Разработка конструкции и технологии микрополосковых плат для бесфлюсовой сборки ГИС СВЧ с высокой воспроизводимостью параметров и надежностью изделий
Диссертация
Разработан маршрут и весь комплекс входящих в него технологических процессов, обеспечивающих формирование разработанной микрополосковой структуры. Маршрут основан на изготовлении с гальваническим наращиванием функциональных слоев посредством технологических проводников и последующим их удалением методом фотолитографии и позволяет реализовать МПП любой конструктивной сложности, что делает… Читать ещё >
Содержание
- Список используемых сокращений
- 1. Состояние разработки послойной структуры полосковых проводников ГИС СВЧ
- 1. 1. Надежность ГИС СВЧ и перспективность применения бесфлюсовой сборки для её повышения
- 1. 2. Проблемы сборки и перспективы оптимизации структуры металлизации МПП
- 1. 3. Анализ многослойных структур металлизации МПП ГИС СВЧ
- 1. 4. Диффузионное взаимодействие в металлических слоях МПП
- 1. 5. Затухание энергии в проводниках МПП
- 1. 6. Наиболее распространенные технологические маршруты изготовления МПП ГИС СВЧ
- 1. 7. Основные задачи диссертационной работы
- 1. 8. Выводы
- 2. Исследование коэффициента затухания в многослойных микрополосковых структурах
- 2. 1. Результаты экспериментальных измерений коэффициента затухания
- 2. 2. Исследование влияния толщины покрытий на величину коэффициента затухания
- 2. 3. Результаты измерений коэффициента затухания в полосковых линиях с различным микропрофилем
- 2. 4. Выводы
- 3. Разработка послойной структуры для бесфлюсовой сборки ГИС СВЧ
- 3. 1. Исследование диффузионных процессов и элементного состава поверхности в системе: Сгвак — Сив
- -вак
- Сигальв ¦ Niraj) bB — Аигальв
- 3. 2. Исследование температурно-временного интервала стабильности системы Сгва/Сивак/Си^ьв/Ы^ь^Аигзльв и системы TiBaK/PdBaK/AuranbB
- 3. 3. Влияние диффузионных процессов на свойства микрополосковых структур
- 3. 4. Исследование растворимости покрытий при пайке микроплат на основания
- 3. 5. Послойная структура МПП для бесфлюсовой сборки ГИС СВЧ
- 3. 6. Выводы
- 4. Разработка технологии изготовления МПП с послойной структурой металлизации для бесфлюсовой сборки ГИС СВЧ
- 4. 1. Разработка маршрута и технологических процессов формирования послойной микрополосковой структуры для бесфлюсовой сборки ГИС СВЧ
- 4. 2. Исследование влияния отжигов МПП на локальное расслаивание покрытий
- 4. 3. Выводы
- 5. Перспективные направления повышения надежности и воспроизводимости параметров ГИС СВЧ
- 5. 1. Формирование топологии многокаскадных СВЧ МПП на единой подложке
- 5. 2. Технология изготовления высоконадежных металлизированных отверстий
- 5. 3. Технология изготовления МПП с тонкопленочными конденсаторами
- 5. 4. Технология изготовления внутрисхемных соединений через воздушный зазор
- 5. 5. Технология изготовления СВЧ ГИП с планарным монтажом активных элементов
- 5. 6. Выводы
- 6. Исследование надежности ГИС СВЧ
- 6. 1. Исследование надежности микрополосковых плат, сформированных по разработанной технологии
Список литературы
- Karpel S. Vapour phase soldering a versatile technique. Tin and Uses. 1986. — № 150p.14−17.
- Avremeseu S., Down W. H/ Improved wave soldering. Can. Electron Eng. 1986. Vol. 30, № 9, p. 32−33.
- Патент Японии, № 60−95 460,1986.
- Патент Японии, № 59−212 167, 1984.
- Справочник по пайке / Под ред. И. Е. Петрунина 2-ое изд., перераб. и доп. — М.- Машиностроение- 1984 — 400 с.
