Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Форвакуумный плазменный источник ленточного электронного пучка с повышенной плотностью тока на основе разряда с протяженным полым катодом

Диссертация: Форвакуумный плазменный источник ленточного электронного пучка с повышенной плотностью тока на основе разряда с протяженным полым катодом
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Возникновение неустойчивости токопрохождепия в катодной полости разрядной системы форвакуумного плазменного источника электронов может быть затруднено размещением внутри полости дополнительного нитевидного анода. Однако наличие дополнительного анода обеспечивает равномерное горение разряда только при условии, когда практически весь разрядный ток замыкается на этот анод. В этом случае… Читать ещё >

Содержание

  • ГЛАВА 1. ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ЭЛЕКТРОНОВ, ФОРМИРУЮЩИЕ ПУЧКИ БОЛЬШОГО СЕЧЕНИЯ ПРИ ПОВЫШЕННЫХ ДАВЛЕНИЯХ
    • 1. 1. Принципы формирования пучков большого сечения в системах с плазменными катодами
    • 1. 2. Неоднородности и неустойчивости, наблюдающиеся в разрядах низкого давления
    • 1. 3. Особенности формирования пучков большого сечения плазменными источниками в форвакуумной области давлений
    • 1. 4. Выводы и постановка задач исследования
  • ГЛАВА 2. НЕУСТОЙЧИВОСТИ В РАЗРЯДНОЙ СИСТЕМЕ С ПРОТЯЖЕННЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ ФОРВАКУУМНОГО ПЛАЗМЕННОГО ИСТОЧНИКА ЭЛЕКТРОНОВ
    • 2. 1. Техника эксперимента и методика измерений
    • 2. 2. Неоднородности параметров плазмы в разряде с протяженным полым катодом
    • 2. 3. Формирование плазмы с повышенной плотностью вблизи эмиссионной границы
    • 2. 4. Выводы
  • ГЛАВА 3. ФОРМИРОВАНИЕ В ФОРВАККУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ ЛЕНТОЧНОГО ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА ПРИ ИЗВЛЕЧЕНИИ ЭЛЕКТРОНОВ ИЗ РАЗРЯДА С ПРОТЯЖЕННЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ
    • 3. 1. Техника эксперимента и методика измерений
    • 3. 2. Разряд с неоднородным протяженным полым катодом в источнике ленточного электронного пучка
    • 3. 3. Анализ разрядных процессов в составной катодной полости
    • 3. 4. Выво д
  • ГЛАВА 4. ФОРВАКУУМНЫЙ ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ЛЕНТОЧНОГО ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА С ПОВЫШЕННОЙ ПЛОТНОСТЬЮ ТОКА НА
  • ОСНОВЕ РАЗРЯДА С ПРОТЯЖЕННЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ
    • 4. 1. Конструктивные особенности электронного источника
    • 4. 2. Характеристики электронного источника и его эксплуатационные параметры
    • 4. 3. Применение источника ленточного пучка для обработки высокотемпературных диэлектриков
      • 4. 3. 1. Потенциал изолированной мишени при ее облучении электронным пучком в области повышенных давлений
      • 4. 3. 2. Особенности взаимодействия электронного пучка с диэлектрической мишенью
      • 4. 3. 3. Плавка и сварка керамики
    • 4. 4. Выводы

Форвакуумный плазменный источник ленточного электронного пучка с повышенной плотностью тока на основе разряда с протяженным полым катодом (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Повышение производительности установок, предназначенных для электроннолучевой обработки больших поверхностей, требует создания источников пучков большого сечения, в частности пучков ленточной конфигурации. Среди подобных источников особый интерес представляют устройства, способные генерировать пучок в условиях предварительного вакуума или форвакуума, достигаемого использованием лишь механических средств откачки.

