Примесный состав тетрафторидов кремния и германия с естественным содержанием изотопов и изотопно-обогащенных
Диссертация
Такое применение тетрафторидов кремния и германия может быть ограничено присутствием ряда примесей. Так, содержание водородсодержащих примесей в тетрафториде кремния для легирования кварцевых заготовок волоконных световодов не должно превышать 10″ мол.%. Для разделения изотопов кремния центробежным методом необходимо использовать тетрафторид кремния с содержанием силоксанов различного строения… Читать ещё >
Содержание
- ИЗОТОПНО-ОБОГАЩЕННЫХ
- Специальность 02.00.01 — неорганическая химия
- ДИССЕРТАЦИЯ на соискание ученой степени кандидата химических наук
- Научный руководитель: д.х.н. профессор Крылов В. А
- Нижний Новгород
- ГЛАВА 1. ОСНОВНЫЕ СВОЙСТВА, МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ, ОЧИСТКИ И АНАЛИЗА 81Р4 и ОеР4. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
- 1. 1. Свойства тетрафторида кремния
- 1. 1. 1. Физико-химические свойства тетрафторида кремния
- 1. 1. 2. Химические свойства тетрафторида кремния
- 1. 2. Свойства тетрафторида германия
- 1. 2. 1. Физико-химические свойства тетрафторида германия
- 1. 2. 2. Химические свойства тетрафторида германия
- 1. 3. Методы синтеза тетрафторида кремния
- 1. 4. Методы синтеза тетрафторида германия
- 1. 5. Методы очистки тетрафторида кремния
- 1. 6. Методы очистки тетрафторида германия
- 1. 7. Получение изотопно-обогащенных образцов тетрафторидов кремния и германия
- 1. 8. Методы анализа тетрафторида кремния
- 1. 8. 1. Масс-спектрометрия
- 1. 8. 2. ИК-спектроскопия
- 1. 8. 3. Газовая хроматография
- 1. 9. Методы анализа тетрафторида германия
- 1. 9. 1. Масс-спектрометрия
- 1. 9. 2. ИК-спектроскопия
- 1. 9. 3. Газовая хроматография
- 1. 10. Задачи исследования
- 1. 1. Свойства тетрафторида кремния
- ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТ
- ГЛАВА 2. РАЗРАБОТКА МЕТОДИК КАЧЕСТВЕННОГО И КОЛИЧЕСТВЕННОГО ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРИМЕСЕЙ В 81Р4 и СеР
- 2. 1. Термодинамическая оценка вероятных форм нахождения примесей серо- и углеродсодержащих веществ при синтезе тетрафторида германия методом прямого фторирования
- 2. 2. Создание установки для газохроматографического анализа тетрафторидов кремния и германия
- 2. 3. Разработка методики газохроматографического определения примеси гексафтордисилоксана в тетрафториде кремния
- 2. 4. Газохроматографическое определение примесей углеводородов С1-С4 и гексафгорида серы в тетрафторидах кремния и германия. 59 2.4.1. Разработка методики анализа
- 2. 4. 1. 1. Выбор сорбента для удаления основы
- 2. 4. 1. 2. Выбор хроматографических колонок
- 2. 4. 1. 3. Использование метода криофокусирования примесей
- 2. 4. 1. 4. Качественный анализ
- 2. 4. 1. 5. Количественный анализ
- 2. 4. 1. 6. Пределы обнаружения примесей
- 2. 4. 2. Метрологическое обеспечение анализа
- 2. 4. 2. 1. Погрешности определения
- 2. 4. 2. 2. Обработка результатов измерений
- 2. 4. 2. 3. Правильность определения примесей
- 3. 1. Исследование образцов тетрафторида кремния на содержание примесей углеводородов
- 3. 2. Происхождение примесей углеводородов в тетрафториде кремния
- 3. 3. Исследование образцов тетрафторида кремния на содержание примеси гексафтордисилоксана
- 3. 4. Исследование образцов тетрафторида германия на содержание примесей углеводородов
- 3. 5. Исследование образцов тетрафторидов кремния и германия на содержание примеси гексафторида серы
- 3. 6. Поведение примесей при глубокой очистке тетрафторида кремния
- 4. 1. Особенности определения примесного состава 112 тетрафторидов кремния и германия методом газовой хроматографии
- 4. 2. Степень чистоты исследованных образцов тетрафторидов 114 кремния и германия
Список литературы
- Medan, F. Properties of amorphous Si: F:H alloys / A. Medan, S.R.Ovshinsky //J.Non-Cryst. Solids.-1980.-V.35/36.-P.171−181
- Zischang, D. Preparation of amorphous Si-F alloys by RF glow-discharge / D. Zischang, W. Xinfang, J. Zhongbua, D. Yuguan // J .Non-Cry st.Solids.-1982.-V.52.-N 1−3. P. 497−502
- Заявка 59−227 710 Япония. Получение тонкой пленки фторида кремния / Ф. Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.