- Самаркин Ю.Д., Сурменко Л. А. Лазерная пайка в производстве изделий электронной техники / Обзор по электронной технике- Сер. 7. Технология, организация производства и оборудование. М.- ЦНИИ «Электроника», 1986. — Вып. 31 (1169). — 68 с.
- Nowotarski М., Tarrytown D., «Nitrogen Based Fluxless Soldering», / Surfase mount technology /, October, 1990 p. p 50−53.
- Отмахова Н.Г. Повышение надежности ВЧ и СВЧ микросборок в процессе их производства / Обзор по электронной технике. Сер. 7. Технология, организация производства и оборудование. М.- ЦНИИ «Электроника», 1987. — вып. 7 (1280). — 54 с.
- Влага в корпусах полупроводниковых приборов и микросхем- Обзоры по электронной технике. Сер. Полупроводниковые приборы / Коваленко А. А., Теверовский А. А., Епифанов Г. И. М. ЦНИИ «Электроника», — 1982. — Вып. 2 (858). — с. 64.
- Исследование выделения газообразных продуктов из образцов, паяных с флюсами и без флюсов / Отмахова Н. Г., Цыкин А. А., Бейль В. И. и др. // Электронная техника. Сер. 1. Электроника СВЧ. 1985. -Вып 5 (377). — С. 49 — 52.
- Котельников Д. И., Задорожный Ю. Г., Логинова 3. С. / Ультразвуковая пайка низкотемпературными припоями пьезокерамики ЦТС 19 // Сварочное производство. -1986, с. 10 — И.
- Бейль В. И., Крахмальник Ф. И., Отмахова Н. Г. / Влияние НЧ колебаний на структуру и свойства паяных соединений при низкотемпературной пайке без применения флюсов. // Электронная техника. Сер. 1. Электроника СВЧ. 1982. — Вып. 9 (345). — С. 57−60.
- Худяков А. Н. Зенин В. В., Тхостов М. X. Пайка экранной поверхности СВЧ — микрополосковых плат на металлические основания // Производственно-технический опыт. ЦНТИ. — 1990. — № 5. — С. 53 — 57.
- Самаркин Ю. Д., Сурменко Л. А. Лазерная пайка в производстве изделий электронной техники: Обзор по электронной технике: Сер. 7, Технология, организация производства и оборудование. М.: ЦНИИ «Электроника», 1986, вып. 3 (1169). — 68 с.
- Бесфлюсовая пайка чип-конденсаторов на микрополосковые платы СВЧ устройств / Бейль В. И., Крохмальник Ф. И. Отмахова Н. Г. и др. // Электронная техника. Сер. Электроника СВЧ. — 1986.-Вып. 7 (391). — С. 62−65.
- Laman Zerry. For growing thick and thin hybrid market films battle. // Electronics, 1986- 59, № 27 — p. p 88 — 92.
- Породников В. П., Эфрос В. Я. Исследование деградационных процессов и отказов с ТТМ СВЧ при воздействии повышенной температуры среды и циклических тепловых нагрузок // Техн. отчет № 90−8628 по теме А-1655 НИР «Эталон 1», НПО «Исток», 1990.
- Микроэлектронная аппаратура на бескорпусных интегральных микросхемах. / Важе-нин И. Н., Блинов Г. А., Коледов А. А. и др. М.: Радио и связь. — 1985.
- Породников В. П. Исследование деградационных процессов и отказов в ТТМ СВЧ при воздействии тепловых нагрузок // Научно-техн. отчет № 168−8500 по теме 2750 «Эталон», НПО «Исток», 1989.
- Баранов И. А. Исследование и разработка методов диагностики качества твердотельных модулей СВЧ с целью повышения производственной и эксплуатационной надежности // Научно-техн. отчет № 296−8322 по теме 7270 «Прогресс-1», НПО «Исток», 1988.
- Шиханов В. Ф. Исследование бесфлюсовой пайки элементов и узлов СВЧ модулей низкотемпературными припоями в плазме высокочастотного разряда// Техн. отчет по теме 7780 № 40−8076 шифр «Орхон», НПО «Исток», 1988.