В проведенных ранее исследованиях была показана принципиальная возможность создания источника ленточного электронного пучка способного функционировать в фор-вакуумной области давлений (1−15 Па). Было установлено, что в этой области давлений однородность ленточного электронного пучка, формируемого плазменным источником электронов, определяется не только процессами генерации эмиссионной плазмы, но и влиянием обратного потока нонов, образованных в ускоряющем промежутке и области транспортировки электронного пучка. Между ионным потоком и плотностью эмиссионной плазмы существует положительная обратная связь, многократно усиливающая локальную неоднородность эмиссионного тока. На основе проведенных исследований был создан не имеющий аналогов простой и надежный электронный источник с плазменным катодом, который в форвакуумном диапазоне давлений позволяет получать электронный пучок ленточной конфигурации со стабильными параметрами. Формирование пучка осуществляется за счет эмиссии электронов из разряда с полым катодом в остаточной атмосфере вакуумной камеры без использования напуска газа и системы дифференциальной откачки. На базе разработанного источника реализован так называемый плазменно-пучковый разряд, а также показана возможность применения такого генератора плазмы в технологии осаждения покрытий.

Несмотря на то. что сам факт генерации ленточного электронного пучка в форваку-умной области давлений представляет собой «прорыв» в развитии плазменной эмиссионной электроники, достигнутые плотности тока пучка (10 мА/см2), тем не менее, оказались все же недостаточными для ряда принципиальных применений. Это делает задачу поиска путей увеличения плотности тока ленточного электронного пучка, генерируемого в фор-вакуумной области давлений, актуальной как в физическом аспекте, так и с точки зрения практического использования таких электронных пучков.

Цель работы состояла в проведении комплекса исследований, направленных на повышение плотности тока, генерируемого плазменным источником ленточного пучка электронов в форвакуумной области давлений. В задачу работы также входила модернизация на основе проведенных исследований существующего источника электронов для обеспечения в ленточном электронном пучке плотности тока не менее 100 мА/см2, достаточной для поверхностной обработки и плавки ряда материалов.

Научная новизна работы заключается в том, что:

1. Установлено, что для источников ленточных электронных пучков на основе разряда с полым катодом, функционирующих в форвакуумной области давлений, повышение плотности тока пучка путем уменьшения ширины выходной щели катодной полости имеет ограничение, связанное с возникновением неустойчивости токопрохождения в разрядном промежутке. Данная неустойчивость оказывает влияние на однородность плазмы в области эмиссии электронов и, соответственно, нарушает равномерность распределения плотности тока пучка по его сечению.

2. Предложена и исследована разрядная система с составной катодной полостью, обеспечивающая в форвакуумном плазменном источнике резкое увеличение плотности тока ленточного пучка электронов при сохранении высокой степени его линейной однородности.

3. Показано, что для форвакуумных плазменных источников электронов плазма, образующаяся в области транспортировки электронного пучка, обеспечивает практически полную нейтрализацию зарядки изолированной мишени электронным пучком, открывая тем самым возможность непосредственной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов.

Научная и практическая ценность работы состоит в том, что:

1. Создан плазменный источник электронов, обеспечивающий в форвакуумной области давлений (1−15 Па) генерацию ленточного электронного пучка с током до 800 мА, энергией до 10 кэВ и плотностью эмиссионного тока до 200 мА/см2.

2. Существенно расширен диапазон возможных технологических применений плазменных электронных источников, в частности, показана возможность использования разработанного устройства для плавки, сварки и размерной обработки высокотемпературных диэлектриков.

3. Полученные в работе результаты могут быть использованы в других устройствах, имеющих аналогичные разрядные структуры и функционирующих в области повышенных давлений, а именно: ионно-плазменных напылительных установках, генераторах низкотемпературной плазмы, источниках ионов.

Содержание диссертации.

Диссертация состоит из введения, четырех глав и заключения.

Основные результаты диссертационной работы заключаются в следующем:

1. Установлено, что в плазменном источнике электронов на основе разряда с протяженным полым катодом, генерирующим ленточный пучок в форвакуумном диапазоне давлений, при уменьшении ширины выходной щели катодной полости до величины, когда отношение площади щели к площади стенок полости достигает некоторого критического значения, возникает неустойчивость, связанная с резким повышением плотности плазмы в локальной области вдоль катодной щели и обусловливающая возрастание неоднородности распределения плотности тока пучка, проявляющейся в виде так называемых «эмиссионных струй». Определено, что вероятной причиной возникновения этой неустойчивости является лавинообразное раскрытие ионных оболочек в локальной области щелевпдной апертуре катодной полости, сопровождающееся «стягиванием» разряда и ростом концентрации плазмы в области локализации.

