Помощь в учёбе, очень быстро...
Работаем вместе до победы

Кинетика анодного растворения Cu, Au — сплавов в условиях образования труднорастворимых соединений Cu (I)

Диссертация: Кинетика анодного растворения Cu, Au — сплавов в условиях образования труднорастворимых соединений Cu (I)
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Специфика решения проблемы CP состоит в необходимости оперировать индивидуальными, «парциальными» токами растворения компонентов. Даже для бинарных сплавов это обычно представляет весьма сложную экспериментальную задачу, требующую привлечения разнообразных методов аналитической химии, радиохимии, нестационарных электрохимических измерений и т. д. Ее решение заметно упрощается, если в ходе CP… Читать ещё >

Содержание

  • СОКРАЩЕНИЯ И ОБОЗНАЧЕНИЯ
  • Глава 1. СОСТОЯНИЕ ПРОБЛЕМЫ (ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ)
    • 1. 1. Основные закономерности анодного растворения сплавов на основе электроотрицательного компонента
      • 1. 1. 1. Эффект селективного растворения, термодинамические предпосылки
      • 1. 1. 2. Кинетика селективного растворения гомогенного сплава с высоким содержа^^г эдекцюотрицательного компонента.л. г. Г. .V
      • 1. 1. 3. Состояние поверхностного слоя сплава при селективном растворении
      • 1. 1. 4. Особенности растворения сплавов, обусловленные образованием труднорастворимых продуктов
    • 1. 2. Труднорастворимые продукты окисления меди
      • 1. 2. 1. Термодинамический анализ
      • 1. 2. 2. Кинетика анодного формирования оксидов меди
      • 1. 2. 3. Кинетика анодного формирования монохлорида меди
    • 1. 3. Теоретические модели процесса анодного фазообразования
      • 1. 3. 1. Активация потенциальных центров нуклеации
      • 1. 3. 2. Ток процесса монослойного зародышеобразования
      • 1. 3. 3. Хроноамперометрия двумерной нуклеации (кинетический режим)
      • 1. 3. 4. Учет адсорбции частиц на свободных участках поверхности
      • 1. 3. 5. Учет растворения электрода на свободных участках поверхности при зародышеобразовании в кинетическом режиме
      • 1. 3. 6. Хроноамперометрия двумерной нуклеации (диффузионный режим)
      • 1. 3. 7. Учет растворения электрода на свободных участках поверхности при зародышеобразовании в диффузионном режиме
      • 1. 3. 8. Роль физических факторов в кинетике анодного фазообразования
  • Глава 2. МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА
    • 2. 1. Электроды, растворы, ячейки
    • 2. 2. Электрохимические исследования
      • 2. 2. 1. Потенциодинамические исследования
      • 2. 2. 2. Хроноамперометрия стационарных и вращающихся дисковых электродов
      • 2. 2. 3. Хронопотенциометрический контроль степени развития поверхности
    • 2. 3. Вольтамперометрия ВДЭ и ВДЭсК
      • 2. 3. 1. Определение коэффициента улавливания кольцевого электрода
      • 2. 3. 2. Хроноамперометрия ВДЭсК
    • 2. 4. Статистическая обработка результатов
  • Глава 3. ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЯ МЕДИ В ХЛОРИДСОДЕРЖАЩИХ РАСТВОРАХ УНИВЕРСАЛЬНОЙ БУФЕРНОЙ СМЕСИ С РАЗЛИЧНЫМИ ЗНАЧЕНИЯМИ рН
    • 3. 1. Общие кинетические закономерности анодного растворения меди в УБС + 0,1 М СГ
      • 3. 1. 1. Статичный электрод
    • 3. 1. 2. Вращающийся дисковый электрод
    • 3. 2. Ранжировка и идентификация пиков на циклических вольтамперограммах меди
      • 3. 2. 1. Роль конечного потенциала сканирования
      • 3. 2. 2. Роль концентрации СГ — ионов
      • 3. 2. 3. Влияние скорости изменения потенциала
    • 3. 3. Критерии обратимости стадии разряда/ионизации
  • Глава 4. АНОДНОЕ ФОРМИРОВАНИЕ СнС1 НА МЕДИ И Си, Au — СПЛАВАХ
    • 4. 1. Кинетика растворения Си, Au — сплавов в стационарных условиях образования CuCl
      • 4. 1. 1. Медь и ее низкоконцентрированные сплавы с золотом
      • 4. 1. 2. Сплав Cu4Au
      • 4. 1. 3. Сплав Си 15Au
      • 4. 1. 4. Сплав СиЗОАи
    • 4. 2. Нестационарный этап образования CuCI
      • 4. 2. 1. Медь
      • 4. 2. 2. Низкоконцентрированные сплавы меди с золотом
      • 4. 2. 3. Сплавы Cu4Au и Си 15Au
  • Глава 5. АНОДНОЕ ФОРМИРОВАНИЕ Си20 НА МЕДИ И Си, Au — СПЛАВАХ
    • 5. 1. Данные многоциклической вольтамперометрии
    • 5. 2. Начальный этап формирования Си

Кинетика анодного растворения Cu, Au — сплавов в условиях образования труднорастворимых соединений Cu (I) (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Актуальность проблемы. Кинетические закономерности процесса селективного растворения (CP) сплавов относятся к одной из центральных проблем электрохимии твердых металлических растворов и интерметаллических фаз, интенсивно разрабатываемой рядом научных школ (И.К. Маршаков — Воронежский госуниверситетЯ.М. Колотыркин, В. В. Лосев, Г. М. Флорианович, Ю. А. Попов — ГНЦ «НИФХИ им. Л.Я. Карпова» — Ю. Я. Андреев — МИСиСА.Л. Львов, И. А. Казаринов — Саратовский госуниверситетВ.П. Григорьев, В. В. Экилик — Ростовский госуниверситетН. Pickering — Pennsylvania University (USA) — H. Kaiser, H. Kaesche — Universitate Erlanger — Nurnberg (Germany) — D. Landolt — Federal Institute of Technology (Switzerland) — A. FortyUniversity of Warwick (UK) — F. Lantelme — Universitete P. et M. Curie (France). В этой связи нельзя не упомянуть Г. Таммана, К. Вагнера и X. Геришера, стоявших у истоков данной фундаментальной проблемы физико-химии и электрохимии.

Специфика решения проблемы CP состоит в необходимости оперировать индивидуальными, «парциальными» токами растворения компонентов. Даже для бинарных сплавов это обычно представляет весьма сложную экспериментальную задачу, требующую привлечения разнообразных методов аналитической химии, радиохимии, нестационарных электрохимических измерений и т. д. Ее решение заметно упрощается, если в ходе CP компоненты сплава переходят в раствор в виде простых или комплексных ионов, что обычно можно осуществить соответствующим выбором среды и условий поляризации. Fie умаляя ценности такого подхода, отметим, что на прак тике CP сплавов, особенно содержащих в своем составе цветные металлы, как правило сопровождается образованием фазового слоя труднорастворимых продуктов ионизации компонентов в виде солей или оксидов. Тому имеется множество примеров из области коррозии сплавов, их размерной электрохимической обработки, работы сплавных анодов электролизеров, ванн электрорафинирования, химических источников тока, аккумуляторных батарей и т. д. Затруднения анодного процесса, обусловленные появлением пленки продуктов реакции, иногда трактуются как проявления «солевой» или «оксидной» пассивации, однако мы будем, по возможности, избегать использования этих терминов.

Основное внимание в данной работе уделено двум важным, но крайне слабо изученным аспектам проблемы СР сплава, связанным с формированием на его поверхности пленки продуктов парциальных анодных реакций. Прежде всего, это возможные изменения в кинетике растворения сплава, а также связанные с этим процессом изменения в физико-химических характеристиках самих труднорастворимых продуктов. Ответ на эти вопросы позволит, на наш взгляд, не только расширить систему имеющихся научных представлений о закономерностях анодного растворения твердых металлических растворов, но и в какой-то мере облегчить решение ряда практических проблем, связанных с солеи оксидообразованием на сплавных анодах промышленных электрохимических установок.