- Рассошинский А. А. Сварка-пайка полупроводниковых кристаллов кремния с металлическими проводниками // Автоматическая сварка 1969. — № 2. — с. 73 — 74.
- Пятышев В. И., Розов В. В., Филоненко В. А., Янская М. С. Структура и свойства эвтектического золотокремниевого припоя // Электронная техника. Сер. 2. Полупроводниковые приборы. 1970. — Вып. 1 (51). — С. 89 -95.
- Кукушкин Б. М., Креймерман Г. И., Хозиков B.C., Болгов И. С. Влияние диффузии элементов ковара на свойства золотого припойного покрытия // Электронная техника. Сер. 6. Материалы. 1975. — Вып. 5 (86). — С. 9 — 13.
- Влияние толщины электролитических сплавов золота и никеля на прочность и надежность внешних выводов, присоединяющихся с применением термокомпрессии // Экспресс-информация «Электроника», 1977. № 42.
- Richards P.L. Mc Cann W. H. Low temperature diffusion in polycrystalline thin-film gold-nickel couples // Vacuum Science and Technology. 1969 — Y6. № 4. — p. 644 — 677.
- G.H. Mangin, S. Mc. Clelland. Surfase mount technology IFS (publications) Ltd, uk Springer-Verlag, 1987 p. 267.
- Дударчик А. И. Ю., Мужиченко О. Г., Урецкая М. А. Влияние металлических примесей в локальных золотых осадках носителей интегральных микросхем на качество термокомпрессионных соединений // Электронная техника. Сер. 7. — 1990. — Вып. 3 (160). — С.9 -11.
- Reichenecker W. Y. Termal Expantion of the copper Tin Intermetallic compaund Cu6Sn5 «Insulation Cercuits» — 1981 — № 11 p. 109 — 111.
- Mattox D. M. Thin Solid Films 1972, — v. 18, p. 173 — 186.
- Holloway P.H. Gold Chromium metalizations for Electronic Devices. «Solid State Technology», 1980 — № 2. 109 — 115.
- English U.T., Turner P. A. «J. Electron Mater». 1972 — v. 1 — P. 1 — 9.
- Бушминский О. П., Морозов Г. В. Технология гибридных интегральных схем — М. Высшая школа, 1980. 288 с.
- Готра 3. Ю., Войтехов А. Н., Хромяк И. Я. Резистивные материалы для низкоомных тонкопленочных резисторов интегральных схем Электронная техника. — 1984. — № 2. — С. 47 — 80.
- Николаев М. В., Франк Г. А., Достанко А. П. Резисторные микросхемы для информационно-измерительной радиоэлектронной аппаратуры // Измерительная техника. -1984. № 8.-с. 54 -55.
- Мартюшев К. И. Проблемы резистивного материаловедения / Обзоры по электронной технике: М., 1985 вып. 2. Сер. Радиодетали и радиокомпоненты.
- Прецизионные тонкопленочные резисторы на основе рения / Васильев Ю. П., Анд-рощук А. Ф., Никитин М. Н. и др. // Электронная техника. Вып. 3, Сер. Материалы. — 1973.
- Тонкие пленки. Взаимная диффузия и реакции. / Под ред. Дж. Поута, К.Ту. Дж. Мей-ера. М.: Мир, — 1982. — 576 с.
- Chin An — Chang. Interactions between Au, Cu across a Ni barriers layer. «J. Appl. Phys." — 1986-v. 60 № 31.
- Pitter J., Vrabell W., Masarik W., Sab M. Die Kupbirdifusion in Goldiibertuge bnihokum temperration. // Metalloberlache. 1979. v. 33. № 20. — p. 415 — 419.
- Pinnel M. K., Bennet J.E. Observation on interdiffusion in planar copper (tin nickel) gold tricouples. // Met. Hans. — 1980. — № 4. p.587 -595.
