Динамика поверхностных процессов в условиях молекулярно-пучковой эпитаксии соединений A3 B5
Научная новизна работы определяется тем, что в ней впервые: на основе предложенной качественной модели выявлен характер влияния многоуровневой кристаллизации на форму кривых осцилляций ДБЭопределены зависимости уровня шероховатости поверхности ваАз (001) от условий эпитаксиального ростапредсказано и обнаружено существование промежуточного состояния поверхности СаАБ (001) с реконструкцией (2×1… Читать ещё >
Содержание
- Глава I.
- Исследование поверхности полупроводников
- А3В5 при выращивании их методом МПЭ /
- 1. 1. Свойства (001) — ориентированной поверхности ваАэ и других полупроводников А3В
- I. 1.1. Поверхностные фазовые диаграммы. /Ц
- 1. 1. 2. Результаты исследования структуры реконструированной поверхности. !
- 1. 2. Использование дифракции быстрых электронов на отражение для исследования поверхности полупроводников А3В
- 1. 2. 1. Осцилляции интенсивности ДБЭ. 26″
- 1. 2. 2. Анализ структуры растущей поверхности в условиях МПЭ
- 1. 2. 3. Исследования шероховатости поверхности ваАз (001)
- 1. 3. Термодинамические факторы в МПЭ
- 1. 3. 1. Применимость термодинамического подхода в условиях МПЭ
- 1. 3. 2. Термическое травление полупроводников А3 В в вакууме. 35″
- 1. 3. 3. Образование жидкой фазы на поверхности полупроводников А3В5. «
- 1. 4. Выводы 4О
- 11. 1. Конструктивные и функциональные особенности установки МПЭ ЭП1203. ?/
- II.
- 1. 1. Структура установки ЭП1203. ?/
- II.
- 1. 2. Особенности контроля температуры поверхности подложки полупроводника в установке ЭП
- 11. 2. Методики подготовки, контроля состояния поверхности и калибровки потоков основных компонент, базирующиеся на ДБЭ
- II.
- 2. 1. Система регистрации интенсивности рефлексов ДБЭ
- 11. 2. 2. Предварительная подготовка поверхности полупроводника перед загрузкой в установку МПЭ, контроль качества подготовки с помощью ДБЭ
- 11. 2. 3. Удаление окисного слоя с поверхности подложки ваАз (001)
- 11. 2. 4. Калибровка потоков ва и А1 по осцилляциям зеркального рефлекса ДБЭ
- 11. 2. 5. Калибровка потока Ав4. 65»
- 11. 2. 6. Калибровка температуры подложки, коррекция температурного сдвига при выращивании буферного слоя
- 11. 3. Выводы
- 111. 1. Исследование многоуровневой кристаллизации в процессе эпитаксиального роста AIAs (001) методом МПЭ
- III.
- 1. 1. Модель многоуровневой кристаллизации в условиях роста методом МПЭ. 73 III
- 1. 2. Многоуровневая кристаллизация слоев AlAs на поверхности GaAs (001)
- 111. 2. Исследование шероховатости поверхности
- III.
- 2. 1. Экспериментальная процедура. S
- II. 1.2.2 Сравнение зависимости интенсивности дифракции от температуры в статических условиях и в процессе эпитаксиального роста
- II. 1.2.3 Зависимость уровня шероховатости поверхности от начальной реконструкции в процессе эпитаксиального роста
- II. 1.3.1 Промежуточные стадии структурного перехода с (4×4)+Х2×4) на поверхности GaAs (001)
- III. 3.2 Модель поверхностной структуры с реконструкцией (2×1)
- 111. 4. Выводы №
- IV. 1 Термодинамическая модель роста и испарения кристалла в условиях МПЭ
- IV.
- 1. 1. Гэтерогенное равновесие «пар-кристалл» на поверхности тройных твёрдых растворов А3ХВ31. ХС5. IV
- 1. 2. Гэтерогенное равновесие «пар-жидкость» на поверхности тройных твёрдых растворов А3ХВ31. ХС5. IV
- 1. 3. Баланс масс на поверхности растущего кристалла. IV.1.4 Верификация термодинамической модели: расчёт скорости роста СаАз (001)
- IV. 2 Термическое травление полупроводников А3В5 в вакууме
- IV.