Исследования по теме поддержаны грантом РФФИ «Электрохимические процессы и фазовые превращения на поверхности гомогенных сплавов при селективном анодном растворении» (проект 94−03−9 918а на 1995;1996 г. г.) и заказ-нарядом Минобразования РФ «Термодинамика и кинетика электрохимических процессов на металлах, ин-терметаллидах и металл-ионитах» (НИЧ 007 темплана В ГУ на 1997;2002 г. г.).

Объект исследований. Эксперименты выполнены на меди, а также гомогенных поликристаллических сплавах Си — Аи (ХАиУ — 0,14−30 ат.%), которые кристаллизуются в однотипной кубической гранецентрированной решетке и при определенных условиях термообработки образуют непрерывный ряд статистически неупорядоченных твердых растворов. Раствором служила универсальная буферная смесь (УБС), содержащая 0,1 М СГ, ее рН изменяли от 1,25 до 11,90 добавлением необходимого количества гидрокси-да натрия. Такой выбор металлической системы и среды обеспечивает:

— возможность несложного определения парциального тока селективного растворения меди из Си, Аи — сплавов, совпадающего с током поляризации во внешней цепи, поскольку в относительно разбавленных хлоридных растворах золото термодинамически стабильно в широком интервале потенциалов и рН;

— возможность получения ряда труднорастворимых продуктов окисления меди, в том числе двух соединений Си (1) — монооксида Си20 и монохлорида СиС1, исключительно путем изменения кислотности среды и потенциала поляризации;

— качественное и, в значительной степени, количественное постоянство анионного состава раствора в условиях образования различных труднорастворимых анодных продуктов;

— режим относительной обратимости собственно стадии разряда-ионизации меди, что позволяет относить ток растворения сплава к полной, а не «парциальной» по меди поверхности.

Цель работы: установление общих кинетических закономерностей и построение физико-химической схемы процесса селективного анодного растворения Си, Аи — сплавов на основе меди в условиях формирования труднорастворимого осадка СиС1 или Си20.

Научная новизна основных результатов:

— предложен методический подход к количественному изучению кинетических особенностей СР сплавов, обусловленных появлением труднорастворимых продуктов анодной реакции, что позволило расширить существующие границы применимости физико-химической модели процесса СР;

— экспериментально показано, что область, в которой пространственно локализуются диффузионные затруднения процесса стационарного анодного растворения Си и Си, Аи — сплава, меняется в зависимости от рН среды, состава сплава и природы труднорастворимого осадка на электроде;

— впервые подтверждено, что СР Си, Аи — сплавов с ХАиУ ^ 4 ат.% как в активном состоянии, так и в условиях формирования СиС1, контролируется массопереносом в объеме сплава, из-за чего поверхностная концентрация меди в сплавах сильно понижена, а потенциалы образования СиС1 заметно облагорожены;

— впервые показано, что из-за локализации диффузионных затруднений анодного процесса в фазе Си20 при растворении Си и Си, Аи — сплавов всех изученных составов концентрационные изменения в поверхностном слое сплавов либо не возникают, либо весьма незначительны, что исключает появление различий в анодном и катодном поведении меди и ее сплавов с золотом в щелочной среде по крайней мере при I > 0,25с;

— выявлены ограничения в использовании метода ВДЭсК для выделения тока фазообразования СиС1 из общего тока анодной реакции. Эти ограничения предположительно обусловлены затрудненным доступом СГ — ионов к поверхности дискового электрода через поры растущей пленки, что делает возможным доокисление Си+ до Си2+ с последующим диспропорционирова-нием и приводит к резкому росту тока восстановления на кольцевом электроде;

— установлено, что образование СиС1 на меди и ее сплавах в начальный период контролируется стадией 2Б — нуклеации на этапе перекрывания диффузионных зон растущих зародышей, при этом активация потенциальных центров зародышеобразования происходит мгновенно. Впервые обнаружено, что введение атомов золота в кристаллическую решетку меди понижает плотность таких центров на поверхности электрода, тогда как замена Си на Си*, представляющую продукт циклической анодно-катодной поляризации по схеме Си -" СиС1 —" Си*, оказывает обратное воздействие;

— обнаружен эффект влияния пространственной ориентации поверхности статичных электродов из Си и Си, Аи — сплавов как на характеристики стадии 2Б — нуклеации, так и, в меньшей степени, на параметры пленки монохлорида меди. Показано, что этот эффект не связан с гидродинамической ситуацией в приэлектродном слое, а обусловлен какими-то иными причинами.

Практическая значимость результатов работы состоит в следующем :

— проиллюстрированы возможности метода многоциклической анодно-катодной поляризации для выявления концентрационных изменений в поверхностном слое бинарного сплава, покрытого слоем труднорастворимого оксида или соли;

— предложены диагностические критерии для установления фазы, в которой пространственно локализован скоростьопределяющий массоперенос;

— конкретизированы условия, при которых закономерности процесса СР гомогенного сплава не зависят от степени растворимости продуктов анодной реакции, либо же исчезает различие в анодном и катодном поведении металла и гомогенного сплава на его основе.

Автор защищает:

— физико-химическую схему процесса селективного анодного растворения Си, Аи — сплавов в условиях образования труднорастворимых соединений Cu (I) учитывающую различную диффузионную проницаемость пленок CuCl и CibO;

— представления о диффузионной природе кинетических ограничений процесса анодного растворения меди и медно-золотых сплавов на ее основе в режимах т.н. «солевой» и «оксидной» пассивности;

— доказательства смены области локализации объемно-диффузионных затруднений процесса CP Cu, Au — сплавов при изменении pH среды, состава сплава и характера труднорастворимого продукта анодной реакции;

— экспериментально выявленные особенности кристаллизационного этапа анодного формирования монохлорида меди на Си и Си, Аи — сплавах с содержанием золота до 1 ат.%, связанные с влиянием ориентации поверхности электрода и ролью золота.

Апробация работы. Основные результаты диссертационной работы докладывались на III, IV, VI и VIII региональных конференциях «Проблемы химии и химической технологии» (Воронеж-1995, 1998, 2000 г. г., Тамбов -1996 г.) — Всероссийской конференции молодых ученых «Современные проблемы теоретической и экспериментальной химии» (Саратов — 1997) — Международной конференции «Защита — 98» (Москва — 1998) — Всероссийской конференции «Проблемы коррозии и защиты металлов» (Тамбов — 1999) — 14th International Corrosion Congress «Cooperation in Corrosion Control» (South Africa, Cape Town — 1999) — VII Международном Фрумкинском симпозиуме «Фундаментальная электрохимия и электрохимическая технология» (Москва — 2000) — 198th Meeting of The Electrochemical Society (USA, Phoenix — 2000) — научных конференциях ВГУ (1999, 2000).

Публикации. По материалам диссертации опубликовано 13 работ в форме статей и тезисов докладов.

ВЫВОДЫ.

1. Растворение гомогенных Си, Аи — сплавов с Хди < 30 ат.% в хлоридсо-держащих (ССг — ОДМ) водных растворах универсальной буферной смеси (УБС) в изученном интервале рН от 1,25 до 11,90 носит селективный характер и сопровождается образованием труднорастворимых соединений меди. Их природа главным образом определяется рН среды, наличием в ней анионов СГ, а также потенциалом поляризации и практически не зависит от содержания золота в сплаве. В интервале рН от 1,25 до 8,70 на поверхности меди и сплавов первоначально формируется монохлорид меди CuCl, тогда как при рН от 8,70 до 11,90 — ее монооксид Си20.