- Turn J., Owen. Metallic diffusin barriers for copper. // Electrodes Gold Sistem Plating. -1974. v. 61.-№ 11. p. 1015−1018.
- Шанк Ф. А. Структуры двойных сплавов M. Металлургия, 1973. — 760 с.
- Barez A., Turos A., Wielunski L. Ion beam Surfase Zayer Analysis. Eds. O. Meyer, G. Zinker, F. Kappeler. New York. Plenum Press, 1976 p. 407.
- Munitz A., Kamen T.//Thin Solid Films. 1973.-№ 37. p. 171.
- Holloway P., Amos D. E., Nelson G. E. Analysis of grain boundary diffusion in thin films. Journ. Appl. Phys. — 1976. — v. 47. — p. 3769 — 3775.
- Хансен M., Андерко К. Структуры двойных сплавов Т. I. М.: Гос. научно-техн. изд. по черной и цветной металлургии. — 1962. — 608 с.
- Pan I. D., Balluff R. W. Diffusion indused grain foundary migration in Au/Cu and Au/Ag thin films // Acta metall. 1982. — v. 30 — № 2 — p. 176.
- Wagendrigtel A., Schatlosheider P., Bangert H. Diffraction Profiles of Thin Films Diffusion Couples. //Appl. Phys. v. 26. 1981. — p. 247 — 253.
- Campisano S. U., Foti G., Crasso F., Rimini E. //Thin Solid Films. 1975 vol. 25. — p. 431.
- Fisher J. C. // J. Appl. Phys. 1951. v. 22. p. 74.
- Wagendristel A. // Thin Solid Films // 1975 — vol. 28. — p. 337.
- Heumann J. // J. Nucl. Mater. 1978 — v. 69 — 70, № 1 — 2. p. 567 — 570.
- Lefakis H., Cain T. F., Ho P. S. Low temperature interdiffusion in Cu/Ni thin films. // Thin Solid Films. 1983-v. 101 -p. 207 -218.
- К вопросу о параметрах объемной и граничной диффузии в системе медь никель / Криштал М. А., Щербаков JI. Н., Искров А. П., Макарова Н. А. // ФММ. — 1970. — Т. 29, № 2.-с. 305−307.
- Сидоренко С.И. Диффузионное формирование структуры и физические свойства металлических вакуумных конденсатов сложного состава // Автореферат докторской дисс.-КПИ, 1987.-20 с.
- Яременко Н. Н. Структура, свойства и применение тонкопленочных систем Pt Ni, Mo-Au, Со — Au, Ti, Mo на кремнии // Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук — КПИ, Киев. 1988, 16 с.
- Мирский JI. М. Процессы диффузии в сплавах Оборонгиз — 1959. — 122 с.
- Hedgecock W. Е., Baylis В. К. W. // J. Electrochem. Soc. 1980 — v. 127. — № 5. — p. 1124- 1128.
- Liegler J. F., Baglin J. E. E., Gangulee A. // Appl. Phys. Lett. 1974. v. 24. p. 36.
- Gangulee A. // J. Appl. Phys. Suppl. 2 Pt. I — 1974 — p. 621.
- Barcz A. et al // Ion beam surface layer analysis № 7 — 1976. — p. 407.
- Swartz W. E., Linn J. H. et al // An X-ray photoelectron spectroscopy study of the diffusion of iron nickel and cobalt through gold Films // Thin Solid Films. 1984 v. 114- № 4 — p. 349 — 356.
- Belt T. G. et al. The diffusion of platinum and gold in nickel measured by Rutherford back-sattering spectrometry. // Thin Solid Films. 1973. v. 109. — № 1. — p. 1 — 10.
- Nenadovic T. Contribution of grain boundary diffusion to the edge-to-edge interdiffusion layers of evaporated and sputtered thin films. // Thin Solid Films. 1976. v. 34. — p. 175 -178.
- Chang C. A. Interactions between Au Cu across a Ni barrier layer // J. Appl. Phys. -1986.-v. 60,№ 3.-p. 204.
