика и химия стекла. — 1998. Т. 24. — № 1. — с. 3−30.
- Devine R.A.B., Golansky. Creation and annealing kinetics of magnetic oxygen vacancy centers in Si02. // J. Appl. Phys. — 1983. — V. 54. — № 7. — p. 3833−3838.
- Hobbs A., Barrlie R.C., Hemment P.L.F., Reeson K. EPR of defects in sili-con-on insulator structures formed by ion implantation: II. N+ implantation. // J. Phys. C.: Solid State Phys. — 1986. V. 19. — p. 6433−6439.
- Devine R.A.B., Golansky A. Dinamics of defect creation by ion implantation in thermal Si02. // J. Appl. Phys. — 1984. V. 55. — p. 2738−2740.
- Golansky A., Devine R.А.В., Oberlin J.C. Irreversible and reversible annealing of paramagnetic oxygen vacancy (E'-centers) in oxygen implanted Si02. // J. Appl. Phys. — 1984. V. 54. — № 6. — p. 1572−1575.
- Devine R.A.B. Oxygen vacancy creation in Si02 through ionization energy deposition. // J. Appl. Phys. Lett. — 1983. — V. 43. № 11. — p. 1056−1058.
- Whichard G., Hosono H., Weeks R.A., Zuhr R.A., Magruder R.H. III. Electron paramagnetic resonance spectroscopy of titanium-ion-implanted silica. // J. Appl. Phys. 1990. — V. 67. — № 12. — p. 7526−7530.
- Hosono H., Weeks R.A. Structural defects in chromium-ion-implanted vitreous silica. // Phys. Rev. B. 1989. — V. 40. — № 15. — p. 10 543−10 549.
- Hosono H., Abe Y., Oyoshi K., Tanaka Sh. Effects co-implantation of silicon and nitrogen on structural defects and Si—N bond formation in silica glass. // Phys. Rev. B. 1991. — V. 43. — № 14. — p. 11 966−11 970.
- Hosono H., Ikuhara Y., Abe Y., Weeks R.A. Formation of copper nano-scale particles in implanted silica glass. // J. Mater. Sci. Lett. — 1992. — V. 11. — p. 1257−1259.
- Hosono H. Structural defects and states of implanted ions in silica glasses implanted with silicon and/or nitrogen ions. // Nucl. Instrum. and Methods in Phys. Res. — 1992. — V. B65. — p. 375−379.
- Dooryhee E., Langevin Y., Borg J., Duraud J.P., Balanzat E. Formation of paramagnetic defects in high purity silica by high-energy ions. // J. Appl. Phys. — 1988. V. 63. — № 5. — p. 1399−1407.
- Holzenkampfleer E., Richter F.W., Stuke J., Voget-Grote U. Electron spin resonance and hopping conductivity of a—SiOx. // J. Non-Cryst. Solids. — 1979. — V. 32. p. 327−338.
- Bogomolova L.D., Teplyakov Yu.G., Deshkovskaya A.A., Caccavale F. Some peculiarities of EPR spectra of E'-centers in ion-implanted silica glasses. // J. Non-Cryst. Solids. // J. Non-Cryst. Solids. — 1996. V. 202. — № 1−2. -p. 185−193.
- Webb A.P., Townsend P.D. Refractive index profiles induced by ion implantation into silica. // J. Phys. D. 1976. — V. 9. — № 9. — p. 1343−1354.
- MacGregor A.I., MacCrone R.K. Defects in 0±implanted silicate glasses and reactions with water. // J. Non-Cryst. Solids. — 1988. — V. 102. — p. 30−35.
- Bogomolova L.D., Deshkovskaya A.A., Krasil’nikova N.A., Battaglin G., Caccavale F. EPR study of structural defects in ion-implanted multicomponent silicate glasses. // J. Non-Cryst. Solids. — 1992. V. 151. — p. 23−31.
- Hosono H., Zuhr R.A. Structural factors controlling nanasize copper in doped amorphous silica by ion implantation. // J. Non-Cryst. Solids. — 1994. — V. 178 p. 160−165.
- Fukumi K., Chayahara A., Kitamara N., Akai Т., Hayakawa J., Fujii K., Satou M. Formation of CuCl ultrafine particles in silica glass by ion implantation. // J. Non-Cryst. Solids. 1994. — V. 178. — p. 155−159.
- Sands R.H. Paramagnetic resonance absorption in glass. // Phys. Rev. — 1955. V. 99. — p. 1222−1226.
