Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Исследование и моделирование процессов формирования электронных пучков и их взаимодействия с поверхностью твердых тел как основа разработки прецизионного электронно-лучевого технологического оборудования

ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Физико-математические модели формирования электронных пучков в электронно-лучевых технологических установках, учитывающие в комплексе разброс термоэлектронов по скоростям, температуру термокатода, эффекты ограничения тока пространственным зарядом, а также аберрационные эффекты, связанные с прохождением электронного пучка через систему электростатической или магнитной фокусировки и систему… Читать ещё >

Содержание

  • Глава 1. Состояние проблемы и общая характеристика работы
  • Глава 2. Компьютерное моделирование электронных пучков в ЭЛТУ
    • 2. 1. Моделирование электронных пушек
    • 2. 2. Моделирование осесимметричных фокусирующих магнитных полей
    • 2. 3. Моделирование полей отклоняющих магнитных систем
    • 2. 4. Некоторые особенности вычислительных алгоритмов
    • 2. 5. Назначение и возможности пакета прикладных программ «CHARGE»
    • 2. 6. Результаты численных экспериментов
  • Глава 3. Теоретические и экспериментальные исследования электронных процессов в диэлектриках при обработке их поверхности электронным пучком
    • 3. 1. Физическая модель электронно-лучевой обработки диэлектриков
    • 3. 2. Экспериментальное оборудование
    • 3. 3. Экспериментальные исследования явлений, возникающих при электронно-лучевой обработке поверхностей диэлектриков
    • 3. 4. Анализ экспериментальных результатов
  • Глава 4. Новые принципы и устройства для компьютерного управления технологическими процессами в ЭЛУ

Глава 5. Разработка электронно-лучевого технологического — кя|удования нового поколения. «««i 5.1. Электронно-лучевая установка для прецизионной обработки по зйным контурам. |5.2. Мобильный радиационно-технологический комплекс. г f 5.3. Электронно-лучевая установка для отжига полупроводниковых < '.фиалов, фяение.

Глава 1. Состояние проблемы и общая характеристикгп>аботы

Исследование и моделирование процессов формирования электронных пучков и их взаимодействия с поверхностью твердых тел как основа разработки прецизионного электронно-лучевого технологического оборудования (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Предлагаемая диссертационная работа относится к области физической электроники, в частности, к исследованиям процессов формирования и взаимодействия электронных пучков с материалами в технологических процессах обработки электронным пучком. Электронно-лучевые технологии достаточно широко используются в точном приборостроении, микроэлектронике, машиностроении, медицине, экологии и т. д.

Расширение спектра электронно-лучевых технологий, разработка новых видов оборудования для их реализации, существенное улучшение параметров внедренных в промышленность типов обрудования неразрывно связаны с успехами физической электроники, вакуумной техники, физики вакуума и поверхности, электронной оптики. Значительную роль играет повышение уровня автоматизации управления технологическими процессами на основании исследований вторичных электронно-ионизационных процессов, сопровождающих воздействие электронного пучка на объект обработки.

Процессы и установки электронно-лучевой технологии служат объектом многочисленных исследований. Однако, тщательный анализ основных наиболее значительных работ в виде монографий и обзоров [1 — 5] показывает, что практически отсутствуют исследования, направленные на установление количественных взаимосвязей между электронно-оптическими параметрами первичного электронного пучка и процессами и явлениями на поверхности обрабатываемого изделия, доведенные до уровня создания автоматизированных промышленных установок прецизионной электронно-лучевой обработки поверхности твердых тел.

К сожалению, в последние годы в России работы в области создания электронно-лучевого оборудования для прецизионной обработки приостановлены в связи с финансовыми трудностями, а предприятия, выпускающие разработанное ранее электронно-лучевое оборудование (как технологическое, так и аналитическое) оказались вне границ России.

В этих условиях исследования процессов формирования электронных пучков и их взаимодействия с веществом, связанные с повышением эксплуатационных характеристик существующих и разработкой новых типов установок для электронно-лучевой обработки, являются особенно актуальными.

Актуальность настоящей диссертационной работы подтверждается ее соответствием Федеральной программе «Критические технологии» и Президентской программе «Национальная технологическая база». т.