- Ерусалимчик И. Т., Верников М. А. Влияние свойств гальванических осадков золота на качество микросварных соединений // Электронная техника. Сер. Полупроводниковые приборы. 1978. — Вып. 3. С. 107.
- Справочник по расчету и конструированию СВЧ полосковых устройств / Бахарев С. И., Вольман В. И., Либ Ю. М. и др. Под ред. В. И. Вольмана — М.: Радио и связь. -1982.-382 с.
- Pucel R. A., Masse P. J., Hartwing С. P. Loses in microstrip // IEEE Trans. 1968. — vol. MTT- 16, № 6,№ 12-p. 341 -350- 1064.
- Аппроксимация затухания в проводниках микрополосковой и ленточной линии передачи // Электронная техника. Сер. 1, Электроника СВЧ. 1980. Вып. 9 (321). — С. 58 -59.
- Калина В. Г. Расчет ленточной линии передачи. // Электронная техника. Сер. 1, Электроника СВЧ, 1979. — Вып. 2. — С. 45 — 54.
- Wheller Н. A. Formulas for shin-effect // proc. IRE 1942 — v. 30 — № 9. — p. 412 — 424.
- Выморков H. В., Климачев И. И., Ковтунов 3. Д., Силин Р. А. Влияние формы проводника полосковой линии на коэффициент затухания // Электронная техника, сер. Электроника СВЧ, 1988. Вып. 4 (408). С. 6 — 9.
- Яремчук Б. Г., Климачев И. И. и др. Разработка унифицированной технологии изготовления пассивной части ВЧ и СВЧ ГИС. Создание СТП // Техн. отчет № 170 7675, шифр «Сегмент — 7 Т — 2», 1986.
- Климачев И. И. Разработка и совершенствование базовой технологии изготовления микрополосковых плат повышенной сложности для высоконадежных СВЧ модулей, обеспечивающей повышение выхода годных от 40% до 60% // техн. отчет № 157 — 8193 шифр «Ока», 1988.
- Oxley Т. Н. Review of some microwave integrated circuit components utilizing microstrip techniques. // The Radio and Electronic Engineer. vol. 48, № 1 / 2, — p. 4 — 5.
- Каултон M. Пленочная технология и СВЧ интегральные схемы. Технология толстых и тонких пленок. Под ред. А. Рейсмана, К. Роуза. М.: — 1972. — С. 130.
- Климачев И. И., Потапов Н. В. Способ изготовления микросхем. Авт. свидетельство № 1 228 770 (СССР) М. пл. Н 05КЗ/08,1982.
- Русаков В. Н. Разработка технологии и организация высокопроизводительного участка (мощность 30 тыс. шт. в год) по выпуску НЧ и СВЧ ГИС с целью снижения трудоемкости их изготовления примерно в 1,5.2 раза//Техн. отчет № 155−7080, 1984.
- Бешевский В. П. Белоус М. В. и др. Электрофизические свойства и фазовый состав тонких пленок тантала, полученных катодным распылением // Физика металлов.1987. Вып. 3.-С. 564−570.
- Аванесян Р. Р. Резистивные свойства аморфных материалов / Обзор по электронике. М.: ЦНИИ «Электроника». Сер. 5. 1984. — Вып. 6. — 56 с.
- Фишер Дж. Холл А. Материалы контактов для тонкопленочных резисторов / Сб: Технология толстых и тонких пленок. М.: Мир, 1972. — С. 46.
- Использование резистивных пленок на основе тантала и его соединений с азотом в технологии ГИС // В. Е. Косенко, А. И. Крикунов, Б. Г. Яремчук // Электронная техника. Сер. Электроника СВЧ. 1989. — Вып. 1 (415). — С. 55 — 57.
- Byeon S. G., Treng J. Improved Oxide Properties by Anodization of Aluminum Oxide Film with Thim Sputted Aluminum Overlays/ // Journal of the Electrochemical society.1988. vol. 135, — № 10, — p. 2452 — 2458.
- Патент США № 4 930 044 Кл. МКИ HOIG4/06, май, 29, 1990.