- 2. 1. Термическое травление бинарных соединений. IV
- 2. 2. Термическое травление баАв. IV.2.3 Термическое травление 1пАв. IV.2.4 Термическое травление тройных соединений
IV.3 Образование жидкой фазы на поверхности тройных соединений полупроводников А^В^С в процессе роста методом МПЭ. 12,3 IV.3.1 Определение границы образования жидкой фазы на поверхности тройных соединений А^В^.хС5- ^
IV
3.2 Учёт вклада упругих напряжений. 12? IV.3.3 Расчёт границы образования жидкой фазы для АЮаАв.
IV.3.4 Расчёт границы образования жидкой фазы для ненапряжённых (релаксированных) слоёв /пСаАв. /
IV
3.5 Влияние упругих напряжений на образование избыточной жидкой фазы в случае напряжённых слоёв /пСаАэ. /3 ?
N.4
Выводы /4/
Список литературы
- A.Y.Cho and J.R.Arthur, Molecular beam epitaxy, Progr. in Solid State Chem., 1975, V.10, p.157−191.
- B.A.Joyce and C.T.Foxon, Growth and doping kinetics in molecular beam epitaxy, Jap.J.Appl.Phys., 1977, V.16,Suppl.16−1, p.17−23.
- C.T.Foxon and B.A.Joyce, Fundumental aspects of molecular beam epitaxy, In: Current Topics in Material Science, Ed. E. Kaldis, North-Holland, Amsterdam, 1981, V.7.N.4, p.1−68.
- Ploog K., Molecular beam epitaxy of lll-V compounds: technology and growth process, Ann.Rev.Mater.Sci., 1981, N.11, p.171−210.
- A.Y.Cho, Twenty years of molecular beam epitaxy, Proc. of Vlll-th Intern. Conf. on Molecular Beam Epitaxy, Toyonaka, Osaka, Japan, 29 Aug.-2 Sept. 1994, Part I, Sect. 1, p. 1−7.
- W.T.Tsang, C. Weisbuch, R.C.Miller, and R. Dingle, Current Injection GaAs-AlxGa^As multi-quantum well heterostructure lasers prepared by molecular beam epitaxy, Appl.Phys.Lett., 1979, V.35, N.9, p.679−675.
- A.Y.Cho and H.C.Casey (Jr), GaAs-AIGaAs double-heterostructure lasers prepared by molecular beam epitaxy, Appl.Phys.Lett., 1974, V.25, N.5, p.288−290.
- P. S.Kop'ev, SCH lasers using short period superlattices, Surf.Sci., 1990, V.228, N.1−3, p.514−519.
- T.Hayakawa, K. Matsumoto, M. Morishima, M. Nagai, H. Horie, Y. lshigame, A. lsoyama and Y. Niwata, High power AIGaAs quantum well laser diodes prepared by molecular beam epitaxy, Appl.Phys.Lett., 1993, V.63, N.13, p. 1718−1720.
- V.P.Chaly, D.M.Demidov, G.A.Fokin, S.Yu.Karpov, V.E.Myachin, Yu.V.Pogorelsky, I.Yu.Rusanovich, A.P.Shkurko, A.L.Ter-Martirosyan, Use of molecular beam epitaxy for high-power AIGaAs laser production, J. of Crystal Growth, 1995, V. 150, p. 1350−1353.
- C.Y.Chen, A.Y.Cho, K.Y.Cheng, T.P.Pearsall, P. OXonnor, IEEE Electron.Dev.Lett., 1982, V. ED2−3, p. 152.
- M.B.Panish, Molecular beam epitaxy of GaAs and InAs with gas sources for As and P, J.EIectrochem.Soc., 1980, V.127, N.12, p.2729−2733.
- S.M.Newstead, R.A.A.Kubiak and E.H.C.Parker, On the practical application of MBE surface phase diagrams, J.Cryst. Growth, 1987, V.81, N.1−4, p.49−54.
- P.Drathen, W. Ranke, K. Jacobi, Composition and structure of differently prepared GaAs (100) surfaces studied by LEED and AES, Surface Sci., 1978, V.77, p. L162.
- C.T.Foxon, B.A.Joyce, Interaction kinetics of As2 and Ga on (100) GaAs surface, Surface Sci., 1977, V.64, p.293−304.