Спектр применения в промышленности электронно-лучевых и ионно-лучевых технологий чрезвычайно широк. Особо следует отметить следующие виды технологий: прецизионная электроннои ионно-лучевая термическая размерная обработка материалов и изделий, в том числе прецизионная гравировка, сверление отверстий в твердых материалах с большой скоростью и пр.;

• высококачественная электронно-лучевая сварка и микросварка;

• электронно-лучевая технология испарения с осаждением (однослойные и многослойные покрытия, в том числе энергосберегающие);

• ионно-лучевая технология (в том числе имплантация, травление, очистка, распыление с осаждением многослойных покрытий, включая просветляющую оптику, и ряд других);

• ионно-плазменная технология (очистка, травление в полупроводниковом производстве, в точном оптическом приборостроении, в машиностроении) — высокоэнергетические электроннои ионно-лучевые системы (новые технологии обработки высокоэнергетическими пучками в медицине, например, при лечении онкологических заболеваний, а также при решении ряда экологических проблем, например, обеззараживание питьевой воды и грунта в случае чрезвычайных ситуаций);

• электронно-и ионно-лучевое аналитическое приборостроение: просвечивающая и растровая электронная микроскопия, микроанализ и т. п.

Этот весьма не полный перечень использования электроннои ионно-лучевых технологий показывает необходимость проведения исследований с целью создания научной базы разработки, проектирования и внедрения в промышленность нового ряда современного автоматизированного электронно-оптического оборудования.

Разработка современного надежного оборудования рассматриваемого класса невозможна без компьютерного моделирования процессов формирования электронных пучков с заданными энергетическими и геометрическими параметрами. До последнего времени параметры электронных пучков исследовались в основном экспериментальными методами в уже изготовленных установках. В настоящей работе предлагаются новые универсальные физико-математические модели и разработанные на их базе алгоритмы и программы для компьютерного моделирования и исследования характеристик электронных пучков во всех электронно-оптических элементах ЭЛУ, включая термоэмиссионную систему (электронную пушку), область формирования электронного зонда магнитной линзой, систему отклонения электронного ка, и, наконец, область взаимодействия электронного пучка с обрабатываемым изделием. Высокая степень адекватности компьютерного моделирования реальным физическим процессам обеспечивается использованием эффективных методов и алгоритмов современной вычислительной электронной оптики, в том числе, интегральных методов расчета физических полей и аберрационных методов расчета электронных траекторий. Разработанный под руководством и при участии автора пакет прикладных программ для компьютерного моделирования ЭЛУ включает в себя программные модули, предназначенные для расчета электрических и магнитных полей с учетом разномасштабности электродов термоэмиссионной системы, пространственного заряда пучка и влияния характеристик материала магнитопровода, а также расчета как отдельных траекторий, так и функций распределения плотности тока при прохождении пучком всей электронно-оптической системы ЭЛУ от эмиттера до обрабатываемого изделия. Результаты расчета параметров электронных пучков хорошо коррелируют с экспериментальными данными, представленными в литературе. Использование разработанного пакета программ при проектировании специализированных ЭЛУ весьма перспективно с точки зрения повышения качества и снижения сроков и стоимости разработок.

Другое направление работ, важное для создания нового поколения автоматизированного электронно-лучевого оборудования, заключается в исследовании взаимодействия электронных пучков с диэлектриками и металлами (как в твердой, так и в жидкой фазе) с целью научнообоснованного определения параметров электронного пучка и оптимальных режимов управления технологическими процессами.

Цель работы:

Основная цель диссертационной работы заключается в создании научно-технических основ разработки нового поколения автоматизированного электронно-лучевого технологического оборудования различного назначения на базе высокоточного компьютерного моделирования процессов формирования электронных пучков с заданными параметрами, в проведении широкого спектра теоретических и экспериментальных исследований взаимодействия электронного пучка с обрабатываемым материалом (металлами и диэлектриками) для разработки и внедрения новых электронно-лучевых технологий, а также в создании новых типов конкурентноспособного электронно-лучевого технологического оборудования. ф,.

В ходе работы решались следующие задачи: разработка физико-математических моделей формирования электронного пучка в электронно-лучевых установках технологического назначения, а также технических требований на разработку соответствующего программного обеспечения,.

• разработка физической модели и проведение экспериментальных исследований взаимодействия импульсного электронного пучка с диэлектриком,.

• разработка аппаратных средств и программного обеспечения для компьютерного управления прецизионной ЭЛУ для гравирования и размерной обработки по сложным контурам. разработка и внедрение в производство ряда новых электронно-лучевых установок, в том числе, компьютернографического комплекса для прецизионной обработки изделий из металлов и диэлектриков плоской и цилиндрической формы по сложным контурам, мобильного комплекса для решения экологических проблем в чрезвычайных ситуациях, двухлучевой электронно-лучевой установки для поверхностной зонной рекристаллизации кремни ев ых пластин.