- Harris Е.А. The nature of Ti3+ centers in a zirconium glass. // Phys. Chem. Glasses. 1987. — V. 28. — p. 112−114.
- Harris E.A. Electron paramagnetic resonance study of iron group transition ions in glasses based on ZrF4. // Phys. Chem. Glasses. — 1987. — V. 28. — № 5. — p. 196−202.
- Legein C., Buzare J.Y., Jacoboni C. EPR structural investigations of transition metal fluoride glasses (TMFG). // J. Non-Cryst. Solids. — 1993. — V. 161. — p. 112−117.
- Hecht H.G., Johnston T.S. Study of the structure of vanadium in soda-boric oxide glasses. // J. Chem. Phys. — 1967. — V. 46. — № 1. — p. 23−34.
- Hochstrasser G. Detection of V02+ in glass by ESR. // Phys. Chem. Glass. 1966. -V. 7. — № 5. — p. 178−182.
- Toyuki H., Akagi S. EPR and optical spectra of vanadyl ion in alkali borate glasses. // Phys. Chem. Glasses. — 1972. — V. 13. — p. 15−19.
- Paul A., Assagby F. Optical and ESR Spectra of Vanadium (IV) in different simple germanate, phosphate and borate glasses. // J. Mater. Sci. — 1975. — V. 10. p. 613−620.
- Muncaster R., Parke S. ESR spectra in the system V205—Te02. // J. Non-Cryst. Solids. 1977. — V. 24. — No 1. — p. 399−412.
- Paul A., Upreti G.C. EPR and optical absorption of Cr3+ in binary Na20— B203 glasses. // J. Mater. Sci. — 1975. — V. 10. p. 1149−1153.
- Гарифьянов H.C. Электронный парамагнитный резонанс Cr5+ в стеклах. // Физика твердого тела. — 1962. — Т. 4. — с. 1962−1965.
- Богомолова JI.Д., Лазукин В. Н., Петровых Н. В. Влияние кобальта на спектры ЭПР Си2+ в оксидных стеклах.// ДАН СССР. — 1968. Т. 181. -№ 2. — с. 313−316.
- MatsudaJ., Kojima К., Yano Н., MarusawaH. Magnetic moments and ESR spectra of Co2+ ions in alkali-borate glasses. // J. Non-Cryst. Solids. — 1989. — V. 111. p. 63−66.
- Bogomolova L.D. States of ions of transition and rare-earth elements implanted into silica glasses. // in: Proc. of the Second Intern. Conference on Silica Sci. and Techn. «Silica 2001″, Mulhouse, France, Sept. 3−6, 2001. — CD. — Abstracts. — p. 125.
- Абрагам А., Блини Б. „Электронный парамагнитный резонанс переходных ионов“: пер. с англ. // М., „Мир“. — 1972. — Т. 1. — 652 е.- Т. 2. — 352 с.
- Гарифьянов Н.С., Яфаев Н. Р. Электронный парамагнитный резонанс Zr3+ в стеклах. // ЖЭТФ. 1963. — Т. 16. — с. 1392−1397.
- Isobe Т., Park S.Y., Weeks R.A., Zuhr R.A. The optical and magnetic properties of Ni-implanted silica. // J. Non-Cryst. Solids. — 1995. — V. 189. — p. 173−180.
- Whichard G., Weeks R.A., Zuhr R.A. Comparison of magnetic properties of iron and manganese ion implanted glasses. // in: Proc. of XV Intern. Cong, on Glass, Leningrad, 1989, ed. by O.V. Mazurin. Leningrad, „Nauka“. — 1989. — V. 2b. p. 271−276.
- Bogomolova L. D, Tepliakov Yu.G., Caccavale F. EPR of some oxide glasses implanted with Mnf and Cu1 ions. /"/» J. Non-Cryst. Solids. — 1996.
- V. 194. № 2. — p. 291−296.
- Bogomolova L.D., Stefanovsky S.V. Paramagnetic centers in ion-implanted glasses. // Proc. of XXII Intern. Congress on Glass, San-Francisco, 1998. — CD.
- Bogomolova L.D., Jachkin V.A., Krasil’nikova N.A., Bogdanov V.L., Fe-dorushkova E.B., Khalilov V.D. EPR of transition metals in fluoroaluminate glasses. // J. Non-Cryst. Solids. 1990. — V. 125. — № 1. — p. 32−39.