2. Возникновение неустойчивости токопрохождепия в катодной полости разрядной системы форвакуумного плазменного источника электронов может быть затруднено размещением внутри полости дополнительного нитевидного анода. Однако наличие дополнительного анода обеспечивает равномерное горение разряда только при условии, когда практически весь разрядный ток замыкается на этот анод. В этом случае эффективность извлечения электронов из плазмы разряда снижается с 80−100% до 15−20%. Принудительное уменьшение доли тока разряда на дополнительный анод повышает эффективность извлечения электронов, но вновь приводит к появлению неустойчивости тока.

3. Применение в форвакуумном источнике ленточного электронного пучка разрядной системы с составным полым катодом позволяет повысить концентрацию плазмы вблизи эмиссионной границы без нарушения ее однородности по длине (продольному размеру) катодной полости. Это в свою очередь приводит к увеличению в 1.5−2 раза плотности тока электронного пучка. Положительный эффект обусловлен взаимовлиянием двух областей катодной полости, в результате которого плазма из расширенной катодной полости проникает в сужение, а поток электронов из узкой части полости в свою очередь вызывает появление осевого максимума в поперечном распределении плазмы в области эмиссии электронов и формирования электронного пучка.

4. В результате проведенных исследований создан плазменный источник электронов на основе разряда с полым катодом, генерирующий при рабочих давлениях до 15 Па электронный пучок ленточной конфигурации с поперечным сечением 100×4 мм", плотностью тока 200 мА/см2, энергией до 10 кэВ и неоднородностью распределения плотности тока по ширине пучка, не превышающей 10%.

5. Генерация плотной плазмы при транспортировке ленточного электронного пучка, формируемого созданным источником, в форвакуумной области давлений обеспечивает практически полную компенсацию заряда, накапливаемого на изолированной мишени, что дает принципиальную возможность обработки изолированных мишеней и высокотемпературных диэлектриков без создания специальных условий для нейтрализации заряда пучка.

Достоверность и обоснованность результатов работы подтверждается систематическим характером исследований, использованием различных экспериментальных методик, сопоставлением экспериментальных результатов и численных оценок, а также практической реализацией научных положений и выводов при создании источников электронов.

Материалы диссертационной работы опубликованы в статьях [62, 66, 76, 83, 92], в сборниках докладов международных конференций [72, 75, 77, 78. 87, 94, 95], в трудах конференций Всероссийского и регионального масштабов [67, 79, 86, 91].

Результаты работ докладывались и обсуждались на XIV и XV Международных симпозиумах по сильноточной электронике (Томск, Россия, 2006 г. и 2008 г.), на 34 Международной конференции по физике плазмы (ICOPS, 2007, New Mexico, USA), на 10 Международной конференции по плазме газового разряда и её применению (Томск, Россия, 2007 г.), на III Международном Крейнделевском семинаре «Плазменная эмиссионная электроника» (г. Улан-Удэ. 23−30 июня 2009 г.), на Международных научно-практических конференциях «Электронные средства и системы управления» (Томск, Россия, 2006 г., 2007 г.), на 13-он и 14-ой Международных конференциях студентов, аспирантов и молодых ученых «Современная техника и технологии» (Томск, 2007 г., 2008 г.), на XI Российской научной студенческой конференции «Физика твердого тела» (Томск, 2008 г.), на Всероссийской научно-технической конференция студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУ СУР» (Томск, 2006 г., 2007 г., 2008 г.).

Работы по данной тематике поддержаны грантами РФФИ (08−08−15-а, 08−812 005 ОФИ, 05−08−1 319), грантом по программе «У.М.Н.И.К.» Фонда содействия МФС в НТС (госконтракт № 6343р/8839), а также грантом Минобрнауки по программе «Развитие научного потенциала высшей школы» (2.1.2/1951).

Созданный па основе проведенных исследований источник электронов с плазменным катодом используется на кафедре физики ТУСУРа для проведения исследований и выполнения хоздоговоров и контрактов.