2. Кинетика стационарного анодного растворения Си и Си, Аи-сплавов в УБС + ОДМ СГ в интервале рН = 1,25 11,90 является диффузионной вне зависимости от природы возникающих труднорастворимых продуктов парциальной анодной реакции окисления меди — Си20 или CuClдиффузионной же является и кинетика их катодного восстановления в относительно «медленном» потенциодинамическом режиме поляризации. Собственно электрохимическая стадия разряда/ионизации меди в реакциях образования труднорастворимых соединений Cu (I) остается квазиравновесной. При этом из-за сложного многостадийного характера процессов окисления и восстановления таких соединений применение известных из теории циклической вольтамперометрии критериев обратимости стадии разряда/ионизации (полученных для простой Ox, Red — реакции, осложненной массопереносом реагентов в растворе) исключено.

3. С использованием предложенных в работе диагностических критериев метода сравнительной многоциклической вольтамперометрии меди и Си, Аи — сплавов установлено, что природа фазы, в которой пространственно локализованы диффузионные затруднения, определяется значениями рН, XAuv и физйко-химическими свойствами труднорастворимых продуктов реакции. Если анодное растворение меди и ее низкоконцентрированных сплавов с золотом (XAuv < 1 ат.%) в нейтральном и слабокислом растворе (рН = 3,0 и 6,0) при потенциалах образования CuCl, а также катодное восстановление пленки продукта лимитируются массопереносом в слое монохлорида меди, то в кислом растворе УБС + ОДМ СГ (рН = 1,25) — диффузией ионов в растворе. Впервые показано, что растворение Си, Аи — сплавов с ХАиУ > 4 ат.% в условиях их «солевой» пассивации, как и СР таких сплавов в активном состоянии, вне зависимости от рН среды определяется диффузией атомов меди из глубины сплава к поверхности, обогащенной золотом. Как результат, токи растворения сплавов сильно снижены по сравнению с медью, а область потенциалов образования СиС1 заметно смещена в сторону более положительных значений из-за весьма малой поверхностной активности (концентрации) атомов меди в сплаве. Диффузионные ограничения процесса восстановления СиС1 в целом имеют ту же природу, однако концентрационная граница перехода к диффузии в сплаве увеличивается с 4 до 15 ат.% Аи.

4. Установлено, что использование методов анодной хроноамперометрии статичного и вращающегося дискового электрода с кольцом (ВДЭсК) приводит к близким значениям составляющей ¡-ф^) полного анодного тока 1(1), характеризующей кинетику нестационарного этапа процесса анодного формирования СиС1. Впервые выявлены ограничения метода ВДЭсК применительно к определению 1ф (1), связанные с возможностью протекания реакции диспропорционирования Си + Си <-> 2Си на границе меди с пленкой СиС1. Эти ограничения обусловлены, по всей видимости, затрудненным доступом анионов СГ сквозь поры растущей пленки в реакционную зону у поверхности меди, из-за чего концентрация хлоридных комплексов СиС1^'-1)" резко падает. Становится термодинамически возможным доокисление Си+ до Си2+ и фиксируемый при катодной поляризации ток кольцевого Си — электрода (после учета коэффициента улавливания кольца) начинает заметно превышать ток дискового электрода, что формально приводит к отрицательным значениям 1ф (1-).

5. В УБС + 0,1М СГ с рН = 3 формирование анодного осадка СиС1 на меди, по крайней мере начиная с 1: > 0,25с, контролируется стадией 2В — нуклеа-ции, протекающей в условиях перекрывания диффузионных зон соседних зародышей (т.н. конечно-диффузионный режим 20 — нуклеации). По мере утолщения слоя СиС1, чему способствует рост потенциала, контроль переходит к ионному массопереносу в пленке постоянной толщины, но уменьшающейся пористости, что приводит к заметному снижению плотности тока анодного фазообразования во времени.

6. Впервые найдено, что введение золота в медь в количестве до 1 ат.% не меняет кинетики начального этапа анодного формирования CuCl, но снижает более чем вдвое поверхностную концентрацию п0 потенциальных центров нуклеации, активация которых, как и на меди, осуществляется мгновенно. Значения удельной электропроводности ст и толщины пленки монохлорида меди h, усредненные по потенциалам, мало меняются при переходе от Си к Cul Au. В то же время замена Си на Си*, представляющую вторично восстановленную медь после I цикла анодно-катодной поляризации по схеме: Си —" CuCl —> Си*, приводит к существенному увеличению п0 при одном и том же потенциалевеличины же h и, а заметно снижаются, указывая на образование более компактного и менее дефектного слоя монохлорида меди.

7. Смена горизонтальной ориентации статичных электродов из Си и сплава Cul Au на вертикальную более чем на порядок увеличивает По, однако это не связано с изменением гидродинамической ситуации в приэлектродном слое. Параметры пленки CuCl (ст и h) также зависят от пространственного расположения электродов, но в гораздо меньшей степени. При одном и том же потенциале наиболее тонкая пленка CuCl с минимальной удельной электропроводностью формируется на вращающемся дисковом электроде.

8. При потенциалах и рН, отвечающих образованию Си20, растворение меди и Си, Аи-сплавов всех изученных составов в УБС + 0,1 M СГ контролируется ионным массопереносом в фазе оксидато же характерно для процесса его восстановления. Концентрационные изменения в поверхностном слое сплавов либо не возникают, либо столь незначительны, что не выявляются методом многоциклической вольтамперометрии. Как результат, введение золота в медь весьма слабо влияет на ее анодное и катодное поведение в щелочной среде.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Проведенные исследования позволяют представить общую физико-химическую схему процесса селективного анодного растворения Си, Аисплавов в условиях формирования труднорастворимых осадков СиС1 и Си20.

В кислых и нейтральных хлоридсодержащих средах непосредственно после начала анодной поляризации имеет место активное растворение меди из собственной фазы или из твердого раствора с золотом. Согласно данным литературы, вначале оно лимитируется стадиями переноса заряда или анодной декристаллизации (включающей стадии поверхностной диффузии ад-атомов, двумерной пустотной нуклеации и т. д.), затем контролирующим становится этап массопереноса. В случае чистой меди речь идет о замедленном диффузионном отводе хлоридных комплексов меди от электрода в раствор, для Си, Аи — сплавов лимитирующим является атомарный перенос в поверхностном слое сплавов.

Можно предполагать, что фактически сразу после начала анодной поляризации на отдельных участках поверхности начинается образование микрокристаллов труднорастворимой соли СиС1, изначально закрывающий ничтожную долю поверхностимала и составляющая ц общего анодного тока 1, затрачиваемая на этот процесс.

Какое-то время процессы анодного фазооборазования и активного анодного растворения (характеризуемого составляющей полного тока) протекают параллельно и практически независимо друг от друга, что, собственно, и позволяет провести их раздельное экспериментальное определение. Процесс формирования СиС1 в этот период является кристаллизационно-лимитируемым и определяется скоростью 2Б — нуклеации. К сожалению, быстродействие электроизмерительной аппаратуры в наших опытах было относительно невелико, поэтому зафиксирован лишь относительно «медленный» конечно-диффузионный этап зародышеобразования, характеризуемый перекрыванием цилиндрических диффузионных зон соседних зародышей. Оказалось, что активация потенциальных центров зародышеобразования СиС1 на меди и ее низкоконцентрированных сплавах с золотом осуществляется мгновенно, при этом введение золота в кристаллическую решетку меди понижает плотность таких центров на поверхности электрода, объективно тормозя процесс нуклеации.