- J.Y.Tsao, T.M.Brennan, J.F.KIem, B.E.Hammons, surface-stoichiometry dependence of As2 desorption and As4 «reflection» from GaAs (001), J.Vac.Sci.Technol.A, 1989, V.7(3), p.2138−2142.
- M.Hata, A. Watanabe and T. lsu, Surface diffusion length observed by in situ scanning microprobe reflection high-energy electron diffraction, J.Cryst.Growth, 1991, V.111.N.1−4, p.83−87.
- P.J.Dobson, B.A.Joyce, J.H.Neave, Current understanding and applications of the RHEED intensity oscillation technique, J. of Crystal Growth, 1987, V.81, p. 1−8.
- J.Massies, F. Turco and J.P.Contour, Surface segregation and growth interface roughening in AIGaAs, Semicond.Sci.Technol, 1987, V.2, N.3, p. 179 181.
- L.Daweritz and R. Hey, Reconstruction and defect structure of vicinal GaAs (001) and AIGaAs (001) surface during MBE growth, Surf.Sci., 1990, V.236, N.1−3, p. 15−22.
- D.K.Biegelsen, R.D.Bringans, J.E.Northrup and L.-E.Swartz, Surface reconstructions of GaAs (100) observed by scanning tunneling microscopy, Phys.Rev.B., 1990, V.41, N.9, p.5701−5706.
- J.N.Billargeon, K.Y.Cheng, K.C.Hsieh, Surface structure of (100) GaP by gas source molecular beam epitaxy, Appl.Phys.Lett, 1990, V.56, N.22, p.2201−2203.
- Y.Nomura, M. Mannoh, M. Naritsuka, K. Yamanaka, T. Ynasa and M. lshii, Effect of group V/lll flux ratio on lightly Si-doped AIGaAs growth by molecular beam epitaxy, J.EIectrochem.Soc., 1984, V.131, N.11, p.2630−2633.
- G.W.Turner and S.J.Eglash, Application of frequency-domain analysis to RHEED oscillation data: time dependence of AIGaAs growth rates, J.Cryst.Growth, 1991, V.111, N.1−4, p.105−109.
- E.M.Gibson, C.T.Foxon, J. Zhang and B.A.Joyce. Gallium desorbtion from GaAs, (AI, Ga) As during molecular beam epitaxy growth at high temperatures, Appl.Phys.Lett., 1990, V.57, N.12, p.1203−1205.
- A.M.Dabrian and P.I.Cohen, Surface reconstruction and growth mode transitions of AIAs (100), Proc. of Vlll-th Intern. Conf. on Molecular Beam Epitaxy, Toyonaka, Osaka, Japan, 29 Aug.- 2 Sept. 1994, Part I.Sect.1, P.23−28.
- M.D.Pashley, K.W.Haberern, W. Friday, J.M.Woodall, P.d.Kirchner, Structure of GaAs (001) (2×4)-c (2×8) Determined by Scanning Tunneling Microscopy, Phys. Rev. Letters, 1988, V.60, N.21, p.2176−2179.
- Ф.И.Чо, Выращивание методом молекулярно-лучевой эпитаксии и свойства полупроводников А3В5, Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры, гл. 6, под.ред. Л. Ченга и К. Плога,"Мир", 1989, стр.161−188.
- У.Менх, МЛЭ и исследования поверхности, Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры, гл. 4, под. ред. Л. Ченга и К. Плога, «Мир» 1989, стр. 93−126.
- C.Deparis, J. Massies, Surface stoichiometry variation associated with GaAs (001) reconstructions, J. Crystal Growth, 1991, V.108, p.157−168.
- D.J.Chadi, Atomic structure of GaAs (100)-(2×1) and (2×4) reconstructed surfaces, J. Vac.Sci.Technol.A, 1987, V.5, N.4, p.834−837.
- J.R.Arthur, Surface stoichiometry and structure of GaAs, Surf.Sci., 1974, V.43, N.2, p.449−461.
- J.Y.Tsao, T.M.Brennan and P.E.Hammons, Reflection mass-spectrometry of As incorporation during GaAs molecular beam epitaxy, Appl.Phys.Lett., 1988, V.53, N.4, p.288−290.
- Y.-W.Mo, B.S.Swartzentruber, R. Kariotis, M.B.Webb and M.G.Lagally, Growth and equilibrium structures in the epitaxy of Si on Si (001), Phys.Rev.Lett., 1989, V.63, N.21, p.2393−2396.