- Заявка 59−227 711 Япония. Получение тонкой пленки фторидаокремния / Ф. Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.
- Заявка 59−227 712 Япония. Получение тонкой пленки фторида кремния / Ф. Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.
- Заявка 59−227 713 Япония. Получение тонкой пленки фторида кремния / Ф. Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.
- Shimizu, I. Properties of a-Si based alloys prepared from fluorides and hydrogen / I. Shimizu, S. Oda, S. Ishihara, N. Shibata // J. Non-Cryst.Solids.-1985.-V.77−78.-N 2. P. 877−880.
- Aulich, h.a. New methods to prepare high-purity silica / H.A. Aulich, K.H.Eisenrith, H.P.Urbach // J.Mater.Sci.-1984. V.19. — P.1710−1717.
- Tamura, A. SiFx and SFX molecular ion implantations into GaAs / A. Tamura, k. Inoue, T. Onuma // Appl.Phys.Lett.-1987. -V.51. N 9.-P.1503−1505.
- KupperJD. Deposition of fluorine-doped silica layers a SiCl4/ SiF4/02 gas mixture by the plasma-CVD method / D. Kupper, J. Koening, H. Wilson // J.Electrochem.Soc.-1978.-V.125.-N 8. -P.1298−1302.
- Кварацхели, Ю.К. О развитии работ по солнечной энергетике в Минатоме России. Ю. К. Кварацхели, М. Ф. Свидерский. Конверсия в машиностроении. 1999.- № 3−4. — С.44−47.
- Chumakov, A.I. High-energy-resolution x-ray optics with refractive collimators / A.I. Chumakov, R. Ruffer, O. Leupold, A. Barla, H. Thiess, T. Asthalter, B.P.Doyle // Appl.Phys.Lett. 2000. -V.77.- N 1. — P.31−33.
- H.Rogers, C.S. / C.S. Rogers, A.T.Macrander // Nucl. Instr. Meth. Phys. Res.A. 1993. -V.335. -N 3. — P.561.
- Волков. Н.Ф. О решении некоторых проблем, связанных с уточнением числа Авогадро / Н. Ф. Волков, Ю. И. Трубняков // Тр. Метрол. Ин-тов СССР. -1979. № 234/294. С. 10−13.
- Пат. 6 234 523 Япония. Production of germanium tetrafluoride / Harada Isao, Aritsuka Makoto, Mitsumoto Atsuhisa, Hashimoto Takashi. 1994.
- Пат. 2 000 072 438 Япония. Purifying method of germanium tetrafluoride / Kohara Sadaichi, Yasutake Takeshi, Harada Isao. 2000.
- Гельмбольд, В. О. Тетрафторид кремния. Реакционная способность и практическое применение / В. О. Гельмбольд, А. А. Эннан // Деп. В ОНРШТЭхим, г. Черкассы, 22 нояб.-1983. № 1151хп-Д83. -20с.
- Основные свойства неорганических фторидов / гл.ред. Н. П. Галкин. М.: Атомиздат, 1976. — 400 с.
- Рид.Р., Праусниц Дж., Шервуд Т. Свойства газов и жидкостей. JL: Химия, 1982. — 592 с.
- Справочник химика. Изд. 3-е испр.: в 6 т. / Гл. ред. Б. П. Никольский. — Л.:Химия, 1971.-Т.1.- 1072 с.
- Ebsworth, E.A.V. / E.A.V. Ebsworth, J.R.Hall, M.J.Mackillop // Spectrochim.Acta. 1958. — V.13. — P.202.
- Patnode, W./ W. Patnode, J. Papish // J.Chem.Phys.-1930. V.34.- N 7.-P.1494−1496.
- Свойства неорганических соединений: справочник / Ф. Н. Ефимов, Л. П. Белорукова, И. В. Василькова и др. Д.: Химия, 1983. — 392 с.