По мере увеличения доли поверхности, занимаемой зародышами CuCl, процессы нуклеации и активного анодного растворения меди начинают влиять друг на друга, причем вклад последнего прогрессивно снижается. Отдельные кристаллики CuCl срастаются, пленка очень быстро утолщается, оставаясь при этом макропористойрастворение меди осуществляется сквозь поры пленки. Постепенно толщина слоя анодно образованного CuCl стабилизируется на уровне от доли до нескольких микрометров, что определяется пространственной ориентацией поверхности электрода и гидродинамическим режимом в приэлектродном слое. Сам же процесс растворения какое-то остается нестационарным, что соответствует модели постепенного уменьшения диаметра пор, ионная миграция сквозь которые определяет скорость растворения меди или сплавов Си — Аи с низким (< 1ат.%) содержанием золота. По всей видимости, в условиях «медленной» циклической вольтамперомет-рии средний диаметр пор в пленке CuCl, а соответственно и фиксируемый анодный ток выходит на относительно постоянный уровень. Фиксируемая в этот период времени линейная зависимость i от корня из скорости изменения потенциала v как при анодном, так и катодном направлении развертки обычно интерпретируется с позиций диффузионной кинетики, хотя скорее всего массоперенос осуществляется по кинетически неразличимому механизму ионной миграции.

Резонно считать, что все вышеперечисленные этапы анодного окисления меди в условиях т.н. «солевой» пассивации имеют место и при CP Си, Аи.

— сплавов с достаточно заметным содержанием золота (4 + 30 ат.%). Однако диффузионно-лимитируемое снижение поверхностной концентрации меди в таких сплавах осуществляется столь быстро, что процесс подвода атомов меди из глубины сплава к поверхности становится скоростьопределяющим уже к моменту начала наших измерений, т. е. при t > 0,25 с. Из-за этого резко понижаются скорости анодного растворения сплавов Cu4Au, Cul5Au и СиЗОАи в сравнении с чистой медью и, кроме того, никак не проявляется наличие слоя CuCl. Иными словами, после образования диффузионной зоны в Си, Аи.

— сплавах с достаточно высоким содержанием золота процесс их селективно.

181 го растворения становится нечувствителен к природе продуктов окисления меди.

Совершенно иная ситуация складывается в случае формирования труднорастворимого оксида Си20 в щелочной хлоридсодержащей среде. Диффузионная проницаемость и макропористость монооксида меди, судя по данным литературы, много ниже, чем у монохлорида, процесс же нуклеации протекает очень быстро. Поэтому растворение как меди, так и Си, Аи — сплавов всех изученных составов уже с момента времени I > 0,25 с лимитируется процессом массопереноса, вероятно миграционного, через слой монооксида меди. Поскольку массоперенос в пленке Си20 осуществляется медленнее, чем в поверхностном слое Си, Аи — сплавов с заметным содержанием золота, концентрационные изменения в таких сплавах скорее всего не возникают вовсе, а потому токи окисления Си и Си, Аи — сплавов весьма близки. Данное обстоятельство отражает, на наш взгляд, основное принципиальное различие между процессами СР Си, Аи — сплавов в условиях т.н. солеи оксидообразо-вания. Ясно, что изучение кинетики собственно этапа зародышеобразования при формировании Си20 следует осуществлять при гораздо меньших временах наблюдения.