- CH’EN P. R., Deeker D. R., Petersen W. C., Gupta A. K. MMIC Linear Amplifiers Design and Fabrication Techniques. // Microwave Journal. 1981 — vol. 24 № 3, — p. 39 — 50.
- Блинов Г. А., Грушевский A. M. Многоуровневая коммутация функциональных устройств микроэлектронной аппаратуры / Обзоры по электронной технике, серия 10, Микроэлектронные устройства. М.: ЦНИИ «Электроника». — Вып. 1 (697). С. 21 — 22.
- Lerude D. Gary. Monolithic microwave JCS Move inty production ATJ // Electronics. -1987-vol. 6-p. 89−91.
- Исмаилов Ф. M., Силин P. А. Анализ устройств на основе многополосковых линий передачи //Техн. отчет № 183−7688, НПО «Исток», 1986.
- Боков Ю. С., Корсаков В. С. и др. Введение в фотолитографию // Под ред. В. П. Лав-рищева М.: Энергия, 1977. — С. 294 — 295.
- Fahol A., Worbey W. Methods for the fabrication of air-isolated crossovers, pat. № 1 393 937, Великобритания Кл. МКИ H 05 3/12. published 14 may. 1975.
- Wisbey P. H. Монтаж полупроводникового прибора. Патент США, кл. 333−34М, № 3 857 115 опубл. 24.12.74.
- Аико Хидзаки, Харамаса Хироси, Токуда Киммити, Мацусита Дэнки Санте к.к. Способ сборки микросхем. Пат. 58−4823, Япония, заявка 5.08.75 № 50−95 706 опубл. 27.01.83 МКИ Н01 23/52.
- Sandbank С. P., Mcklown P. S.A. New interconnection techniques for multichip and hybrid integrated circuits. // Proceedings of the IEEE, December, 1964, vol. 11, p. 1655−1657.
- Темнов A. M. Силин P. А., Михальченков А. Г. Гибридно-монолитные интегральные приборы СВЧ. Конструирование и технология изготовления. М.: ЦНИИ «Электроника», 1987.
- Крахмальник Ф. Н. Способ изготовления микрошлифов спаев материалов с различной твердостью. // Электронная техника. Сер. 1. Электроника СВЧ. 1982. — Вып. 8. -С. 63.
- Выморков Н. В., Климачев И. И., Ковтунов А. Д., Силин Р. А. Анализ вклада различных участков сечения проводников микрополосковой линии на величину коэффициента затухания // Электронная техника, сер. Электроника СВЧ, 1987. Вып. 3 (397). С. 40 -46.
- ВыморковH. В., Климачев И. И., Ковтунова А. Д., Силин Р. А. Влияние формы проводника полосковой линии на коэффициент затухания // Электронная техника, сер. Электроника СВЧ, 1988. Вып. 4 (408).
- Klimachev I. Optimum microstrip structure for microwave non-flux HIC assembly //European Hybrid microelectronics Conference // Rotterdam, The Netherlands, May 28 -31, 1991.
- Кондрашенков Ю. А. и др. Унификация технологических процессов очистки подложек, формирование функциональных слоев нанесения полимерных покрытий, используемых в производстве ГИС и микросборка. //Техн. отчет № 128−7633, 1986.
- Плетюхин А. П., Григорьев А. Н., Селезнева Т. Ф. Состав для химической очистки микрополосковых плат от остатков флюсов и продуктов их взаимодействия с металлами. // Электронная техника. Электроника СВЧ. 1989. — Вып. 4 (418). С. 61 -63.
- Комов В. А., Шарикова И. С., Ипполитова Л. А. Очистка деталей СВЧ-изделий в гибридном исполнении в азеотропных смесях растворителей // Электронная техника. Сер. 1. Электроника СВЧ. 1987. — Вып. 3 (397). С. 3 -8.
- Мужиченко О. Г., Колешко В. М., Дударчик А. И. Влияние плазмохимической очистки деталей на качество ультразвуковой микросварки // Автоматическая сварка. — 1983. Вып. 4 (361). С. 52 -54.