- Брауэр, Г. Руководство по неорганическому синтезу: пер. с нем. / Георг Брауэр.-М.: Мир, 1985. Т.1. — 320 с.
- Pase, E. Thermodynamics properties of silicon tetrafluoride from 15 К to its triple point. The entropy from molecular and spectroscopic data / E/.Pase, J. Mosser // J.Chem.Phys. 1963.-V.39. — N 1. — P.154−158.
- Michael, J.S.Dewar. AMI calculation for compounds containing silicon / Dewar J. S Michael, Jie Caoxian // Organometallics. 1987.-N 6. -P.1486−1490.
- Wise, S.S. The heat of formation of silica and silicon tetrafluoride / S.S.Wise, J.L.Margrave, H.M.Feder, W.H.Hubbard // J.Phys.Chem.-1962.-V.66.-N2.- P.381
- Bousguet, J. Mise au point d' une installation de calorimetrigue de combustion dans le fluor / J. Bousguet, J. Carre, P. Claudy, J. Etienm, P. Provencal, J. Thourey, P. Bareeri // J.Chim.Phys.et Phys.-Chim.Biol.-1972.-V.69.-N 6.-P.1065−1068.
- Ruff, 0. / O. Ruff, E. Ascher // Z.Anorg.Allgem.Chem. 1931.- V.196. -N 4. — P.431−420.
- Booth, H. / H. Booth, C. Swinehart // J.Amer.Chem.Soc.-1935. -V.57. -P.1337−1342.
- Сладков, И.Б. Соотношение между параметрами состояния неорганических соединений в критической точке и точке кипения / И. Б. Сладков // Деп. в ВИНИТИ, № 1209−76 Деп.: -М. 1976. — 11 с.
- Морачевский, А.Г. Физико-химические свойства молекулярных неорганических соединений: справочник / А. Г. Морачевский, И. Б. Сладков. Л.: Химия, 1987. — 187 с.
- Рысс, И.Г. Химия фтора и его неорганических соединений / И. Г. Рысс. — М.: Госхимиздат, 1956. С.297−299.
- Janai, М. The deposition of silicon films by pyrolytic decomposition of SiF2 gas / MJanai, S. Aftergood, R.B.Weil, B. Pratt // J.Electrochem.Soc.-1981. V.128.-N 12. -P.2660−2665.
- Печковский, В.В. Исследование взаимодействия SiF4 и HF с оксидом и фосфатами кальция / В. В. Печковский, Е. Д. Дзюба, Л. П. Валюкевич, М. Т. Соколов // Журнал прикладной химии. 1980.-Т.53. — № 5. — С.961−965.
- Kolditz L., Bentrup U., // Z.anorg. und allg. Chem.- 1982.- B.491.- N 8.-P.184.
- Surech B.S., Padma D.K. // J.fluor.Chem.-1982.-V.24.- N 4.- P.399.
- Исикаве, Н. Фтор. Химия и применение: пер. с яп. / Нобуо исикаве, Есиро Кобаяси. М.: Мир, 1987. — 280с.
- Пат. 52 808 Европа. Способ синтеза силана / P.A.Lefrancois. 1984.
- Пат.4 847 061 США. Process for preparation of silan / J.A. Bossier, D.M.Richards, L.T.Crasto. 1989.
- Пат.4 632 816 США. Процесс получения силана / M.M.Everet. 1986.
- De Pare, R. Reduction of silicon tetrafluoride and boron trifluoride by calcium hydride / R. De Pare // Ann.Chim. 1963.-V.8.-N 3−4.-P.185−196.
- Некрасов, Б.В. Основы общей химии / Б. В. Некрасов.-М.: Химия, 1969. Т.2.- С. 90.
- Margrave, I.L. Silicon-fluorine chemistry. IX. The reactions of silicon difluoride and silicon tetrafluoride with water and some reactions of tetrafluorodisiloxane / I.L. Margrave, K.G.Sharp, P.W.Wilson // J.Amer.Chem.Soc.-1970.-V.92.-N 6-P. 1530−1532.
- Логинов, А. В. Тетрафторид кремния, свойства, получение и применение /А.В.Логинов, А. М. Гарбар // Высокочистые вещества. -1989.-№ 5.-С.27−34.
- Гельмбольд, В.О. Фторокомплексы кремния (IV) с кислородсодержащими донорными лигандами / В. О. Гельмбольд, А. А. Эннан // Координационная химия. 1983. — Т.9. — Вып.5. -С.579−588.