Личный вклад автора состоит в создании экспериментальной установки, выборе методик эксперимента, проведении исследований и анализе их результатов. Обсуждение задач исследований, методов их решения и результатов анализа экспериментальных данных проводилось совместно с соавторами, фамилии которых указаны в опубликованных по теме диссертации работах. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые научные положения, сделаны выводы и даны рекомендации, на основании которых разработана конструкция источника электронов с ленточной конфигурацией пучка. Окончательная редакция защищаемых научных положений и выводов по работе осуществлялась совместно с научными руководителями при активном творческом участии соискателя.

В заключение автор искренне благодарит своего научного руководителя д.т.н., профессора В. А. Бурдовицина и заведующего кафедрой физики ТУСУРа д.т.н., профессора Е. М. Окса, взявших на себя кропотливую работу по формированию личности автора как исследователя и человека, к.т.н., доцента Ю. А. Бурачевского за помощь в проведении экспериментов и ценные замечания. Автор признателен сотрудникам лаборатории НИЧ кафедры физики ТУСУРа за проявленный интерес и поддержку работы.

Заключение

.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Ю.Е. Плазменные источники электронов. — М.: Атомиздат, 1977. -144 с.
  2. Плазменные процессы в технологических электронных пушках / М. А. Завьялов, Ю. Е. Крейндель, А. А. Новиков, Л. П. Шантурин. М.: Энергоатомиздат, 1989. — 256 с.
  3. Источники электронов с плазменным эмиттером / Сборник статей под редакцией профессора Ю. Е. Креннделя. Новосибирск: Наука, 1983. — 120 с.
  4. Источники заряженных частиц с плазменным эмиттером / Сборник статей под редакцией профессора П. М. Щанина. Екатеринбург: Наука, 1993. — 152 с.
  5. Известия ВУЗов «Физика» / Тематический выпуск «Плазменная эмиссионная электроника», под редакцией профессора П. М. Щанина. Том. 44. выпуск 9. 2001. — 96 с.
  6. Oks Е.М. Physics and technique of plasma electron sources // Plasma Sources Sci. Technol. 1992. V.l. — P. 249−255.
  7. Oks E.M. and Schanin P.M. Development of plasma cathode electron guns. // Physics of Plasmas. 1999. -vol.7, no.5. — P. 1649 — 1654.
  8. Broad beam electron guns with plasma cathodes / N.N. Koval, E.M. Oks, Yu. E. Kreindel, P.M. Schanin and N.V. Gavrilov // Nucl. Instrum. Mathods in Phys. Research. 1992, A312.-P.417−428.
  9. Gushcnets V.I., Oks E.M., Yushkov G.Yu., Rempe N.G. Current Status of the Plasma Emission Electronics: I. Basic Physical Processes // Laser and Particle Beams. 2003. -Vol. 21. No. 2.-P. 123−138.
  10. И. I Всесоюзное совещание по плазменной эмиссионной электронике. Сборник докладов. Улан-Удэ, Бурятский научный центр СО РАН, 1991. — 152 с.
  11. Труды II международного крейделевского семинара «Плазменная эмиссионная электроника». Улан-Удэ, Россия, июнь 2006. — С. 97−100.
  12. С.П., Крейндель Ю. Е., Щанин П. М. Электронные пучки большого сечения. -М.: Энергоатомиздат, 1984. — 112 с.
  13. Оке Е. М. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. Томск, Издательство НТЛ, 2005. — 216 с.
  14. Ю.Е., Мартене В. Я., Съеднн В. Я., Гавринцев С. В. Электронная пушка непрерывного действия с плазменным катодом большой площади // Приборы и техника эксперимента. 1982, № 4.-С. 178−180.
  15. Оке Е.М., Щанин П. М. Высоковольтный источник электронов с плазменным катодом и высокой плотностью энергии пучка в импульсе // Приборы и техника эксперимента. 1988. — вып.З. — С. 166−169.