Научная новизна результатов диссертационной работы заключается в том, что:

1. Построены новые специализированные физико-математические модели, описывающие комплекс процессов формирования и транспортировки электронного пучка в ЭЛТУ с учетом разброса термоэлектронов по скоростям, температуры термокатода, эффектов ограничения тока пространственным зарядом вблизи поверхности эмиттера, а также аберрационных эффектов, связанных с прохождением электронного пучка через систему электростатической или магнитной фокусировки и систему магнитного отклонения.

Указанные результаты послужили основой для разработки пакета прикладных программ, предназначенного для компьютерного моделирования и оптимизации электронно-оптических характеристик ЭЛТУ (пакет прикладных программ в настоящее время внедрен в ГП НИИЭИО). Важное достоинство моделей и вычислительных алгоритмов, реализованных в пакете прикладных программ, заключается в том, что они не используют никаких дополнительных предположений о фазовых характеристиках электронного пучка при переходе от одного элемента электронно-оптической системы к другому (например, от электронной пушки к магнитной фокусирующей системе), а позволяют осуществить сквозной расчет всего многообразия электронных траекторий через все электронно-оптические элементы колонны.

2.Разработана новая физическая модель взаимодейстЖя электронного пучка с диэлектрическими материалами с учетом накопления, движения и стекания в вакуум пространственного заряда, вносимого электронным пучком.

Впервые обнаружен и исследован эффект стекания из стекол заряда, внесенного электронным пучком, обусловленным «убеганием» электронов в сильных краевых электрических полях вплоть до энергии, достаточной для их эмиссии в вакуум. Этот эффект позволяет создавать высококачественные электронно-гравированные изображения на поверхности диэлектриков (стекол).

3. Разработаны новые аппаратные средства и программное обеспечение для компьютерного управления электронно-лучевой установкой, предназначенной для прецизионной обработки поверхностей твердых тел по сложным контурам. В основу данной разработки положена оптимизация амплитудно-частотных характеристик усилителей и переходных характеристик шаговых двигателей, что позволило создать специализированный контроллер, обеспечивающий связь ПЭВМ с управляющими органами ЭЛТУ.

4. Создана и сдана в опытную эксплуатацию уникальная электроннолучевая установка для нанесения сложных художественных изображений на изделия из металлов и диэлектриков.

Практическая значимость диссертации заключается в следующем:

1. На основе проведенных исследований создана научно-методическая база и программное обеспечение для проектирования электронно-лучевого технологического оборудования нового поколения с автоматизированным компьютерным управлением, а также предложена методика разработки технологических карт для обработки материалов с различными физическими свойствами.

2. Разработан и внедрен в опытное производство компьютернографический комплекс для прецизионной обработки изделий из металлов и диэлектриков плоской и цилиндрической формы по сложным контурам.

3. Разработан мобильный комплекс для решения экологических проблем в чрезвычайных ситуациях.

4. Разработана и сдана в опытную эксплуатацию двухлучевая электронно-лучевая установка для поверхностной зонной рекристаллизации кремниевых пластин, весьма актуальная для решения ряда задач микроэлектроники.

Основные положения, выносимые на защиту.

1. Физико-математические модели формирования электронных пучков в электронно-лучевых технологических установках, учитывающие в комплексе разброс термоэлектронов по скоростям, температуру термокатода, эффекты ограничения тока пространственным зарядом, а также аберрационные эффекты, связанные с прохождением электронного пучка через систему электростатической или магнитной фокусировки и систему магнитного отклонения. Указанные модели являются надежной вычислительной базой для создания системы автоматизированного проектирования прецизионных электронно-лучевых технологических установок.

2. Физическая модель накопления, движения и стекания в вакуум заряда, вносимого в диэлектрики при их обработке электронным лучом. Согласно этой модели получение высококачественных электронно-гравированных изображений на поверхности диэлектриков (стекол) оказывается возможным благодаря впервые обнаруженному и исследованному эффекту стекания из стекол внесенного заряда, обусловленному «убеганием» электронов в сильных краевых электрических полях вплоть до энергии, достаточной для их эмиссии в вакуум.

3. Устройства, алгоритмы и программы для управления электроннолучевой установкой прецизионной обработки по сложным контурам.