- Зотов, Б.Г. Получение фтористого водорода методом направленного гидролиза четырехфтористого кремния / Б. Г. Зотов, В. А. Зайцев,
- Б.В.Громов // Химическая промышленность. 1973. — № 6. — С.445−447.
- Guertin, J.P. / J.P. Guertin, M. Onyszchuk// Canad.J.Chem.- 1968.-V.46.-N6.-P.987.
- Топчиев, A.B. Каталитические свойства черырехфтористого кремния. Присоединение метилового спирта к олефинам /А.В.Топчиев, Н. Ф. Богомолова // Доклады АН СССР. 1953. — Т. 88.- № 3. — С.487−489.
- Guertin, J.P. The interaction of silicon tetrafluoride with methanol / J.P. Guertin, M. Onyszchuk // Canad. J. Chem.- 1963.-V.4L- N 6. P. 1477.
- Рупчева, B.A. Исследование термических превращений продуктов взаимодействия тетрафторида кремния с аммиаком / В. А. Рупчева, С. В. Островский, О. Б. Карпенко // Термический анализ и фазовые равновесия. 1984. — С.48.
- Сахаров, A.B. Система тетрафторид кремния-аммиак / А. В. Сахаров, В. Ф. Суховерхов, А. А. Эннан // VIII Всес. симп. по химии неорг. фторидов: Тезисы докладов. г. Полевской. — 1987. — С.340.
- Тананаев, И.В. Химия германия / И. В. Тананаев, М. Я. Шпирт. М: Химия, 1967. — С.43−56.
- Booth, Н. / H.Booth, W. Morris// J.Amer.Chem.Soc.-1936.- V.58.- Р 90.
- Fischer, W./ W. Fischer, W. Weideman // Z.anorg.Chem. 1933. — V.213. -N 1−2.-P.210
- Гороновский, И.Т. Краткий справочник по химии / И. Т. Гороновский, Ю. П. Назаренко, Е. Ф. Некряч, — Киев.: Наукова думка, 1973.-984 с.
- Clifford A./ A. Clifford, H. Beachell, WJack // J.Inorg. a. Nucl. Chem.-1957.- V.5.-P57.
- Schumb W./ W. Schumb, D. Breek // J.Amer.Chem.Soc.- 1952. V.74.-P.1754.67.0ppegard, A./ A. Oppegard, W. Smyth, E. Muetterties, V. Engelhardt // J.Amer.Chem.Soc.-1960.- V.82.- P 3835.
- Cotton, J./ J. Cotton, T. Waddington // J, Amer.Chem.Soc.-1966.- A.- N 6,-P.793.
- Назаренко, B.A. Аналитическая химия германия / В. А. Назаренко. — М.: Наука, 1973, С. 24 .
- Аналитическая химия фтора / Н. С. Николаев, С. Н. Суворова, Е. И. Гурович и др. -М.: Наука, 1970. 196 с.
- Rai-Choudhury, P. Sulfur hexafluoride as an etchant for silicon / P. Rai-Choudhury// J.Electrochem.Soc.-1971 .-V. 118.-N2.-P.266−269.
- Tu Yung-Yi. Chemical sputtering of fluorinated silicon / Yung-Yi Tu, T.J.Chuang, H.F.Winters // Phys.Rev.B: Condens.Motter.-1981.-V.23.-N2.-P.823−835.
- Пат.4 382 071 США. Process of preparing silicon tetrafluoride by using hydrogen fluoride das / T. Otsuka, N. Kitsugi, T.Fujinaga.-1983.
- Пат.З674 431 США. Generation of silicon tetrafluoride / R.E.Driscol, G.L.De Cuir.-1972
- Lieser, K.H. Darstellung von siliciumtetrafluorid aus siliciumdioxid und bleifluorid / K.H. Lieser, I. Rosenbaum // Z.anorg. und allg. Chem. 1967. -B.351. -N 5−6. — S.306−308.
- Padma, D.K. A new method for the preparation of silicon tetrafluoride / D.K.Padma, A.R.Vasudeva Murthy // J.Fluor.Chem.- 1974.-V.4.-N2.-P.241−242.
- Пономаренко, B.A. Химия фторкремний-органических соединений / В. А. Пономаренко, М. А. Игнатенко. -М.: Наука, 1979.-С.38.