- Альтшулер T.C. О сверхтонкой структуре спектров ЭПР редкоземельных ионов в стеклах. // Физика твердого тела. — 1967. — Т. 9- — с. 2070−2076.
- SwalenJ.D., Gladney Н.М. Computer analysis of electron paramagnetic resonance spectra. // J. Res. Developm. — 1964. —V. 8. — № 5. — p. 515−526.
- Керрингтон А., Мак-Лечлан Э. «Магнитный резонанс и его применение в химии.» // М., «Наука». 1970. — 447 с.
- Peterson G.E. Magnetic Res9nance and glass structure. // Amorphous magnetics, 2. Proc. of 2nd Intern. Symp. New-York, Troy. — 1976. — p. 535−549.
- Клява Я.Г. «ЭПР-спектроскопия неупорядоченных твердых тел.» // Рига, «Зинантне». — 1988. — 320 с.
- Hosono Н., Abe Y., Kawazoe Н., Kanazawa Т. EPR lineshape of Cu2+ and y-induced Cd+ in soda borate glasses.// Yogyo-Yokai Shi.— 1984.— Y. 92.— № 6.—p. 350−359.
- Богомолова JI.Д., Гречко Е. Г., Жачкин ВА., Красильникова Н. А., Сахаров В. В., Семенова Т. В. ЭПР некоторых переходных элементов во фторцир-конатных стеклах. // Физика и химия стекла. — 1987. — Т. 13. — с. 202−209.
- Bogomolova L.D., Jachkin V.A., Prushinsky S.A., Stefanovsky S.V., Teplyakov Yu.G., Caccavale F. EPR study of paramagnetic species in oxide glasses implanted with nitrogen. // J. Non-Cryst. Solids. — 1997. — V. 220. — p. 109−126.
- Bogomolova L.D., Jachkin V.A., Prushinsky S.A., Dmitriev S.A., Stefanovsky S.V., Teplyakov Yu.G., Caccavale F. Paramagnetic species induced by ion implantation of Pb+ and C+ ions in oxide glasses. // J. Non-Cryst. Solids. — 1998. — V. 241. p. 174−183.
- Dutt D.A., Higby P.L., Griscom D.L. An electron spin resonance study of X-irradiated calcium aluminosilicate glasses.// J. Non-Cryst. Solids.— 1991.— V. 130.—p. 41−51.
- Che M., Tench A.J. Characterisation and reactivity of molecular oxygen species on Oxide Surfaces. // Advances in Catalysis. — 1983. — V. 32. — p. 1−148.
- Che M., Tench A.J. // Advances in Catalysis. 1982. — V. 31. — p. 77.
- Kanzig W., Cohen M.H. Paramagnetic resonance of alkali halides. // Phys. Rev. Lett. — 1959. — V. 3. — No. 3. — p. 509−510.
- Landolt-Bornstein// in: Fisher H., Hellwege K.-H. (Eds.) «Numerical Data and Functional Relationships in Science and Technology.» New Series. Magnetic properties of free radicals, Group II. — V. 9. — Part A. — (Berlin, Springer, 1977) p. 81−119.
- Biersack J.P., Haggmark L.G. // Nuclear Instrum. & Methods. — 1980. — V. 174. № 1−2. — p. 257−269.
- Griscom D.L., Merzbacher СЛ., Weeks R.A., Zuhr R.A. Electron spin resonance studies of defect centers induced in high-level wast glass simulated by gamma-irradiation and ion implantation. // J. Non-Cryst. Solids. — 1999. — V. 258. p. 34−47.
- Gozlan M.M., McKenzie D.R., Miller D.J., Collocott S.J., Amara-tunga G.A.J. Magnetic and spin properties of tetraheral amorphous carbon. // Diamond and Relat. Maters. — 1995. — V. 4. — p. 912−916.
- Sakka S., Kamiya K., Yoko T. Preparation and properties of Ca—Al—Si— O—N oxynitride glasses. // J. Non-Cryst. Solids. — 1983. — V. 56. — № 1−3. — p. 147−152.
- Honey J., McGarry L.D. // J. Amer. Ceram. Soc. 1984. — V. 67. -p. 225.
- Будов B.B., Бормотунов K.A. Исследование оксинитридных стекол в системе Mg—Al—Si—О—N. // Физика и химия стекла. — 1994. — Т. 20 — № 3. с. 316−321.