4. Электронно-лучевое оборудование для прецизионной обработки плоских и цилиндрических изделий из металлов и диэлектриков, в том числе, компьютернографический комплекс для прецизионной обработки изделий из металлов и диэлектриков плоской и. цилиндрической формы по сложным контурам, мобильный комплекс для решения экологических проблем в чрезвычайных ситуациях, двухлучевая электронно-лучевая установка для поверхностной зонной рекристаллизации кремниевых пластин.

Совокупность результатов и выводов, полученных в диссертации, может быть квалифицирована как решение крупной актуальной научно-технической проблемы, связанной с созданием научно-технических основ разработки нового поколения конкурентноспособного автоматизированного электронно-лучевого технологического оборудования различного назначения на базе высокоточного компьютерного моделирования процессов формирования электронных пучков с заданными параметрами и проведения широкого спектра теоретических и экспериментальных исследований взаимодействия электронного пучка с обрабатываемым материалом (металлами и диэлектриками).

Апробация работы и публикации.

Результаты диссертационной работы докладывались на Международных конференциях по оптике заряженных частиц в Сан Диего (США, 1996, 1997 г. г.), на пятой Международной конференции по электронно-лучевым технологиям в Варне (Болгария, 1997 год), на Всероссийском семинаре «Проблемы теоретической и прикладной электронной оптики» (Москва, 1996, 1997 г. г.) и опубликованы в 26 печатных работах.

Образцы оборудования, разработанного в рамках диссертационной работы, экспонировались на следующих международных выставках и салонах:

Всемирный салон изобретений «Брюссель — Эврика» (1994г.- золотая медаль, 1995 г. — две золотые медали, 1996 г. — специальный приз и медаль «Альберта Швейцера»).

25-ый международном салоне инноваций в Женеве (1997г.- золотая медаль).

Глава 2. Компьютерное моделирование электронных пучков в ЭЛТУ.

Компьютерное моделирование, как один из наиболее важных элементов проектирования и оптимизации конструкций ЭЛТУ, включает в себя расчет характеристик электронного пучка на всех этапах его формирования: в электронной пушке, в фокусирующей системе, в системе отклонения или развертки. Рассматриваемая проблема содержит в себе целый набор взаимосвязанных серьезных задач математической физики, электронной оптики, вычислительной математики и программирования.

В данной главе представлены результаты разработки программного обеспечения для компьютерного моделирования ЭЛТУ с магнитной или комбинированной фокусировкой и магнитным отклонением.

Основные результаты работы отражены в следующих публикациях:

1.Волчков В. И., Филачев A.M., Шабаров В. В. Устройство для электронно-лучевой обработки. // Свидетельство на полезную модель 95 115 201/20 (26 921) 12.09.95.

2.Филачев A.M., Балашов В. Н., Смирнов Ю. С., Шабаров В. В., РозенфельдЛ.Б. Радиационно-технологический комплекс//Свидетельство N 3060 на полезную модель по заявке N 95 117 180, 16.10.1996.

3.Филачев A.M. Балашов В. Н., Смирнов Ю. С., Шабаров В. В., Розенфельд Л. Б., Семенычев В. М. Радиационно-технологический комплекс // Свидетельство N 3059 на полезную модель по заявке N 95 117 178, 16.10.1996.

4.Гайдукова И. С., Филачев A.M. Анализ состояния и определение перспективных направлений разработки электронно-лучевых устройств для обработки твердотельных материалов. // Оборонный комплекснаучно-техническому прогрессу России, 1996, N 1 с.с.3−12.

5.M.A.Monastyrsky, V.A.Tarasov, A.M.Filachev New theoretical approach to the self-coordinated problem in charged-particle optics // Proc. of the International Conference on charged Particle Optics (CPO -2)San Diego, 1996, SPIE, volume 2858, p.p. 136−144.

6.M.A.Monastyrsky, S.A.Andreev, I.S.Gaydukova, V.A. Tarasov, A.M.Filachev Modern numerical technique and software for photo/thermo-emission electron-optical devices and technological units computer-aided design" // Proc. of the International Conference on charged Particle Optics (CPO -3)San Diego, 1997, SPIE, volume 3155, p.p.241−247.

7.Филачев A.M., Фукс Б. И. Проблемы электронно-лучевой обработки диэлектриков // Прикладная физика, 1996, вып. 3, с.с. 39−46.

8.Гайдукова И. С. .Филачев А. М. Компьютерное моделирование и разработка термоэмиссионной системы установки электронно-лучевого гравирования. //Прикладная физика, 1996, вып. 3, с.с. 46−55.