  16. Н. В. Ковальчук Б.М., Крейндель Ю. Е., Толкачев B.C., Щанин П. М. Высоковольтный электронный источник с плазменным эмиттером для формирования пучков большого сечения // Приборы и техника эксперимента. — 1981. Вып.З. -С.152−154.
  17. Н.В., Осипов В. В., Бурев О. А., Емлин Д. Р., Каменецких А.С. Шитов
  18. B.А. Плазменный катод электронного ускорителя с большим сечением пучка // Письма в ЖТФ. 2005. — Т.31. — Вып.З. — С.72−78.
  19. В.А., Бурачевский Ю. А., Оке Е.М, Федоров М. В. Особенности формирования однородного ленточного пучка электронов плазменным источником в форвакуумной области давлений // ЖТФ. 2004. — Т. 74, № 1. — С. 104−107.
  20. В.А., Оке Е.М., Федоров М. В. Параметры «плазменного листа», генерируемого ленточным электронным пучком в форвакуумной области давлений // Известия ВУЗов. Физика, 2004, № 3. С.74−77.
  21. V. Burdovitsin, Yu. Burachevsky, Е. Oks, М. Fedorov. Fore-Vacuum Plasma Electron Gun of Ribbon Beam / AIP Conference Proceedings, ГСОРР-2002, June 11. 2003. -Vol.669, Issue 1. — P.358−360.
  22. Бурдовицин В. А, Бурачевский Ю. А., Оке Е. М., Федоров М. В. Электронный источник с плазменным катодом для генерации ленточного пучка в форвакуумном диапазоне давлений // Приборы и техника эксперимента 2003. — № 2. — С. 127−129.
  23. М.В. Плазменный источник электронов для генерации пучка ленточной конфигурации в форвакуумном диапазоне давлений. Дисс. канд.техн.наук, Томск, ТУ СУР, 2005.
  24. В.А. Плазменные источники электронов на основе разряда с полым катодом для генерации для генерации непрерывных пучков в форвакуумном диапазоне давлений. Дисс., докт. техн. наук, Томск, ТУ СУР, 2005.
  25. П.М.Щанин, H.H.Коваль, Ю. Х. Ахмадеев, С. В. Григорьев. Дуговой разряд с холодным полым катодом в скрещенных электрическом и магнитном полях // ЖТФ, 2004, том 74, в. 5.-С. 24−29.
  26. Галанский B. JL, Груздев В. А., Осипов И. В., Ремпе Н. Г. Источники электронов с плазменным эмиттером на основе отражательного разряда с полым катодом // Известия ВУЗов. Физика, 1992, Т. 35, № 5. С. 5−23.
  27. .И. Особенности отрицательного свечения, расположенного внутри полого катода тлеющего разряда // ЖТФ 1988. — Т.58. — № 10. — С. 2056−2059.
  28. Н.В. Гаврплов, Д. Р. Емлип Повышение эффективности ионного эмиттера на основе тлеющего разряда с осциллирующими электронами // ЖТФ, 2003, том 73, вып. 9. -С. 107−112.
  29. С.И., Сушков А. Д. Интенсивные электронные и ионные пучки. -Москва, Энергоатомиздат 1991 г. 302 с.
  30. В.А., Бурачевский Ю. А., Мытников А. В., Оке Е.М. О предельном рабочем давлении плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом // ЖТФ, 2001, Т. 71, в. 2. С. 48−50.
  31. А. В., Хаит В. Д. Колебания и неустойчивости низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1979. — 168 с.
  32. Е. П., Письменный В. Д., Рахимов А. Т. Несамостоятельный газовый разряд, возбуждающий непрерывные С02-лазеры / Успехи физических наук. 1977, т. 122.-С. 419−447.
  33. А. А. Физика электроразрядных СО2 лазеров. — М.: Эиергоиздат, 1982.- 112 с.
  34. .А. Теория плазмы: Учеб. пособие для вузов. М.: Энергоатомиздат, 1996.-461 с.
  35. Ю.П. Физика газового разряда: Учеб. руководство: Для вузов-2-е изд., перераб. и доп. М: Наука. Гл. ред. Физ.-мат. лит. — 1992. — 536с.
  36. G., Kroll W., Zoller О. // Thermal Instability of the Plasma Column / Phys. Fluids. 1964. V. 7. P. 2001−2006.