- Заявка 1 322 843 Великобритания. Generation of silicon tetrafluoride / Cities Servic Company. — 1973.
- Chiotti, P. Dissociation pressure and thermodynamic properties of Na2SiF6 / P. Chiotti // J. Less Com.Met.-1981.-V.80.-Nl.-P.97−104.
- Чернов, Р. В. Термическая диссоциация фторсиликата натрия в присутствии минеральных добавок / Р. В. Чернов, И. Г. Ковзун // Украинский химический журнал. 1972.-Т.38. — № 4. — С.318−323.
- Пат.4 446 120 США. Method of preparing silicon from sodium fluosilicate / F.A.Schmidt, D. Rehbein, P.Chiotti. 1984.
- Пат. 2 004 131 370 Япония. Method of manufacturing high purity germanium tetrafluoride / Bhagat Sudhir S., Meshri Dayal T., Meshri Sanjay D., Petty Michale S.-2004.
- Bartlett, N./N. Bartlett, Y u К// Canad.J.Chem.-1961.-V.39.Nl.-P.80
- Emeleus, H./ H. Emeleus, A. Woolf // J.Chem.Soc.- 1950.- P. 164.
- Пат. 3 841 212 Германия. Process for preparing germanium tetrafluoride /Doetzer R. 1990.
- Anderson, H. / H. Anderson // J.Amer.Chem.Soc.- 1950. V.72.- P. 193.
- Graham, R. / R. Graham, J. Macnamara, S. Crocker, R. MacFarlane // Canad.J.Chem.-1951.-V.29.-P.89.
- Пат.2 046 095 Россия. Способ получения тетрафторида кремния / В. И. Волк, Б. С. Захаркин, А. И. Карелин, С. Н. Веселов, Л. И. Шкляр, Л. Б. Шпунт, А. В. Беляев, В. А. Карелин. 1995.
- Заявка 64−52 604 Япония. Способ очистки газообразного тетрафторида кремния / К. Нобухико, М. Хироюки, Х. Исао, Т.Юкихиро. 1989.
- Mills, T.R. Silicon isotope separation by distillation of silicon tetrafluoride/T.R.Mills//Separ.Sci. and Technol.-1990.-V.25.-N3.-P.335.
- Калиш, M.А. Давление насыщенных паров тетрафторида кремния / М. А. Калиш, А. Г. Табачников // Деп. В ОНИИТЭхим. Г. Черкассы. № 1022ХП-Д82.: — Одесса. 1982. -17с.28
- Буланов, А.Д. Получение и глубокая очистка SiF4 и SiH* / А. Д. Буланов, В. В. Балабанов, Д. А. Пряхин, О. Ю. Трошин // Неорганические материалы. -2002.- том 38.-№ 3.- С.356−361.
- Пат. 63 147 825 Япония. Refining method for germanium tetrafluoride / Harada Isao, Momotake Hiroyuki, Koto Nobuhiko. 1988.
- Селинов И.П. Изотопы: справочник / Селинов И. П. М.: Наука, 1970.-254 с.
- Шемля, М. Разделение изотопов / М. Шемля, Ж.Перье. М.: Атомиздат, 1980, 360 с.
- Sergeev, V.I. Production of the high enriched silicon isotopes / V.I.Sergeev, A.K.Kaliteyevsky, O.N.Godisov, R.D.Smirnov // Proc. Of the 5th Int.Symp. on the Synthesis and Application of Isotopes and Isotopically Labeled Compounds: London. — 1995.
- Буланов, А. Д. Получение высокочистого тетрафторида кремния термическим разложением Na2SiF6. / А. Д. Буланов, Д. А. Пряхин, В. В. Балабанов // Журнал прикладной химии. -2003.- Т. 76.-№ 9.- С.1433−1435.
- Пат. 2 280 616 Россия. Способ получения изотопно-обогащенного германия / О. С. Ушаков, А. Л. Калашников, В. А. Матюха, А. А. Смагин, Е. Н. Малый, В. Г. Афанасьев. 2006.
- Пат. 2 270 715 Россия. Способ получения германия для полупроводниковых материалов / А. А. Артюхов, Г. Ю. Григорьев, Я. М. Кравец, А. В. Курочкин, А. В. Тихомиров. 2006.
- Reents, W.D. Impurities in silicon tetrafluoride determined by infrared spectrometry and Fourier transform mass spectrometry / W.D. Reents, D, L, Wood, A.M.Mujsce // J.Anal.Chem.-1985.-V.57.-Nl.-P.104−109.