9.Monastyrski, S. Andreev, I. Gaydukova, V. Tarasov, A. Filachev Modern numerical techniques and software for emission electron-optical devices and technolodge units computeraided design.// Fifth Iternational Conference on Electron Beam Technologies, Varna, Bulgaria, 1997, p.42.

1 Q.A.Filachev. I. Gaydukova, V. Shabarov Electron beam technolodgy and equipment for planar image deposition. // Fifth International Conference on Electron Beam Technologies, Varna, Bulgaria, 1997, p.323.

11.A.Filachev, B. Fouks, D. Greenfield. Problems of electron-beam processing of insulator // Fifth International Conference on Electron Beam Technologies. Varna, Bulgaria, 1997, p.388.

12.Клюйков А. Г., Ковалев В.JI., Сухотинский В. Ю., Филачев A.M., Юрьев А. А. Система управления модуляцией электронного пучка электронно-лучевой установки для нанесения высокохудожественных образов на обрабатываемые изделия.// Оборонный комплекс — научно-техническому прогрессу России, 1996, вып. З, с. 27.

13.Волчков В. И., Еремин А. П., Константинов В. В. Филачев A.M. Применение методов электронной оптики в разработке технологических ионно-плазменных устройств.// Оборонный комплекс — научно-техническому прогрессу России, 1996, вып. З, с. 30.

14.Филачев А. М., Ляликов А. В. Система автоматического управления установкой электронно-лучевого гравирования // Оборонный комплекснаучно-техническому прогрессу России, 1996, вып. З, с. 32.

15.ГайдуковаИ.С., Титов А. А., Филачев A.M. Критерии оптимальности систем формирования электронных пучков ЭЛУ технологического назначения. II Оборонный комплекс — научно-техническому прогрессу России, 1996, вып. З, с. 36.

16. А.М. Filachev, B.I.Fouks, D.E.Greenfield Nature of distortion of surface patern produced by precise electron beam processing of insulator. // Proceedings SPIE, 1997, volume 3155.p.p. 78−88.

17.Розенфельд Л. Б., Филачев А. М. Некоторые вопросы проектирования систем модуляции пучка в технологическом электронно-лучевом оборудовании для размерной обработки. // Прикладная физика, 1997, вып.2, с. 60−71.

18.Васичев Б. Н., Чернова-Столярова Е.Е., Филачев А. М. Особенности сверхзвукового движения в воде и атмосфере пучков заряженных частиц и твердых тел. // Прикладная физика, 1997, вып.2, с. 32.

19.Васичев Б. Н., Балашов В. Н., Рыбаков Ю. Л., Филачев A.M. Особенности малодозовой томографии с программируемым многоракурсным электронно-лучевым рентгеновским источником .// Прикладная физика, 1997, вып.2, с. 17.

20.Барбарич И. Н., Титов А. А., Филачев А. М. Разработка численно-аналитического метода решения задачи самосогласованного поля в аксиально-симметричных электронных пушках. // Радиоэлектроника, 1996, № 2, с. 42.

21.Барбарич И. Н., Титов А. А., Филачев A.M. Численное моделирование процесса формирования электронного пучка в пушке для сварки //Известия ТЭТУ, 1997, вып. 503, с. 31.

22.Научно-технический отчет. Разработка программного обеспечения базовых методов расчета полей осесимметричных линз с нелинейными характеристиками материалов и методов расчета электронно-оптических характеристик фокусирующих-, — отклоняющих, и эмиссионных систем для электронного и ионного технологического оборудования.// шифр «Обеспечение» N ГР У17 642Д985 .

23.Научно-технический отчет. Электронно-лучевой испаритель.// N ГР У17 641, 1987.

24.Научно-технический отчет. Исследование и разработка электроннолучевой установки для обработки деталей и узлов изделий микрофотоэлектроники, II N ГР У49 872, 1991.

25.Научно-технический отчет. Отработка и совершенствование систем автоматизированной электронно-лучевой установки для размерной обработки с проведением поисковых работ и экспериментальных проработок новых технологических процессов с определением основных типов деталей обработки наЭЛУ. /М ГР У 17 634, 1987.

26.Научно-технический отчет. Исследование и разработка электронно-оптических и ионно-оптических систем для создания технологических приборов и установок. // N ГРУ17 721, 1988.