- Jankowski Р.Е., Risbud S.H. Synthesis and characterization of an Si— Na-B—O-N glass. // J. Amer. Ceram. Soc. — 1980. — V. 63. № 5−6. — p. 350−352.
- Bates C.W. Jr., Leniart D., Straka E. Electron spin resonance studies of reduced and unreduced lead silicate glasses. // Solid State Commun. — 1973. — V. 13. p. 1057−1060.
- Kim Y.M., Bray P.J. Electron spin resonance studies of gamma-irradiated glasses containing lead. // J. Chem. Phys. — 1968. — V. 49. — № 3. — p. 1298−1301.
- Friebele E.J. // in: Proc. of XI Intern. Cong, on Glass, Prague. — 1977. — V. 3. p. 87.
- Hosono H., Nishii J, Kawazoe H., KanazawaT., Ametani K. EPR spectra Pb3+ and Ag° in glass. // J. Chem. Phys. 1980. — V. 84. — p. 2316−2319.
- Cases R., Griscom D.L., Tran D.C. Radiation effects in ZrF4 based glasses. // J. Non-Cryst. Solids. — 1985. — V. 72. № 1. — p. 51−63.
- Caccavale F., Mazzoldi P., Taramortin L., BattaglinG., Boscolo-Boscoletto A. // in: Proc. of XVI Intern. Cong, on Glass, ed. by S.E. de Ceramico y Vidrio. Bol. Soc. Esp. Cer. Vid. — 1992. — 31-C V.3. — p. 205−210.
- IsobeT., Weeks R.A., Zuhr R.A. Magnetic properties of nanosize nickel particles produced in silica giass by ion implantation and subsequent annealing. /'/" Solid. State Commun. 1998. — V. 105. — № 7. — p. 469−472.
- Hosono H., Weeks R.A., Imagawa H., Zuhr R.A. Formation of oxygen-deficient type structural defects and state of ions in Si02 glasses implanted with transition metal ions. // J. Non-Cryst. Solids. 1990. — V. 120. — p. 250−255.
- Bertoncello R., Glisenti A., Granozzi G., Battaglin G., Caccavale F., Cattaruzza E., Mazzoldi P. Chemical interactions of titanium- and tungsten-implanted fused silica. // J. Non-Cryst. Solids. — 1993. — V. 162. — p. 205−206.
- Houlihan J.F., Mulay L.N. Electron paramagnetic resonance of oxides of titanium. Effective moment of Ti3+ ions. // Inorg. Chem. — 1974. — V. 13. — № 3. p. 745−747.
- Houlihan J.F., Danley W.J., Mulay L.N. Magnetic susceptibility and EPR spectra of titanium oxides: correlation of magnetic parameters with transport properties and composition. // J. of Solid State Chem. — 1975. — V. 12. — p. 265−269.
- Stark J.D., Weeks R.A., Whichard G., Kinzer D.L., Zuhr R.A., Magruder R.H. III. The effects of ion implantation on optical spectra of Si02 glass. // J. Non-Cryst. Solids. 1987. — V. 95&96. — p. 685−692.
- Hosono H., Kawazoe H., Oyoshi K., Tanaka S. Paramagnetic resonance of E'-type centers in Si-implanted amorphous Si02. // J. Non-Cryst. Solids. — 1994. V.179. — p. 39−50.
- Shultz P.C. // J. Amer. Ceram. Soc. 1974. — V. 57. — p. 309.
- Lytle F.W., Gregor R.B. Identification of transition metal sites in fused Si02 by X-ray absorption spectroscopy. // Mater. Res. Soc. Symp. Proc. — 1986. — V. 61. p. 259−271.
- Альтшулер C.A., Козырев Б. М. Соединения переходных элементов. // в кн.: «Электронный парамагнитный резонанс». М., «Наука». — 1972. — 672 с.
- Mori Н. Paramagnetic resonance line width in antiferromagnets. // Progr. in Theor. Phys. 1963. — V. 30. — № 4. — p. 578−581.
- Kawazaki K. Anomalous spin relaxation near magnetic transition. // Progr. in Theor. Phys. 1968. — V. 39. — № 2. — p. 285−311.
- Huber D.L. Critical point anomaly in electron paramagnetic resonance linewidths and the zero-field relaxation time of antiferromagnets. // Phys. Rev. B. — 1972. V. 6. — № 9. — p. 3180−3186.