- Catrett, F.D. A new fluorsiloxane synthesis / F.D.Catrett, J.L.Margrave // Synth.Inorg.Metal-Org.Chem.- 1972.-V.2. N 4.-P.329−333.
- Reents, W.D. Ion/molecular reaction of silicon tetrafluoride / W.D.Reents, A.m.Mujsce // Inter.J.Mass-Spectr.Ion Process. 1984. -V.59.-N1 -P.65−75
- Herron, J.T. Mass spectrum and appearance potentials of tetrafluorohydrazin / J.T. Herron, V.H.Dibeler // J. Chem/Phys/- 1960.-V.33.-P.1595−1596.
- Mitchel, J.W. Chemical analysis of electronic gases and volatile reagents for device processing / J.W.Mitchel // Solid State Technology.-1984.-V.28.-N3.-P.131−137.
- Sharp, K.G. Silicon-flurine Chemistry. XV. Reaction of silicon difluoride with thionyl fluoride. Some new fluorosiloxanes / K.G.Sharp, J.L.Margrave // J.Inorg.Nucl.Chem.-1971.-V.33.-N9.-P.2813−2818.
- McDowell, R.S. Infrared spectrum and potential constants of silicon tetrafluoride / R.S.McDowell, M.J.Reisfeld, C.W.Patterson // J.Chem.Phys.-1982.-V.77.-N9.-P.4337−4343.
- Свидерский, М. Ф. Исследование молекулярного состояния примесей в тетрафториде кремния / М. Ф. Свидерский, О. Д. Хорозова, Г. И. Довганич, В. А. Иванова // Высокочистые вещества.-1994.-№ 1.-С.130−133.
- Чупров, Jl.А. Примеси в тетрафториде кремния и получаемом из него силане по данным ИКфурье-спектроскопии высокого разрешения. / Л. А. Чупров, П. Г. Сенников, К. Г. Тохадзе, С. К. Игнатов, О. Шремс //Неорганические материалы. -2006.- том 42.-№ 8.- С. 10 171 024.
- Другов, Ю.С./ Ю. С. Другов // Заводская лаборатория.-1990.-том 56.-№ 10.-С.10−19.
- Другов, Ю.С. Газохроматографический анализ газов/ Ю. С. Другов, Конопелько Л. А. -М.: Моимпекс, 1995.-456 с.
- Пат. 3 877 894 США / L.G.Swape, E.A.Smith.-1975.
- Исаков, В. П. Сборник научных трудов по газовой хроматографии / В. П. Исаков, К. И. Сакодынский, В. И. Столяров. М.: НИИТЭХИМ, Вып.20.- 1973.-С.85−86.
- Пат. 2 849 033 BRD / P.Schlau.-1980.
- Виноградова, Р. Г. Газовый хроматограф для анализа агрессивных и легкогидролизующихся веществ / Р. Г. Виноградова, Ф. И. Романов, В. С. Первов, Л. Г. Подзолко // Химическая промышленность,-1990.-№ 8.-С.623−625.
- Ивесон, Г. Газовая хроматография. Труды III Международного симпозиума по газовой хроматографии в Эдинбурге. / Г. Ивесон,
- A.Хамлин, — М.: Мир.-1964.-427 с.
- Первов, В. С. Газоадсорбционный анализ агрессивных неорганических фторидов на фторопласте-4 / В. С. Первов,
- B.Ф.Суховерхов, Л. Г. Подзолко // Журнал аналитической химии.-1979.-том 34.-№ 12.- С.2369−2373.
- Новиков, В .Г. Изучение состава тетрафторида кремния методом ИК-спектроскопии / В. Г. Новиков, Н. В. Кривошеев, О. Г. Алексеев, Н. А. Керимбекова, А. В. Губарев // Сб. научных трудов ВНИИ люминафоров и особочистых веществ.-1987.-№ 33.-С.164−168.
- Суховерхов, В. Ф. Газохроматографический анализ некоторых агрессивных газов / В. Ф. Суховерхов, Л. Г. Подзолко, В.Ф.Гаранин// Журнал аналитической химии.-1975.-том 30.-№ 2.- С.330−334.
- Engelbrecht, А. / A.Engelbrecht, E. Nachbaur, E. Mayer// J.Chromatogr.-1964.-N 15.-P.228.