  37. Ю. С, Напартович А. П., Пашкин С. В. Исследование прилипательной неустойчивости в тлеющем разряде в потоке воздуха / Физика плазмы, 1978, т. 4, вып. 1. -С. 152−158.
  38. Nighan W. L. In Principles of Laser Plasmas Ed. G. Bckefi. N. Y.: Wiley Interscience. 1976. Chapter 7.-P. 257.
  39. Ю. Б., Зинченко А. К., Каган Ю. М. Исследование положительного столба в неоне при повышенных давлениях // ЖТФ, 1977, т. 47. -С. 1478−1485.
  40. Е. И., Голубев В. С., Пашкин С. В. Тлеющий разряд в потоке газа / Успехи физических наук. Т. 137. вып.1. — 1982 г. — С. 117−146.
  41. А.В. Страты / Успехи физических наук. Т.94. вып.З. 1968 г. -С. 439−462.
  42. Б.А. Князев. Низкотемпературная плазма и газовый разряд: Учебное пособие / Новосиб. гос. ун-т. Новосибирск. 2003. — 290с.
  43. Garscadden A. Ionization Waves: In Gaseous Electronics, v. 1. Electrical Discharge / Eds M.N. Hirsh and H. J. Oskem. N. Y.: Academic Press. — 1978. — P. 5−14.
  44. Л. Ионизационные волны (страты) в разрядной плазме / Успехи физических наук. 1968. Т. 94. — С. 463−500.
  45. Roth J. R. Industrial Plasma Engineering, V. l: Principles. Bristol and Philadelphia: Institute of Physics Publishing. — 1995.
  46. H.B., Осипов B.B., Буреев O.A., Емлин Д. Р., Каменецких А. С., Шитов В. А. Плазменный катод электронного ускорителя с большим сечением пучка // Письма в ЖТФ. 2005. — Т. 31. вып. 3. — С. 72−78.
  47. АС. Расширение рабочего диапазона давлений тлеющего разряда с полым катодом // ЖТФ. 1984. — Т. 54. В. 2. — С. 241−247.
  48. В.А., Куземченко М. Н., Оке Е.М. Об электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в форвакуумном диапазоне давлений // ЖТФ. 2002. — Т.72, № 7. — С. 134−136.
  49. И.С., Бурдовиции В. А., Оке Е.М., Осипов И. В. Инициирование разряда в плазменном источнике электронов с полым катодом // ЖТФ. — 2006. Т. 76, вып. 10. — С. 128−132.
  50. В.А., Бурачевский Ю. А., Оке Е.М., Федоров М. В. Электронный источник с плазменным катодом для генерации ленточного пучка в форвакуумном диапазоне давлений // Приборы и техника эксперимента. 2003. — № 2. — С. 127 — 129.
  51. А. В., Оке Е. М., Чагин А. А. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений // Приборы и техника эксперимента. 1998. — № 2. — С. 95−98.
  52. S.G. Walton, C. Muratore, D. Leonhardt, R.F. Fernsler Electron-beam-generated plasmas for materials processing // Surface & Coatings Technology, 186. 2004. — P. 40−46.
  53. М.В., Мальцев М. С. Установка для нанесения покрытий большой площади. Материалы 8-ой Российской научной студенческой конференции по физике твердого тела. Май 14−16. 2002. — Томск. Россия. — С. 96−98.
  54. М.В. Применение плазменного электронного источника для инициирования пучкового разряда и осаждения покрытий / «Современные проблемы физики, технологии и инновационного развития», Сборник статей молодых ученых. -Томск, ТГУ. 2003. — С. 133−135.
  55. П.А., Федоров М. В. Управление свойствами пленок, получаемых плазмохимическим осаждением. Материалы XI российской научной студенческой конференции по физике твердого тела, 12−14 мая 2004 г. Томск, Россия. — 2004. — С.96−98.
  56. А.С., Бурдовицин В. А., Оке Е.М. Локализация плазмы в протяженном полом катоде плазменного источника ленточного электронного пучка в форвакуумной области давлений / Изв. вузов. Физика. — 2007. № 6. — С. 3−10. (модель)
  57. Диагностика плазмы. Под ред. Р. Хаддлстоуна и С. Леонарда. Мир, 1967.250с.
  58. Методы исследования плазмы. (Спектроскопия, лазеры, зонды) / Под ред. В. Лохте-Хольтгревена. М.: Мир. — 1971. — 552 с.