Показать весь текст

Список литературы

  1. R. 1.troduction to Electron Beam Technology.- New York: J. Wiley &. Sons Inc., 1962.
  2. Лазерная и электронно-лучевая обработка материалов: Справочник / H.H. Рыкалин, A.A. Углов, И. В. Зуев, А. Н. Кокора. М.: Машиностроение, 1985, 496 с.
  3. Основы электронно-лучевой обработки материалов/ H.H. Рыкалин, И. В. Зуев, А. А. Углов.- М.: Машиностроение, 1978, — 239 с. .
  4. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов .- Под ред. Дж. Р. Брюэра. М.: Радио и связь, 1984. — 336 с. 5. 3. Шиллер, У. Гайзиг, Я. Панцер, Электронно-лучевая технология, «Энергия», 1980.
  5. Н. J. Linn, K.Poscht. Numerische Berechnung von Elektronenkanonen. -Arch. Elektr. Ubertragung, 1968, Bd.22, N3, s.146−149.
  6. ПХокс, Э.Каспер. Основы электронной оптики (т.1,2). М.: Мир, 1993.
  7. Н.Добрецов, М. В. Гомоюнова. Эмиссионная электроника.- М.: Наука, 1966.
  8. Р. Электронная оптика. М.: Мир, 1994.
  9. M. А. Монастырский. Метод t-вариаций и некоторые вычислительные проблемы электронной оптики динамических эмиссионных систем.// Прикладная физика, 1996, № 3, с.7−27.
  10. V.P.Il'in, V.A.Kateshov, Yu.V.Kulikov, and M.A.Monastyrsky. Emission-Imaging Electron-Optical System Design.//- Advances in Electronics and Electron Physics, 1990, vol.78, p.p. 155−278.
  11. М.А.Монастырский, С. В. Колесников. Общая теория пространственных и временных аберраций в катодных линзах со слабо нарушенной осевой симметрией (части 1,2).//Журнал технической физики, 1988, том 58, N1, р.р.3−19.
  12. V.P.Degtyareva and M.A.Monastyrsky. Some dynamic problems in streak image tubes theory. // Nuclear Instruments&Methods in Physics Research, 1995, A363, p.p.354 357.
  13. Е.А.Рапоцевич, С. С. Родионов, И. В. Цимбалист. Моделирование двумерных магнитостатических полей на IBM PC. // В сб.: Вычислительные методы и технология решения задач математической физики, Новосибирск, 1992.
  14. Е.А.Рапоцевич, С. С. Родионов. Численный расчет электромагнитных сил.// В сб.: Вычислительные методы и технология решения задач математической физики, Новосибирск, 1992.
  15. W.Schwertfeger, E.Kasper. Optik, 41, 1974.
  16. М.А.Монастырский, С. В. Колесников. Новый метод расчета возмущений потенциала в задачах со слабо нарушенной осевой симметрией.//Журнал технической физики, 1983, 53, N9, с. 1668−1677.
  17. Дж. Форсайт, М.Моулер. Машинные методы математических вычислений. М.: Мир, 1982.
  18. И.Ш.Белуга, И. М. Соколова. Прикладная физика, 1997, № 2, с. 71−76.
  19. L.Reimer, U. Golla, R. Bongeler, M. Kassens, B. Schindler, and
  20. R.Senkel,. Charging of bulk specimens, insulating layers and free-supporting films in scanning electron microscopy.// Optik, 1992, 14−22 .
  21. А.М.Филачев, Б. И. Фукс, Проблемы электронно-лучевой обработки диэлектриков.// Прикладная физика, 1996, № 3, с.39−45.
  22. С. Зи, Физика полупроводниковых приборов, «Мир», Москва, 1984.
  23. Z.G.Song, C.K.Ong, and H.Gong. A time-resolved current method for the nvestigation of charging ability of insulators under electron beam irradiation.//J. Appl. Phys., 1996, 79, 7123−7128.
  24. Л.Д.Ландау, Е. М. Лифшиц, Электродинамика сплошных сред, Гл. 1, «Наука», Москва, 1992.
  25. Физические величины, Справочник (под ред. И. С. Григорьева, Е.З.Мейлихова), Гл. 22, 23, 25, Энергоатомиздат, Москва, 1991.
  26. Э. Конуэлл, Кинетические свойства полупроводников в сильных электрических полях, Гл. 2, 3, «Мир», Москва, 1967.
  27. Ю.К. Пожела, Плазма и токовые неустойчивости в полупроводниках, Гл. 5, «Наука», Москва, 1977.
  28. Подписано к печати 02.04. 199'гз 264 Объем 2,5 п.л. Тираж 80 111 123 Москва, ул. Плеханова 2/46, НПО «Орион'
Заполнить форму текущей работой