- D.Dijkkamp, A.J.Hoeven, E.J. van Loenen, J.M.Lenssinck and J. Dieleman, Morphology and distribution of atomic steps on Si (001) studied with scanning tunneling microscopy, Appl.Phys.Lett., 1990, V.56, N.1, p.39−41.
- J.J.Harris, B.A.Joyce and P.J.Dobson, Oscillation in the surface structure of Sn-doped GaAs during growth by MBE, Surf. Sci, 1981, V.103, N.1, p. L90-L96.
- J.M. Van Hove, P.R.Pukite, G.J.Whaley, A.M.Wowchak, P.I.Cohen, Summary abstract: layer-by-layer evaporation of GaAs (001), J. of Vacuum Science and Technology, 1985, V.3, N.4, p.1116−1117.
- B.A.Joyce, J.H.Neave, J. Zhang, D.D.Vvedensky, S. Clarke, K.J.Hugill, T. Shitara and A.K.Myers-Beaghton, Growth of lll-V compounds on vicinal planes by molecular beam epitaxy, Simicond.Sci.Technol., 1990, V.5, N.8, p.1147−1154.
- H.Munekata, L.L.Chang, S.C.Woronick and Y.H.Kao, Lattice relaxation of InAs heteroepitaxy on GaAs, J.Cryat.Growth, 1987, V.81, N.1−4, p.237−242.
- B.W.Liang, C.W.Tu, A study of group-V desorption from GaAs and GaP by reflection high-energy electron diffraction in gas source molecular beam epitaxy, J. of Appl.Phys., 1992, V.72, N.7, p.2806−2809.
- B.W.Liang, C.W.Tu, A study of group-V element desorption from InAs, InP, GaAs, and GaP by reflection high-energy electron diffraction, J. of Crystal Growth, 1993, V.128, p.538−542.
- H.Yamaguchi, Y. Horikoshi, Influence of surface reconstruction on the As desorption process from a (001) GaAs surface evaluated by improved high-energy electron-reflectivity measurements, Phys.Rev.B, 1991, V.44, N.11, p.5897−5900.
- H.Yamaguchi, Y. Horikoshi, As desorption from GaAs and AlAs surfaces studied by improved high-energy electron reflectivity measurements, J.Appl.Phys., 1992, V.71, N.4, p.1753−1759.
- J.M. Van Hove, C.S.Lent, P.R.Pukite, and P.I.Cohen, Damped oscillations in reflection high energy electron diffraction during GaAs MBE, J.Vac.Sci.Technol.В, 1983, V.1, N.3, p.741−746.
- R.AItsinger, H. Busch, M. Horn, M. Henzler, Nucleation and growth during molecular beam epitaxy of Si on Si (111), Surface Science, 1988, V.200, N.2/3, p.235−246.
- М.Хенцлер, Электронная дифракция и дефекты поверхности, в книге Применение электронной спектроскопии для анализа поверхности, под ред. Х. Ибаха, Рига «Зинатне», 1980.
- C.S.Lent, P.I.Cohen, Diffraction from stepped surfaces, Surface Science, 1984, V.139, p.121−154.
- Чернов А.А. и др., Современная кристаллография, «Наука», Москва, 1980, т. З, стр.25−33.
- P.Chen, A. Modhukar, J.Y.Kim and T.C.Lee, Existence of metastable step density distributions on GaAs (100) surface and their consequence for molecular beam epitaxy growth, Appl.Phys.Lett., 1986, V.48, N.10, p.650−652.
- F.Briones, D. Golmayo, L. Gonzalez and J.L.deMiguel, Surface stoichiometry and morphology of MBE growth (001)GaAs through the analysis of RHEED oscillations, Jap.J.Appl.Phys., 1985, V.24, N.6,p.L478-L480.
- J.H.Neave, B.A.Joyce and P.A.Dobson, Dynamic RHEED observation of MBE growth of GaAs, Appl.Phys.A., 1984, V.34, N.3, p.179−184.
- F.Briones, D. Golmayo, L. Gonsalez and A. Ruiz, Phase-locked oscillations during MBE growth of GaAs and AIGaAs, J.Cryst.Growth, 1987, V.81, N.1−4, p. 19−25.
- P.H.Petroff, Second IUPAP/UNESCO Semiconductor Symp., Trieste, p.192.