  59. Burdovitsin V., Oks Е. Hollow-Cathode Plasma Electron gun for Beam Generation at Fore-pump Gas Pressure. Rev.Sci.Instrum. 1999. -V. 70, № 7. — P. 2975 -2978.
  60. B.A., Климов A.C., Оке E.M., Федоров М. В. Локализация плазмы в протяженном полом катоде плазменного источника ленточного электронного пучка // ЖТФ 2006 — Т. 76 — Вып. 10 — С. 62−65. (эксперимент)
  61. Н.В. Гаврилов, В. В. Осипов, О. А. Буреев и др. Плазменный катод электронного ускорителя с большим сечением пучка // Письма в ЖТФ. 2005. — Т. 31, вып. 3. — С. 72−78.
  62. С.М. Сборник задач и расчетов по физической электронике. Изд-во Киевского университета. 1964. — 212с.
  63. Burdovitsin V.A., Burachevskii Yu. A., Oks Е. М., et al. //Proc. of 5th Int. Conf. on Surface Modification by Particle Beams and Plasma Flows. Tomsk — 2000 — Russia. -P. 143−146.
  64. A. Klimov, V. Burdovitsin, Yu. Burachevsky, E. Oks, M. Fedorov. Discharge localization in split aperture of extended hollow cathode / Изв. вузов. Физика. 2006. — № 8. Приложение. — С. 117−119.
  65. Burdovitsin V.A., Burachevsky Yu.A., Oks E.M. Klimov A.S., Tjunkov A.V. Ribbon beam generation by plasma cathode electron source. Electrotechnica & Electronica. -2009. 44, No. 5−6. — P. 198−200.
  66. A.A., Сысун В. И., Гостев В. А. Прпанодная область микроплазменного источника с острийным анодом / Прикладная физика. 2008. — № 4. — С. 49−52.
  67. В. И., Гостев В. А., Тихомиров А. А. Распределение концентрации в микроплазменном источнике с малым анодом / Материалы Всероссийской научнойконференции по физике низкотемпературной плазмы ФНТП-2007. Петрозаводск. — 2007.-С. 109−110.
  68. В.А., Галанский В. Л., Груздев В. А., Зеленский В. И., Репин М. Ф. Аксиальное распределение параметров плазмы в катодной полости отражательного разряда //ЖТФ.- 1993.-Т. 63. Вып. 1.-С. 184−189.
  69. А.С., Настюха А. И. Роль дополнительной ионизации газа осциллирующими электронами в области катодного падения тлеющего разряда с полым катодом // Известия высших учебных заведений, Радиофизика. 1976. — Т. 19, № 12. — С. 1884−1890.
  70. А.В., Оке Е.М., Шандриков М. В., Юшков Г. Ю. Генерация объемной плазмы на основе сильноточного газового разряда с внешней инжекцией электронов // Прикладная физика. 2004. — № 6. — С. 115−119.
  71. А.С., Бурачевский Ю. А., Жирков И. С. Тлеющий разряд с неоднородным полым катодом для форвакуумных плазменных источников электронов /
  72. Доклады томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники. -2008, 2(18), часть 2. С. 53−58.
  73. Н. А. Зайцев К.И. Сварка в машиностроении: Справочник. В 4-х т. М.: Машиносторсние, 1978 — т.2. — 1978. — 462 е., ил.
  74. И. С. Бурдовицин В.А., Оке Е.М., Осипов И. В. Особенности формирования узкосфокусированных электронных пучков, генерируемых источником с плазменным катодом в форвакуумном диапазоне давлений // ЖТФ. 2006. — Т. 76. Вып. 6. -С. 106−110.
  75. В.Я. Потенциал изолированного электрода в системе плазма-электронный поток // ЖТФ. 1996. — Т. 66. Вып. 6. — С. 70−76.
  76. А.П., Жидких В. М. Расчёты теплового режима твердых тел. — JL: Энергия. 1968.-309 с.
  77. Краткий справочник физико-химических величин. Изд. 7-е, испр. Под ред. К. П. Мищенко и А. А. Равделя. — JL: Изд-во Химия. — 1974. 200 с.
  78. В.А., Климов А. С., Оке Е.М. О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений // Письма в ЖТФ. 2009. — Т. 35, вып. 11.-е. 61−66.
Заполнить форму текущей работой

Пора сдавать?