Показать весь текст

Список литературы

  1. И.К. Коррозия твердых растворов, интерметаллических соединений и сплавов на их основе. Дис.докт.хим.наук, — Воронеж, 1968, — 402 с.
  2. И.К., Богданов В. П., Алейкина С.PI. Коррозионное и электрохимическое поведение сплавов системы медь-цинк// Журнал физической химии, — 1964,-Т.38, № 7,-С.1764−1769.
  3. И.К. Термодинамика и коррозия сплавов, — Воронеж. Изд-во ВГУ, 1983, — 168 с.
  4. И.К., Введенский A.B., Кондрашин Ю. В., Боков Г. А. Анодное растворение и селективная коррозия сплавов.- Воронеж: Изд-во ВГУ, 1988, — 203 с.
  5. И.К. Электрохимическое поведение и характер разрушения твердых растворов и интерметаллических соединений./ В кн.: Итоги науки. Сер. «Коррозия и защита от коррозии», т. 1 М.: ВИНИТИ, 1971, — С. 138 — 155.
  6. Избирательная ионизация отрицательных компонентов при анодном растворении сплавов. Сплав индий-цинк/ Пчельников А. П., Красинская Л. И., Ситников А. Д., Лосев ВВ.// Электрохимия, — 1975, — Т.11, № 1, — С.37−42.
  7. А.П., Ситников А. Д., Лосев В. В. Избирательная ионизация отрицательного компонента при селективном растворении бинарного сплава олово-цинк// Защита металлов.- 1977.- Т.13, № 3.- С.288−296.
  8. В.В., Пчельников А. П. Анодное растворение сплавов в активном состоянии// Электрохимия: Современные проблемы.- М., 1979.- С.62 131.-(Итоги науки и техники ВИНИТИ. Сер.: Электрохимия: Совр. пробл.)
  9. А.Л., Тихонов К. И., Шошина И. А. Теоретическая электрохимия.-Л.: Химия, 1981, — 424 с.
  10. Kaiser H. Alloy dissolution.// Corros. Mechanism. N.- York, Basel: Plenum Press, 1987,-P. 85−118.
  11. П.Кравцов В. И. Равновесие и кинетика электродных реакций комплексов металлов. Л., Химия, 1985.- 208 с.
  12. Е.И., Пчельников А. П., Лосев В. В. Анодное растворение и коррозия сплава Cu30Ni в хлоридных растворах// Защита металлов, — 1988.-Т.24, № 5.- С. 723 728.
  13. Rambert S., Landolt D. Anodic dissolutionof binary single phase alloys.- 2. Behaviour of CuPd, NiPd and AgAu in LiCl.// Electrochim. Acta.- 1986.-V.31,№ll.-P. 1433 1441.
  14. Анодное растворение бинарных сплавов в активном состоянии в стационарных условиях/ Пчельников А. П., Ситников А. Д., Полунин A.B., Ску-ратникЯ.Б., Маршаков И. К., Лосев В.В.// Электрохимия.- 1980, — Т. 16, № 4,-С. 474−482.
  15. Н.М., Кондрашин В. Ю., Маршаков И. К. Анодное окисление сплава Ag30Zn в растворе KN03// Защита металлов.- 1988.- Т.24, № 6.- С. 920 924.
  16. И., Дефей Р. Химическая термодинамика.-Новосибирск: Наука, 1966.-508с.
  17. И.Д., Введенский A.B., Маршаков И. К. О превращениях благородной компоненты при селективном растворении гомогенного сплава в активном состоянии// Защита металлов, — 1991, — Т.27, № 1.- С. 3 12.
  18. И.Д., Введенский A.B., Маршаков И. К. Термодинамически неравновесные фазовые превращения при селективном растворении гомогенного сплава в активном состоянии// Защита металлов.- 1991, — Т.27, № 6.-С. 883 891.
  19. И.Д., Введенский A.B., Маршаков И. К. Термодинамика процессов формирования, реорганизации и разрушения неравновесного поверхностного слоя сплава при его селективном растворении// Защита металлов, — 1992, — Т.28, № 3, — С. 355 363.
  20. И.Д., Введенский A.B., Маршаков И. К. О неравновесности поверхностного слоя при анодном растворении гомогенных сплавов// Электрохимия, — 1994, — Т.30, № 4.- С. 544 565.
  21. Pickering H.W., Wagner С. Electrolytic dissolution of binary alloys containing a noble metal// J. Electrochem. Soc.- 1967, — V. l 14, № 7, — P. 698 706.
  22. И.В. Физико-химические процессы в поверхностном слое сплавов системы Ag-Au при селективном окислении серебра.: Дисс.. канд. хим. наук. Воронеж, 1988, — 222 с.
  23. A.B. Термодинамика и кинетика селективного растворения бинарных твердых электролитов. Дисс.. докт. хим. наук. Воронеж, ВГУ, 1994,-В 2 т.
  24. Г. Коррозия металлов. Физико-химические принципы и актуальные проблемы.- М.: Металлургия, 1984.-400 с.
  25. В.Н. Роль неравновесной вакансионной подсистемы в кинетике селективного растворения гомогенных бинарных сплавов. Дисс.. канд. хим. наук, Воронеж, ВГУ, 1994.- 222с.
  26. И.Д., Молодов А. И. Кинетические закономерности быстрой первой стадии ионизации меди// Электрохимия, — 1990, — Т.26, № 9.- С. 1125 -1129.
  27. А.И., Гамбург И. Д., Лосев В. В. Кинетические закономерности быстрой первой стадии ионизации меди из сплава медь-золото// Электрохимия, — 1987, — Т.23, № 4, — С.529−532.
  28. A.B., Маршаков И. К. Взаимовлияние компонентов при анодном растворении сплавов серебра на этапе декристаллизации// Электрохимия, — 1995, — Т.31, № 3, — С. 257 270.
  29. A.B., Маршаков И. К. Начальный этап анодного растворения Си, Аи сплавов в хлоридных и сульфатных растворах// Электрохимия.-1997, — Т. ЗЗ, № 3.- С. 298 — 307.
  30. A.B. Кристаллизационный этап селективного растворения сплавов Ag-Au, Ag-Pd и Cu-Au// Защита металлов, — 1996, — Т.32, № 6,-С.592−597.
  31. A.M., Остапенко Г. И. Механизм анодного растворения серебра в твердом электролите Ag4RbI5. Высокие перенапряжения// Электрохимия, — 1980, — Т. 16, № 3.-С. 379 383.
  32. Mehl W., Bockris J. O'M. On the mechanism of electrolytic deposition and dissolution of silver// Canad. J. Chem.- 1959, — V.37.- P. 190 209.
  33. Schnittler C. Zur Theorie und Auswertung galvanostatischerein und ausschaltvorgange an der metallionen-elektrode// Electrochim. Acta.- 1970, — V.15, № 10.-P. 1699 1710.
  34. Fleischmann M., Thirsk H.R. Anodic electrocrystallization// Electrochim. Acta.- I960, — V.2, № 1.- P. 22 49.
  35. Budevski E.B. Deposition and dissolution of metals and alloys. Part A: Electrocrystallization// Compr. Treatize Electrochem.- N.-York, London, 1983, — P. 399−450.
  36. К. Электрохимическая кинетика.-М.: Химия, 1967.-856 с.
  37. Kaischew R., Budevski E.B. Surface processes in electrocrystallization// Con-temp. Phys.- 1967, — V.8, № 5, — P. 489 516.
  38. Budevski E.B., Bostanov W., Stailcov Q. Electrocrystallization// Ann. Rev. Mater. Sci.- I960, — V.10.- P.85 112.
  39. Ю.М. Электрокристаллизация металлов// Итоги науки. Сер. Физическая химия: Современные проблемы, — 1985, — С. 107 137.
  40. А.И., Полукаров Ю. М. Современные представления о процессах образования и роста зародышей новой фазы в потенциостатических условиях// Успехи химии, — 1987.- Т.56, № 7, — С. 1082 1104.
  41. Pangarov N.A. Calculation of the specific surface energies of crystals planes by investigation the orientation of crystal nuclei on inert substrates// Phys. Stat. Solid.- 1967.-V.20.-P. 365 368.
  42. Zweidimensionale Keimbildung und monoatomaren Schichten an versetzungsfreien (100) Flachen von Silbereinkristallen/ Budevski E., Bostanoff W., Vitanoff Т., Steinoff Z., Kotzeva A., Kaischew R.// Phys. Stat. Solid.-1966.-Bd.19,-S. 577 — 588.
  43. Hills G., Pocer A.K., Schariflcer B. The formation and properties of single nuclei// Electrochim. Acta.- 1983, — V.28, № 7, — P. 891 898.
  44. Электрохимическое поведение бездислокационных граней (100) монокристаллических электродов серебра в растворе азотнокислого серебра/ Витанов Т., Севастьянов Э., Стойнов 3., Будевский ЕЛ Электрохимия.-1969,-Т.5, № 2, — С. 238 242.