- R.Heckingbottom etal., J.EIectrohem.Soc., 1980, V.127, p.444.
- Р.Хекингботтом, Применение термодинамики для описания процесса молекулярно-лучевой эпитаксии, Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры, гл. З, под. ред. Л. Ченга и К. Плога, «Мир» 1989, стр 65−92.
- J.R.Arthur, T.R.Brown, Velocity distributions of As2 & As4, scattered from GaAs, J.Vac.Soc.Technol., 1975, V.12, N.1, p.200−203.
- B.Goldstein, Diffusion in compound semiconductors, Phys.Rev. 1961, V.121, N.5, p.1305−1311.
- H.Seki, A. Koukitu, Thermodynamic analysis of molecular beam epitaxy of lll-V semiconductors, J. of Crystal Growth, 1986, V.78, p.342−352.
- J.-y. Shen, Ch. Chatillon, Thermodynamic calculations of congruent vaporization in lll-V systems: applications to the In-As, Ga-As and Ga-ln-As systems, J. of Crystal Growth, 1990, V.106, p.543−552.
- J.-y. Shen, Ch. Chatillon, Thermodynamic analysis of molecular beam epitaxy of lll-V compounds: applications to the GalnAs multilayer epitaxy, J. of Crystal Growth 1990, V.106, p.553−565.
- П.С.Копьёв, H.H.Леденцов, Молекулярно-пучковая эпитаксия гетероструктур на основе соединений AIIIBV, ФТП, 1988, т.22, N.10, стр. 1729−1741.
- S.Yu.Karpov, Yu.V.Kovalchuk, V.E.Myachin and Yu.V.Pogorelskii, Instability of lll-V compound surfaces due to liquid phase formation, J. of Crystal Growth, 1993, v. 129, p.563−570.
- H.Tanaka, M. Mushiage, MBE as a production technology for AIGaAs lasers, J.Cryst.Growth, 1991, V.111, p. 1043 1046.
- J.Y.Tsao, Phase equilibria during InSb molecular beam epitaxy, J. Crystal Growth, 1991, V. 110, p.595.
- S.V.Ivanov, P. S.Kop'ev and N.N.Ledentsov, Thermodinamic analysis of segregation effects in MBE of A"'-Bv compounds, J.Cryst. Growth, 1991, V.111, p.151−161.
- C.Chatillon, J.C.Harmand and F. Alexandre, Thermodynamic analysis of GaAs growth by molecular beam epitaxy at the surface structure transition from 3×1 to 4×2, J.Cryst. Growth, 1993, V.130, p.451−458.
- B.F.Lewis, R. Fernandes, A. Madhucar, F.I.Grunthaner, Arsenic-induced intencity oscillation in reflection high-energy electron diffraction measurements, J. Vacuum Sci. Technol. B, 1986, V.4, N.2, p.560−563.
- W.I.Schafer, M.D.Lind, S.P.Kowalczyk and R.W.Grant, Nucleation and strain relaxation at the lnAs/GaAs (100) heterojunotion, J. Vacuum Sci. Technol. B, 1983, V.1, N.8, p.688−695.
- J.C.Harmand, F. Alexandre and J. Beerens, Determination de la pression d’arsenic minimale pour l’epitaxie par jets moleculaires de Ga^InyAs/GaAs et Ga^AIxAs, Revue Phys.Appl., 1987, V.22, p.821−825.
- MBE 32 system: Instruction manual N 608 350 22 G, ISA RIBER. France, 1988, p.96.
- N.Chand, MBE growth of High-Quality GaAs, J.Cryst.Growth, 1989, V.97, N.1−4, p.415−429.
- П.С.Копьев, Г. М. Минчев, Б. Я. Бер и Б. Я. Мельцер, Эффективный способ подготовки подложек для молекулярно-пучковой эпитаксии, Письма в ЖТФ, 1981, Т.7, В. 19, стр. 1209−1213.
- K.Akimoto, M. Dohsen, M. Arai, N. Watanabe, J. of Crystal Growth, 1985, V.73, p. 117.
- D.G.Schlom, W.S.Lee, T. Ma, J.S.Harris, Jr., J.Vacuum. Sci B, 1987, V.7, p.296.
- S.Yu.Karpov, V.E.Myachin, Yu.V.Pogorelsky, Time-resolved reflection high energy electron diffraction study of dynamical surfece processes duringmolecular beam epitaxy of GaAs and AlAs, J. of Crystal Growth, 1995, V.146, p.344−348.