- Griscom D.L., Stapelbroek M., Weber M.J. Electron spin resonance studies of ion-group impurities in beryllium fluoride glasses. // J. Non-Cryst. Solids. — 1980. V. 41. — № 3. — p. 329−345.
- Griscom D.L. Ferromagnetic resonance of fine grained precipitates in glass. // J. Non-Cryst. Solids. 1980. — V. 42. — p. 287−296.
- Kohler K., Mofke W., Bieruta T. Magnetic resonance (FMR, EPR) of chromium dioxide supported on titania. // Colloids Surf. A.: Physicochem. Eng. Aspects. 1998. — V. 144. — p. 81−87.
- Bogomolova L. D, Prushinsky S. A, Krasil’nikova N.A., Trul O.A., Ste-fanovsky S.V. EPR of transition metal ions in ion implanted fluoride and phosphate glasses. // J. Chem. And Phys. Of Glasses. — (2002) — accepted for publication.
- Kuska H.A., Rogers M.T. «Electron Spin Resonance of first Row TransirAi ^ t» j it? t" t xr // :xt1.on metal v^umpiex ions, eu. uy jd.i. ivaisci, jl,. xvcvmi. // iincisuicnuc ruuu., incw
- York, London, Sydney. 1968. — 219 p.
- Low W. «Paramagnetic Resonance in Solids». // Academic Press, NY and London. — 1960. — 213 p.
- Bertini I., Gatteschi D., Scozzafava A. Six-coordinated copper complexes with si
- Bogomolova L. D, Krasil’nikova N.A., Prushinsky S. A, Trul O.A., Ste-fanovsky S.V. EPR of fluoroaluminate glasses implanted with titanium. // J. Non-Crystal. Solids.- 2001. V. 282. — p. 329−332.
- Roth J. Chemical sputtering. // in: «Sputtering by particle bombardment». II. Ed. by R. Bechrish. Berlin, Springer-Verlag. — 1983.
- Robertson J. Defects and hydrogen in amorphous silicon nitride. // Phy-losofical Magazine B. 1994. — Y. 69. — № 2. — p. 307−326.
- Chen D.K., Viner J.M., Taylor P.C. On the nature of paramagnetic defects in hydrogenated amorphous silicon nitride. // Solid Statr Communs. — 1996. — V. 98. № 28. — p. 745−750.
- Штутцман M., Бигельсон Д. // в кн. «Аморфный кремний и родственные материалы.» Под ред. К. Фритцше. М., «Мир». — 1991. — Гл. 9. — с. 257−289.
- Morimoto A., Tsujimura Y., Kumeda М., Shimizu Т. Properties of hydrogenated amorphous Si—N prepared by various methods. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 1. 1985. — V. 24. — № 11. — p. 1394−1398.
- Shimizu Т., Oozora S., Morimoto A., Kumeda M., Ishii N. // Solar Energy Mater. 1992. — V. 8. — p. 311.
- Warren W.L., Lenahan P.M., Curry S.E. First observation of paramagnetic nitrogen dangling-bond centers in silicon nitride. // Phys. Rev. Lett. — 1990. — V. 65. № 2. — p. 207−210.
- Lenahan P.M., Curry S.E. First observation of the 29Si hyperfine spectra of silicon dangling bond centers in silicon nitride. // Appl. Phys. Lett. — 1990. — V. 56. № 2. — p. 157−159.
- Warren W.L., Rong E.G., Poindexter E.H., GerardiG.J., Kanicki J. Structural identification of the silicon and nitrogen dangling-bond centers in amorphous silicon nitride. // J. Appl. Phys. — 1991. — V. 70. № 1. — p. 346−354.
- Warren W.L., Lenahan P.M. Electron-nuclear double resonance and electron-spin-resonance study of silicon dangling-bond centers in silicon nitride. // Phys. Rev. B. 1990. — V. 42. — № 3. — p. 1773−1780.
- Yan H., Kumeda M., Ishii N., Shimizu T. Identification of a new defect in silicon nitride films. // Jpn. J. Appl. Phys. — 1993. — V. 32. — № 2. — p. 876−886.
- Sazonov A., Nathan A., Striakhilev D. Materials optimization for thin film transistors fabricated at low temperature on plastic substrate. // J. Non-Cryst. Solids. 2000. — V. 266−269. — № 1−3. — p. 1329−1334.
- Bogomolova L.D., JachkinV.A., Prushinsky S.A., Striakhilev D., Sazonov A., Nathan A. EPR spectra of amorphous silicon nitride films grown by low