- Lysyj, I. Evaluation of gas chromatographic columns for the separation of fluorinated materials / I. Lysyj, P.R.Newton // Analitical Chemistry.-1963.-V.35.- N1.-P.90−92.
- Анваер Б.И. Газовая хроматография неорганических веществ/Б.И.Анваер, Ю. С. Другов.-1976.-М.:Химия.-240с.
- Ferreiro, A. Analysis of GePLt and GeF4 as gaseous feed materials for germanium implantation / A. Ferreiro, E. Lora-Tamayo // Vacuum.-1989.-V.39.-N7/8.-P.775−779.
- Сертификат качества № 16/802−804. Производитель: ФГУП «Производственное объединение «Электрохимический завод».
- Авторское свидетельство 1 053 345. Способ осушки инертных газов азота и кислорода / Г. Г. Девятых, В. А. Крылов, Б. А. Андреев, С. Г. Красотский, А. Н. Гурьянов.- 1980.
- Крылов, В.А. высокочувствительное газохроматографическое определение метана в гелии, неоне, водороде, кислороде и азоте / В. А. Крылов, Д. И. Погудалов, А. В. Саркисов // Высокочистые вещества.-1990.- № 3.- С.172−178.
- Th. Noy, С. Cramers. The Effect of Column Characteristics of the Minimum Analyte Concentration and the Minimum Detectable Amount in Capillary Gas Chromatography //Journal of High Resolution Chromatography Communications. 1988. V. 11. P. 264−270.
- Ежелева, A.E. Газохроматографический анализ высокочистых летучих неорганических гидридов III-VI групп периодической системы / А. Е. Ежелева, Л. С. Малыгина, Г. Е.Снопатин// Успехи газовой хроматографии.- 1987.- Вып. VI.- С.284−295.
- Основы аналитической химии / Ю. А. Золотов.- М: Высшая школа.- 2000. т.1. с. 351.
- Количественный анализ хроматографическими методами / Э.Кэц.-М: Мир.-1990.-318с.
- Белов, Г. В. Термодинамическое моделирование: методы, алгоритмы, программы / Г. В. Белов.- М: Научный мир.-2002.- 84 .
- Циглер Г. Экстремальные принципы термодинамики необратимых процессов и механика сплошной среды. / Г. Циглер.-М: Мир.- 1966.-135с.
- Синярев, Г. В. Применение ЭВМ для термодинамических расчетов металлургических процессов/ Г. В. Синярев, Н. А. Ватолин, Б. Г. Трусов, Г. К. Моисеев.-М: Наука.-1982.-263с.
- Иориш, В. С. Программный комплекс ИВТАНТЕРМО для Windows и его использование в прикладном термодинамическом анализе / В. С. Иориш, Г. В. Белов, В. С. Юнгман.- Препринт ОИВТАН № 8−415.-M.-1998.-56c.
- РМГ 29−99. Рекомендация по межгосударственной стандартизации ГСИ. Метрология. Основные термины и определения. Минск.: Изд-во стандартов, 2000. — 91 с.
- ГОСТ Р ИСО 5725−1-2002. Точность (правильность и прецизионность) методов и результатов измерений. Ч. 1. Основные положения и определения. М.: Изд-во стандартов, 2002. — 29 с.
- Девятых, Г. Г. Высокочистый монокристаллический моноизотопный кремний-28 для уточнения числа Авогадро / Г. Г. Девятых, А. Д. Буланов, А. В. Гусев, И. Д. Ковалев, В. А. Крылов, А. М. Потапов, П. Г. Сенников // Доклады Академии наук.-2008.-Т.421.-№ 1.-С.61−64.
- Крылов, В. А. Применение капиллярной газовой хроматографии для анализа высокочистого силана на содержание углеводородов / В. А. Крылов, В. Г. Березкин, О. Ю. Чернова // Журнал аналитической химии. 2005.- Т.60.- № 9.- С. 958−962.
- Спектральные методы определения следов элементов / под. ред. В.Вайнфорднера.- М.: Мир.- 1979.- 494 с.
- USA. A Report to the Avogadro Working Group of the ССМ/ Determination of the molar volume of silicon crystals at the NRLM. Present state and the future / Kenichi Fujii // Washington D.C., 1998.
- Гиошон Ж. Количественная газовая хроматография для лабораторных анализов и промышленного контроля. / Ж. Гиошон, К. Гийемен М: Мир.- 1991.- часть I.- 576с.