- N.Grandjean, J. Massies, Epitaxial growth of highly strained InGaAs on GaAs (001): the role of surface diffusion length, J. of Crystal Growth, 1993, V.134, p.51.
- J.P.A. van der Wagt, K.L.Bacher, G.S.Solomon and J.S.Harris (Jr). Geometrical growth rate nonuniformity effects on reflection high energy electron diffraction signal intensity decay, J.Vac.Sci.Technol.B, 1992, V.10, N.2, p.825−828.
- F.J.Lamelas, P.H.Fuoss,. D.W.Kisker, G.B.Stephenson, P. lmperatori and S. Brennan, X-ray scattering of surface structures produced by vapcJiir-phase epitaxy of GaAs, Phys.Rev. B, 1994, V.49, N.3, p.1957−1965.
- T.Ohno, Energetics of As dimers on GaAs (001) As-rich surfaces, Phys.Rev.Lett., 1993, V.70, N.5, p.631−634.
- M.D.Pashley, Electron counting model and its application to island structures on molecular beam epitaxy growth GaAs (001) and ZnSe (001), Phys.Rev.B, 1989, V.40, N.15, p. 10 481−10 487.
- A.S.Jordan, Activity coefficients for a regular multicomponent solution, J.Electrochem.Soc., 1972, V.119, N.1, p.123−124.
- J.R.Arthur, Vapour pressures and phase equilibriua in the Ga-As system, J.Phys.Chem.Sotids, 1967, V.28, N.11, p.2257−2267.
- K.R.Evans, C.E.Stutz, D.K.Lorance and R.L.Jones, Cation incorporation rate limitations in molecular beam epitaxy: effects of strain and surface composition, J.Vac.Sci.Technol.B, 1989, V.7, N.2, p.259−263.
- A.J.SpringThorpe, P. Mandeville, Mass spectrometry during molecular-beam epitaxy: An alternative to reflection high-energy electron diffraction, J.Vac.Sci.Technol B, 1988, V.6, N.2, p.754−757.
- T.Kaneko, H. Asahi, S. Gonda, Theoretical consideration of the growth kinetics for GaAs and GaSb, J. of Crystal Growth, 1992, V.120, p.39−44,
- AZunder and D.M.Wood, J. of Crystal Growth, 1989, V.98, p.1.
- K.lshida, H. Tokunaga, H. Ohtani and T. Nishizawa, J. of Crystal Growth, 1989, V.98, p. 140.
- T.M.Brennan, J.Y.Tsao, B.E.Hammons, Reactive sticking of As4 during molecular beam homoepitaxy of GaAs, AlAs, and InAs, J.Vac.Sci.Technol. A, 1992, V.10, N.1, p.33−45.
- O.Madelung, M. SchuIz and H. Weiss, Eds., Numerical Data and Functional Relationships in Science and Technology, V.17A, Springer, Berlin, 1982.
- Основные материалы диссертации опубликованы в следующихработах:
- А.Н.Алексеев, С. Ю. Карпов, Термическое травление поверхности GaAs (100) в вакууме, Письма в ЖТФ, 1994, т.20, вып. 14, стр.57−61.
- A.N.AIexeev, S.Yu.Karpov, Conditions of excess liquid phase formation during molecular beam epitaxy of lll-V ternary compounds, J. of Crystal Growth, 1996, V.162, p.15−24.
- A.N.AIexeev, S.Yu.Karpov, M.A.Maiorov, V.E.Myachin, Yu.V.Pogorelsky, I.A.Sokolov, Thermal etching of binary and ternary lll-V compounds under vacuum condition, J. of Crystal Growth, 1996, V.166, p.167−171.
- A.N.AIexeev, S.Yu.Karpov, Yu.V.Pogorelsky, I.A.Sokolov, RHEED study of c (4×4)-«(2×4) transition on GaAs (001) surface, J. of Crystal Growth, 1996, V.166, p.72−77.
- А.Н.Алексеев, С. Ю. Карпов, М. А. Майоров, В. В. Кораблёв, Влияние многоуровневой кристаллизации на осцилляции интенсивности дифрагированных быстрых электронов при росте арсенида алюминия из молекулярных пучков, Письма в ЖТФ, 1997, т.23, N.8, стр.31−36.