  45. А.Н. Электродные процессы: Избранные труды.-М.: Наука, 1987.- 334с.
  46. Киш JT. Кинетика электрохимического растворения металлов, — М.: Мир, 1990, — 272с.
  47. П. Двойной слой и кинетика электродных процессов,— М.: Мир, 1967, — 351с.
  48. .Б., Петрий O.A. Введение в электрохимическую кинетику.-М.:.Высшая школа, 1975.- 416 с. .
  49. Pickering H.W. Volume diffusion during anodic dissolution of a binary alloy// J. Electrochem. Soc.- 1968, — V. l 15, № 2, — P. 143 147.
  50. Pickering H.W. The surface roughening of a Cu, Au alloy during electrolytic dissolution// J. Electrochem. Soc.- 1968, — V. l 15, № 7, — P. 690 — 694.
  51. К. Термодинамика сплавов. М.: ЕосНТИЛЧЦМ, 1957.- 179 с.
  52. Дж. Теория превращений в металлах и сплавах. Часть I. Термодинамика и общая кинетическая теория.- М.: Мир, 1978, — 806 с.
  53. Я.Е. Диффузионная зона,— М.: Наука, 1979.- 343 с.
  54. .С. Диффузия в металлах.- М.: Металлургия, 1978, — 248 с.
  55. Физическое металловедение/ Под ред. Канна Р. У., Хаазена П.Т.- Т.2: Фазовые превращения в металлах и сплавах и сплавы с особыми физическими свойствами.- М.: Металлургия, 1987, — 624 с.
  56. Дж. Кинетика диффузии атомов в кристаллах,— М.: Мир, 1971.227 с.
  57. .Н., Астахов И. И., Киселева И. Е. Внедрение новое направление в изучении кинетики электрохимического выделения и растворения металлов// Кинетика сложных электрохимических процессов.- М.: Наука, 1981.-С. 200 -244.
  58. И.И., Теплицкая Г. Л., Кабанов Б. Н. Электрохимическая инжек-ция вакансий в электроды// Электрохимия, — 1981.- Т.17, № 8, — С. 1174 -1182.
  59. Fischbah H. Lecnstellen injektion in silber wahrend elektrolitische altrags bei honer temperaturen// Z. Metallkunde.- 1980, — Bd.71, № 2, — S. 115 119.
  60. Г. M., Любов Б. Я., Шмаков В. А. Влияние комплексов вакансия -примесь на процессы диффузии// Физика металлов и металловедение.-1979, — Т.48, № 6, — С. 1244 1248.
  61. .С., Копецкий Ч. В., Швиндлерман Л. С. Термодинамика и кинетика границ зерен в металлах.- М.: Металлургия, 1986.- 224 с.
  62. И., Густ В. Диффузия по границам зерен и фаз.- М.: Машиностроение, 1991.-448 с.
  63. Е.В., Введенский A.B. Кинетические особенности начального селективного растворения а-латуни/ Воронеж, гос. ун-т, — Воронеж, 1990.24 е.- Деп. В ОНИИТЭ-Хим, — 1990, — № 351 хп90.
  64. Твердофазная диффузия цинка при селективном растворении а-латуни/ Введенский A.B., Маршаков И. К., Стольников О. Ф., Бобринская Е.В.// Защита металлов, — 1991.- Т.27, № 3.- С.388−394.
  65. Oldham К.В., Raleigh D.O. Modification of the Cottrel equation to account for electrode growth- application to diffusion date in the Ag Au system// J. Elec-trochem. Soc.- 1971,-V.l 18, № 2,-P. 252 — 255.
  66. Wagner C. Theoretical analysis of the diffusion processes determining the oxidation rate of alloys// J. Electrochem. Soc.- 1952, — V.99, № 2, — P. 369 380.
  67. A.B., Стороженко В.H., Маршаков И. К. Селективное растворение при конечной мощности стоков вакансий. Хроноамперометрия// Защита металлов, — 1993, — Т.29, № 5, — С.693 703.
  68. A.B., Маршаков И. К., Стороженко В.FI. Анодное растворение гомогенных сплавов при ограниченной мощности вакансионных стоков. Хроноамперометрия// Электрохимия, — 1994, — Т.30, № 4, — С. 495 -472.
  69. A.B., Стороженко В. Н., Маршаков И. К. Селективное растворение при конечной мощности стоков вакансий. Хронопотенциометрия// Защита металлов, — 1994, — Т.30, № 1, — С. 1−20.
  70. В.В., Пчельников А. П., Маршаков А. И. Особенности электрохимического поведения и селективного растворения сплавов// Электрохимия.-1979.- Т.15, № 6.- С. 837 -942.
  71. И.К., Вязовикина Н. В., Деревенских Л. В. Активность меди на поверхности растворяющейся а-латуни// Защита металлов, — 1979.- Т. 15, № 3,-С. 337 340.
  72. Kaiser Н., Kaesche Н. Mechanismen der selektiven elektrolitische korrosion homogener Legierungen// Werkst. Und Korros.- 1980, — Bd.31, № 5, — S. 347 -353.
  73. Heiderbach R.H., Verink E.D. The dezincification of alpha and beta brasses// Corrosion (USA).- 1972.- V.28, № 11.- P. 394 418.
  74. И.К., Богданов В. П. Механизм избирательной коррозии мед-но-цинковых сплавов// Ж.физ. химии.- 1963, — Т.37, № 12.- С. 2767 2769.
  75. Механизм селективного растворения а-латуней/ Полунин A.B., Позднякова И. К., Пчельников А. П., Лосев В. В., Маршаков И.К.// Электрохимия.-1982, — Т.18, № 16, — С. 792 800.
  76. Механизм саморастворения интерметаллических соединений системы AI Ni/ Алейкина С. М., Маршаков И. К., Фасман А. Б., Варсевюк И.В.// Электрохимия.- 1970.-Т.6, № 11.с. 1648 — 1651.
  77. Hultguist G., Hero Н. Surface enoblement by dissolution of Cu, Ag and Zn from single phase gold alloys// Corros. Sei.- 1984, — V.24, № 9. p. 789 805.
  78. Pickering H.W., Byrne P.J. On preferential anodic dissolution of alloys in the low-current region: the nature of the critical potential// J. Electrochem. Soc.-1971,-V.118, № 2.-P. 209 216.
  79. Swann P.R. Mechanism of corrosion tunneling with special reference to Cu3Au//Corrosion (USA).- 1969,-V.25, № 4,-P. 147 150.
  80. M., Никитина B.K. Электрохимическое поведение сплавов золота с медью//Ж.неорг.химии, — 1957, — Т.2, № 1, — С. 2598 2608.
  81. Tischer R.P., Gerischer IT Elektrolitische Auflosung von Gold Silber -legierungen und die Frage der Resistenzgrenzen// Z. Elektrochem.- 1958.-Bd.62, № 1, — S.50 — 60.
  82. Pickering H.W., Byrne P.J. Partial currents during anodic dissolution of Cu -Zn alloys at constant potential.// J. Electrochem. Soc.- 1969, — V.116, № 11, — P. 1492- 1496.
  83. Gerischer H., Rickert H. Uber das elektrochemische verhaltung von Kupfer -Gold legierungen und den mechanismus der spannungskorrosion// Z. Metallk.-1955.-Bd.46, № 9, — S. 681 — 689.
  84. Forty A.J. Micromorphological studies of the corrosion of gold alloys// Gold. Bull.- 1981.- V.14, № 1, — P. 25 35.
  85. H.B., Маршаков И. К. Некоторые закономерности избирательного растворения сплавов системы Ag-Au// Защита металлов.- 1979.-Т.15,№ 6,-С. 656- 660.
  86. Poate J.M. Diffusion and reaction in gold films// Gold. Bull.- 1980, — V.14, № 1.-P. 2- 11.
  87. Kaesche H. Microtunneling during selective alloy dissolution and during pitting//Werkst und Korros.- 1988.-Bd.39, № 4, — S. 153 161.
  88. Real time scanning tunnelling microscopy of anodic dissolution of copper/ Wu Y.C., Pickering H.W., Geh S., Sakurii T.// Surf. Sci.- 1991, — Y.246, № 1−3, — P. 468 476.
  89. Trasatti S., Petrii O.A. Real surface area measurements in electrochemestry// Pure and Appl. Chem.- 1991, — V.63, № 5.- P.711−734.
  90. Г. Е., Бобринская E.B., Введенский A.B. Измерение фактора шероховатости поверхности Ag, Au сплавов// Защита металлов.- 1998.-Т.31, № 1, — С.11−14.
  91. И.Д., Кондрашин В. Ю., Маршаков И. К. Термодинамические и кинетические предпосылки псевдоселективного растворения латуней// Защита металлов, — 1986, — Т.22, № 4, — С. 528 533.
  92. П., Пригожин И. Термодинамическая теория структуры, устойчивости и флуктуации,— М.: Мир, 1973, — 280 с.
  93. Г., Пригожин И. Самоорганизация в неравновесных системах: от диссипативных структур к упорядоченности через флуктуации, — М.: Мир, 1979, — 512 с.