- Свечников С. А., Коеенко В. Е., Климачев И. И. способ изготовления СВЧ микросхем. Заявка 4 423 089/24−21 (71 384). 29 июня 1983. М кл. 9 Н05КЗ/00.
- Klimachev I. Technology of fabrication of microwave HIC with high reliability metallized holes, 1991 Japan IEMT Symposium, Tokyo, 26 -28 June, 1991
- Климачев И. И. Разработка унифицированной технологии металлизации отверстий в микрополосковых платах, совместимой с технологией формирования топологии схем. Т. № 6080, шифр «Сегмент 8Т-1», 1986.
- Климачев И. И., Коробкин В. А. Способ изготовления ГИС СВЧ диапазона с воздушной изоляцией межсоединений. А. с. № 4 493 481, 10.10.1988.
- Исследование и разработка формирования соединительных перемычек в мостах Лан-ге групповыми методами // Климачев И. И., Коробкин В. А. Техн. отчет № 213−8003 по темам №№ 3550 и 5910.
- BN5−7339−0481-X, УДК539.216:539.234:621.315.5.
- Jonson R.W., Davidson J. Z., Jaeger R. C., Kerns D. V., Jr. Hybrid silicon wafer-seale packaging technology. IEEEE Int. Solid state Ciruits Conf. Dig., Feb. 1986 — p. 166 — 167.
- Положительное решение о выдаче патента РФ на изобретение от 5.11.1996 г. по заявке № 5 057 130/09 (36 453). Корпус мощного СВЧ полупроводникового прибора. Климачев И. И., Иовдальский В. А., Цикин А. В., Лапин В. Г., Коробкин В. А.
- Положительное решение о выдаче патента РФ на изобретение от 5.11.1996 г. по заявке № 5 056 217/09 (35 906). Корпус мощного СВЧ полупроводникового прибора. Климачев И. И., Иовдальский В.А.
- Коробкин В. А., Климачев И. И. Исследование и разработка групповой технологии монтажа навесных элементов // Техн. отчет № 125−8457 по т. 3280 шифр «Ока», 1988, 32 с.
- Рыжик Э. И., Садчикова Т. П., Климачев И. И. и др. Разработка двух входных усилительных модулей с коэффициентом усиления 20 и 30 дБ в диапазоне 10,15. 13,6 ГГц с защитными устройствами // Техн. отчет по теме 8240, 1984.
- Ровенский Г. В., Виноградов В. Г., Климачев И. И. и др. Разработка двух входных усилительных модулей с коэффициентом шума 10 дБ, с коэффициентом усиления 20 и 30 дБ в диапазоне 12. 18 ГГц с защитным устройством // Техн. отчет по теме 8680, 1985.
- Родионов А. Д., Лисицын А. А., Климачев И. И. и др. Отработка технологии и конструкции приемного СВЧ-модуля «Ода -Ф» применительно к условиям серийного производства. Техн. отчет по теме «Сегмент-ПРМ», 1986.
- Белуга И. Ш., Хоменко В. М., Чурсин А. Г. О решении двумерных задач электростатики методом интегральных уравнений. Кн.: машинное проектирование устройств и систем СВЧ: Межвуз. сб. трудов МИРЭА. М., 1979 г.
- Шульга Н. В. Программа расчета характеристик собственных типов волн волноводов с неоднородным слоистым ферродиэлектрическим заполнением // Электронная техника. Сер. 1., Электроника СВЧ. 1981. — Вып.2 (326). — С. 66 — 67.
- Силин 3. А., Чурзин А. Ф., Шульга Н. В. Программа расчета характеристик собственных типов волн волноводов со слоистым ферродиэлектрическим заполнением // Электронная техника. Сер. 1., Электроника СВЧ. 1979. — Вып.8. — С. 125 — 127.
- Ramo S., Winnery I. R., Durez Т. Yan. Fields and wave in communication electronics. — London. Sydney. 1967.