  94. Haase R. Riogorous derivation of entropy balance for elctrochemical systems// Electrochim. Acta.- 1986, — V.31, № 5, — P. 545−547.
  95. Burstein G.T., Newman R.C. Surface films on corroded binary copper alloys// Appl. Surf. Sci.- 1980, — № 4, — P. 162 173.
  96. Tselepis E., Fortin E. Photovoltaic investigations of anodic films on Cu Ag alloys// Thin Solid Films.- 1988, — V.161.- P.207 — 212.
  97. Durkin P, Forty A.J. Oxide formation during the selective dissolution of silver from silver gold alloys in nitric acid// Philosophical Magazine A.- 1982.-V.45, № l.-P. 95 — 105.
  98. Исследование анодных оксидных пленок на Си Ni сплавах/ Камкин А. Н., Давыдов А. Д., Цзу-Еу Дин, Маричев В.А.// Электрохимия, — 1999.-Т.35, № 5.-С. 587 — 596.
  99. Blundy R.G., Pryor M.J. The potential dependence of reaction product composition on copper nikel alloys// Corros. Sci.- 1972, — V. 12, № 1, — P. 65 — 75.
  100. Влияние пленки анодных продуктов на растворение сплавов и его инги-бирование/ Экилик В. В., Февралева В. А., Озерова И. Е., Скворцова И.Ю.// Электрохимия, — 1996, — Т.32, № 9, — С. 1052 1060.
  101. Macdonald D.D., Ben-Haim М., Pallix J. Segregation of alloying elements into passive films//J.Electrochem. Soc. 1989, — V. 136, № 11,-P.3269−3273.
  102. И.В., Кирьякова Г. З., Дунаев Ю. Д. Коррозия сплавов свинца с щелочными металлами// Защита металлов, — 1973.- Т.9, № 3, — С. 332−334.
  103. И.Л., Ломакина С. В., Ольховников ГО.П. Влияние легирующих элементов на защитные свойства пленок, образующихся на алюминиевых сплавах при коррозии в высокотемпературной воде// Защита металлов, — 1973, — Т.9, № 3, — С. 338 341.
  104. Расчет скорости атмосферной коррозии алюминия и его сплавов в различных климатических зонах по метеорологическим параметрам/ Михайловский Ю. Н., Кларк Г. Б., Шувахина Л. А., Агафонов В. В., Журавлева Н.И.// Защита металлов, — 1973, — Т.9, № 3, — С. 264 269.
  105. Коррозия меди и ее сплавов в геотермальных водах/ Аскользин П. А., Цхвирашвили Д. Г., Вардиогорели О.III.// Защита металлов, — Т.9, № 1.- С. 63 66.
  106. Справочник химика/ Под ред. Никольского Б. П. Т.З.- М., Л.: Химия, 1964, — 1005 с.
  107. Pourbaix M. Some applications of potential pH diagrams to the study of localized corrosion.// J. Electrochem. Soc.- 1976, — V. 123, № 2, — P. 25 — 36.
  108. Etude thermodynamique et cinetique du cuivre dans des solutions acides de chlorures./ Moreau A., Frayret J.-P., Roland J.-M., Quillard X.// Metaux.-1976, — V. 51, № 614, — p. 349 358.
  109. Hampson N.A., Lee J.B., Mac Donald K.J. Oxidations at copper electrodes. Part 2. A study of polycrystalline copper in alkaline by linear sweep voltamme-try// J. Electroanal. Chem.- 1971, — V.32, № 2, — P. 165 173.
  110. Ambrose J., Barradas R.G., Shoesmith D.W. Rotating copper disk electrode studies of the mechanism of the dissolution passivation step on copper in alkaline solutions// J. Electroanal. Chem.- 1973.- V.47, № 1.- P. 65 — 80.
  111. А.Г., Астафьев M.Г., Розенфельд И. Л. Об окислении медного электрода в нейтральных и щелочных растворах// Электрохимия, — 1977.-Т.13, № 10,-С.1493−1497.
  112. Collise V., Strehblow Н.Н. A photoelectrochemical study of passive copper in alkaline solutions// J.Electroanal. Chem.- 1986, — V.210, № 2, — P.213−227.
  113. Strehblow H.H., Titze B. The investigation of the passive behaviour of copper in weakly acid and alkaline solutions and the examination of the passive film by esca and issll J.Electrochim.Acta.- 1980, — V.25, № 6, — P.839−850.
  114. Abd El Halem S.M., Ateya B.G. Cyclic voltammetry of copper in sodium hydroxide solutions// J.Electroanal. Chem.- 1981.- V. 117, № 2, — P.309−319.
  115. Chialvo M.R.G., Marchiano S.L., Arvia A.J. The mechanism of oxidation of copper in alkaline solutions// J. Appl. Electrochem.- 1984, — V.14, № 2.- P. 165 -175.
  116. Castro Luna de Medina A.M., Marchiano S.L., Arvia A.J. The potentiody-namic behavior of copper in NaOH solutions// J. Appl. Electrochem.- 1978.-V.8, № 2.- P. 121 134.
  117. Castro Luna de Medina A.M., Marchiano S.L., Arvia A.J. The electrochemical formation and cathodic dissolution of a thin cuprous oxide film on copper in aqueous alkaline solutions// J. Electroanal. Chem.- 1975, — V.59, № 3.- P. 335 -338.
  118. Kautek W., Gordon J.G. XPS studies of anodic surface films on copper electrodes//J. Electrochem. Soc.- 1990, — V.137, № 9, — P.2672−2677.
  119. Anodic oxidation of copper in alkaline solutions. I. Nucleation and growth of cupric hydroxide films/ Shoesmith D.W., Rummery Т.Е., Owen D., Lee W./ J. Electrochem. Soc.- 1976.- V.123, № 6, — P.790−799.
  120. Burke L.D., Ahern M.J.G., Ryan T.G. An investigation of the anodic behavior of copper and its anodically produced oxides in aqueous solutions of high pH//J. Electrochem. Soc.- 1990,-V. 137, № 2,-P. 553 561.
  121. Dignam M.J., Gibbs D.B. Anodic oxidations of copper in alkaline solution// Can.J.Chem.- 1970, — № 48, — P. 1242−1250.
  122. Справочник по электрохимии/ Под ред. A.M. Сухотина Л., Химия, 1981, — 140 с.
  123. Т., Imanaka Y., Yamashita М. Анодное поведение меди в щелочных растворах. Ч. 1. Изучение механизма образования пассивной пленки с помощью ВДЭ и эллипсометрического метода// Boshoku gijutsu., Corros. Eng.- 1975.- V.24, № 3, — P. 117 122.
  124. Halliday J.S. Anodic behavior of copper in caustic sodium solutions// Trans. Farad. Soc.- 1954, — V.50, № 3, — P. 171 178.
  125. Shams E.L., Din A.M., Abd El Wahab F.M. Behavior of the Cu electrode in alkaline solutions on alternate anodic and cathodic polarization// Electrochim.- Acta.-1964, — V.9,№ 1,-P. 113−121.
  126. Kruger J. The oxide films formed on copper single crystal surface in pure water. I. Nature of films formed at room temperature// J. Electrochem. Soc.-1959.- V.106, № 10.- P. 847 853.
  127. Miller B. Split ring study of the anodic processes at a copper electrode in alkaline solution//J. Electrochem. Soc.- 1969, — V.116, № 12, — P. 1675 — 1680.
  128. Физико-химические свойства окислов/ Под ред. Г. В.Самсонова-М.: Металлургия, 1969,-455с.
  129. В.Б., Красов В. Г., Шаплыгип И. С. Электропроводность окисных систем и пленочных структур.- М.: Наука, 1979, — 168с.
  130. П.А., Кушнир Я. И., Перелыгин А. В. Температурная зависимость электропроводности и эффекта Холла в закиси меди // Изв. АН СССР. Сер.: Физическая, — 1964, — Т.28, № 8, — С. 1328 1330.
  131. Э.А., Тазенков Б. А. Влияние температуры и давления кислорода на электропроводность закиси меди// Изв. АН СССР. Сер.: Неорг. материалы, — 1969, — Т.5, № 5, — С. 858 863.
  132. В.П., Курчатов Б. В. К вопросу об электропроводности закиси меди// Ж. эксперим. и теорет. физики.- 1932.- Т.2, № 5−6.- С. 309 317.
  133. Gomes Beccera J., Salvarezza R.C., Arvia A.J. The influence of slow Cu (OH)2 phase formation on the electrochemical behavior of copper in alkaline solutions//Electrochem. Acta.- 1988, — V.33, № 5, — P. 613 621.
  134. Chialvo M.R.G., Salvarezza R.C., Vasquez Moll D., Arvia A.J. Kinetics of passivation and pitting corrosion of polycrystalline copper in borate buffer solutions containing sodium chloride// Electrochim. Acta.- 1985, — V.30, № 11, — P. 1501 1511.
  135. Conway B.E., Bokris J. O'M. The mechanism of electrolytic metal depositions// Proc. Roy. Soc.- 1958, — V.248, № 1254, — P. 394 403.
  136. Maltson E., Bokris J. O’M. Galvanostatic studies of the kinetics of deposition and dissolution in the copper + copper sulphate system// Trans. Farad. Soc.- 1959, — V.55, № 441, — P. 1586 1601.
  137. В.В. Механизм стадийных электродных процессов на амальгамах// Электрохимия, — М., 1971, — С. 65 164.- (Итоги науки и техники/ ВИНИТИ. Сер. Электрохимия- Т.6)
  138. А.И., Маркосьян Г. Н., Лосев В. В. Определение кинетических параметров стадийных электродных процессов с помощью индикаторного электрода. Медный электрод// Электрохимия, — 1971, — Т.7, № 2, — С. 263 -267.
  139. А.И., Лосев В. В. Закономерности образования низковалентных промежуточных частиц при стадийном электродном процессе разряда -ионизации металла// Электрохимия, — М., 1971, — С. 65 ИЗ, — (Итоги науки и техники/ВИНИТИ. Сер. Электрохимия- т. 7)
  140. Л.Ф. Электроосаждение и растворение многовалентных металлов, — Киев: Наукова думка, 1989, — 464 с.
  141. Galesio R., Guitton J. Electro affmage cle cuirve: influence desions chlorare sur la cineyique de la reaction anodique// Electrodep. And Surf. Treatment.-1975,-№ 3.-P. 45 — 53.
  142. В.И., Цыганкова Л. Е., Шарифулина И. И. Анодное поведение меди в кислых метанольных растворах// Ж. прикл. химии, — 1976.-Т.69, № 11.-С. 2417 -2420.
  143. Walton М.Е., Brook P.A. The dissolution of Cu Ni alloys in hydrochloric acid.- 1. Rotating disc electrode measurements// Corros. Sci.- 1977.- V.17, № 4,-P. 317 — 328.
  144. Анодное окисление меди, серебра и свинца в растворах хлоридов/ Алтухов В. К., Воронцов Е. С., Маршаков И. К., Клепинина Т.Н.// Защита металлов.- 1978, — Т. 14, № 4, — С. 477 480.
  145. Brown М., Nobe К. Electrodissolution kinetics of copper in acidic chloride solutions//J. Electrochem. Soc.- 1979,-V. 126, № 10,-P. 1666 1671.
  146. В.Ф., Хранилов Ю. П., Мерзлякова Л. А. О механизме катодного восстановления хлоридных комплексов меди (I)// Электрохимия.-1977, — Т. 13, № 9.- С. 1380 1383.
  147. Влияние концентрации хлорид ионов на кинетику анодного растворения меди/ Алтухов В. К., Маршаков И. К., Воронцов Е. С., Емельянов Д.Е.// Изв. вузов. Химия и химическая технология, — 1972, — Т. 15, № П.- С. 1752 -1754.
  148. Sugawara Н., Schimodaira S. The formation of anodic films on Cu in 3% NaCl solutions// J.JapJnst.of Metals.- 1966.- V.30, № 7, — P.631−635.
  149. Kiss L., Farkas J., Korosi A. Untersuchung der Ionisation von Metallen und der Metallionenneutralisation mit der rotierenden Ring-Scheibenelectrode// Acta chim. Acad. sci. hung.- 1971, — V.67, № 2, — P. 179 187.
  150. A.H., Теодорадзе Г. А. Кинетика ионизации молекулярного хлора//Докл. АН СССР.- 1958,-Т.118, № 3, — С. 530 533.
  151. Ю.В., Филиновский В. Ю. Вращающийся дисковый электрод.-М.: Наука, 1972.- 344 с.
  152. Brossard L. Dissolution of copper chloride in concentrated LiCl solutions// J.Electrochem.Soc.- 1983.- V. l 30, № 5.- P. 1109−1111.
  153. Bonfiglio S.I., Albaya H.C., Cobo O.A. The kinetics of the anodic dissolution of copper in acid chloride solutions// Corros. Sci.- 1973, — V.13, № 10, — P. 717 724.
  154. Just G., Lundsberg R. Anodic behavior of Au and Cu in HC1// Electrochim. Acta.- 1964, — V.9, № 6, — P. 817−826.
  155. Юнь A.A., Мурашова И. В., Полюсов А. В. Изучение природы анодной пассивности меди// Электрохимия, — 1973, — Т.9, № 4, — С. 465 469.
  156. A study by voltammetry and the photocurrent response method of copper electrode behavior in acidic and alkaline solutions containing chloride ions/ Modestov A.D., Zhou Guo-Ding, Ge Hong-Hua, Loo B.H.// J.Electroanal.Chem.-1995.-V.380.- P.63−68.
  157. Томашов IT Д. Исследование коррозии сплавов-и разработка научных принципов коррозионного легирования// Коррозия и защита от коррозии.-М., 1971.- С. 9 64.- (Итоги науки и техники/ВИНИТИ. Сер. Коррозия и защита от коррозии)
  158. И.К., Богданов В. П. Коррозионное и электрохимическое поведение сплавов системы медь цинк. 2. Анодное поведение медно-цинковых сплавов//Ж. физ. химии, — 1964, — Т.38, № 8, — С. 1909 — 1914.
  159. B.C., Ткачев В. В., Ковалевский В. П. Физико-химическое состояние поверхностного слоя меди при анодном растворении// Электрохимия, — 1988.- Т.24, № 11,-С. 1546- 1548.
  160. Ю.В., Завальская А. В. О взаимодействии монохлорида меди с водой// Ж. неорг. химии, — 1972, — Т.17, № 2, — С. 302−305.
  161. Characterization of reaction layers on copper surface formed in aqueous chloride and sulphate ion containing electrolytes/ Siedlarek H., Fubinger В., Hanbel •I., Fisher W.R.// Werkst. und Korros.(DF).- 1994, — V.45, № 12, — P. 654 662.
  162. Brossard L. Potentiodynamic investigation of copper in LiCl solutions// Corrosion (USA).- 1984, — V.40, № 8, — P. 420−425.
  163. И.В. Электродные процессы в твердых телах,— М.: Наука, 1991, — 350с.
  164. Л.Г., Кировская И. А., Лобанова Г. Л. К вопросу о типе проводимости галогенидов меди// Тр. Томского ун-та.- 1971.- Т.204, № 5−6,С.З -9.
  165. Birss V.I., Wright G.A. The kinetics of silver bromide film formation on the silver anode//J. Electrochim. Acta.- 1982, — V.27, № 10, — P.1429−1438.
  166. Birss V.I., Smith C.K. The anodic behavior of silver in chloride solutions.-I. The formation and reduction of thin silver chloride films// J. Electrochim. Acta.-1987. V.32, № 2.- P.259 — 268.
  167. П. Кинетика гетерогенных процессов. M.: Мир, 1976, — 399 с.
  168. . Кинетика гетерогенных реакций. М.: Мир, 1972, — 554 с.
  169. М. Кинетика образования новой фазы.- М.: Наука, 1986, — 204 с.
  170. Fleishmann M., Lax D.J., Thirsk 11. R Electrochemical studies of the Ag20/Ag phase change in alkaline solutions// Trans. Farad. Soc.-1968.- V.64, № 11.- P.3137−3146.
  171. P.Д. Диффузионные фазовые превращения в твердом теле// В кн.: Физическое металловедение. М.: Металлургия, 1987.- Т.2.- С. 276 -365.
  172. Bosco Е., Rangarajan S.К. Some adsorption-nucleation-based models for electrochemical phase formation// J.Electrochem.Soc.- 1980, — V.127, № 8.- P 380 381.
  173. Barradas R.G., Bosco E. Models of two-dimensional electrocrystallization with coupling diffusion and/or dissolution// Electrochim. Acta.- 1986.- V.31, № 8.- P.949−963.
  174. Scharifker В., Hills G. Theoretical and experimental studies of multiple nu-cleation// J. Electrochim. Acta.-1983.-V.28, № 7, — P.879 889.
  175. Fleishmann M., Lax D.J., Thirsk H. R Kinetic studies of electrochemical formation of argentous oxide// Trans. Farad. Soc.-1968.-V.64, № 11.- P.3128 -3136.
  176. Armstrong R.D., Harrison J.A. Two-dimensional nucleation in electrocrystallization// J.Electrochem.Soc.- 1969.- V. l 16, № 3.- P.328 33 1.
  177. Birss V.I., Wright G.A.. The kinetics of the anodic formation and reduction of phase silver sulfide film on silver in aqueous sulfide solutions // J. Electrochim. Acta.-1981.- V.26, № 12. P.1809−1817.
  178. Birss V.I., Wright G.A.. The kinetics of silver iodide film formation on the silver anode// J. Electrochim. Acta.-1982.- V.27, № 10. P.1439−1443.
Заполнить форму текущей работой

Пора сдавать?